ST11194 Bersaglio rotante al manganese, bersaglio Mn

Descrizione del target rotante al manganese, Mn

Il target rotante al manganese, Mn Target, è stato progettato per applicazioni di sputtering, sfruttando il manganese di elevata purezza per produrre film sottili uniformi. La composizione chimica controllata del target e il design personalizzato supportano un'erosione stabile durante lo sputtering, con conseguente spessore preciso del film ed emissione minima di particolato. La sua struttura è ottimizzata per l'integrazione con i sistemi di sputtering standard, soddisfacendo i requisiti tecnici dei processi di deposizione avanzati.

Target rotante al manganese, caratteristiche del target Mn

*Le informazioni sul prodotto di cui sopra si basano su dati teorici e sono solo di riferimento. Le specifiche effettive possono variare.

Bersaglio rotante al manganese, bersaglio Mn Applicazioni

Elettronica e lavorazione dei semiconduttori
- Utilizzo come sorgente di sputtering nei sistemi di deposizione dei semiconduttori per ottenere una copertura uniforme del film di manganese utilizzando la sua composizione controllata e le sue dimensioni personalizzate.

Rivestimenti industriali
- Applicato come target di deposizione nei processi di rivestimento per produrre strati resistenti all'usura, risolvendo i problemi di attrito superficiale grazie alle sue caratteristiche di erosione stabile.

Bersaglio rotante al manganese, imballaggio del bersaglio Mn

Il bersaglio rotante al manganese, bersaglio Mn, è confezionato in contenitori antistatici sigillati con imbottitura in schiuma per ridurre al minimo gli shock meccanici e prevenire la contaminazione. La confezione comprende un involucro protettivo inerte sulla superficie del bersaglio ed è etichettata con le istruzioni di conservazione. I prodotti sono mantenuti a temperatura e umidità controllate per preservare le proprietà del materiale. Sono disponibili opzioni di imballaggio personalizzate per soddisfare requisiti logistici specifici.

Informazioni aggiuntive

Il manganese rimane un materiale importante nei processi di deposizione grazie alle sue caratteristiche chimiche uniche e al suo comportamento nella formazione di film sottili. La purezza controllata del manganese è fondamentale nelle applicazioni che richiedono la minimizzazione delle impurità e una maggiore uniformità del film.

Nelle applicazioni di sputtering, le proprietà del manganese, come il punto di fusione e la densità, influenzano le dinamiche di deposizione e i tassi di erosione. La comprensione di queste proprietà aiuta gli ingegneri a ottimizzare i parametri di processo, garantendo la compatibilità con vari substrati e apparecchiature di lavorazione e supportando le esigenze della ricerca e della produzione industriale.