ST11190 Target di sputtering planare all'indio, In Target

Descrizione del target di sputtering planare all'indio, In Target

Il target planare di sputtering all'indio, target In, è un target di sputtering a base di indio utilizzato nei sistemi di deposizione al plasma. È prodotto con indio (In) di elevata purezza per ridurre al minimo le impurità durante la formazione del film. Le dimensioni personalizzabili consentono l'integrazione in varie camere di deposizione, garantendo un'erosione uniforme del target e un'uniformità costante del film. Il suo design planare migliora la riproducibilità del processo nella produzione di semiconduttori e optoelettronica.

Target di sputtering planare all'indio, Caratteristiche del target

Le informazioni sul prodotto sopra riportate si basano su dati teorici e sono solo di riferimento. Le specifiche effettive possono variare.

Target di sputtering planare all'indio, in applicazioni target

Elettronica
- Utilizzato come sorgente di sputtering nei sistemi di deposizione di semiconduttori per ottenere film sottili uniformi sfruttando le sue dimensioni personalizzabili.
- Applicato come target nella produzione di display per migliorare la qualità e l'omogeneità dell'interfaccia del film.

Industriale
- Serve come materiale elettrodico nei sensori a film sottile per migliorare la consistenza del segnale elettrico, utilizzando l'indio di elevata purezza.
- Viene spesso utilizzato nella produzione di celle solari per depositare film conduttivi trasparenti, sfruttando il suo design planare su misura.

Commerciale
- Impiegato nei processi di rivestimento ottico per fornire strati omogenei di film, migliorando così le prestazioni dei dispositivi grazie a tassi di deposizione controllati.

Target di sputtering planare all'indio, in confezione target

Il target è confezionato in un ambiente antistatico e privo di polvere, utilizzando contenitori rigidi e sigillati per evitare contaminazioni e danni meccanici. Per mantenere un ambiente stabile, vengono incorporati materiali protettivi in schiuma ed essiccanti. Per le applicazioni che richiedono condizioni di conservazione particolari sono disponibili opzioni di confezionamento personalizzate, tra cui contenitori sigillati sottovuoto ed etichettatura precisa.

Informazioni aggiuntive

L'indio è un metallo morbido e duttile che svolge un ruolo fondamentale nella tecnologia di deposizione a film sottile. Il suo basso punto di fusione e l'elevata purezza lo rendono adatto ai contatti elettrici e ai rivestimenti speciali. Il design planare dei bersagli di sputtering migliora l'uniformità durante la deposizione, che è fondamentale per le applicazioni elettroniche e optoelettroniche avanzate.

La comprensione delle caratteristiche del materiale dell'indio aiuta a ottimizzare le condizioni di deposizione e a ottenere proprietà precise del film. In ambienti di ricerca e industriali, la caratterizzazione dettagliata del comportamento del materiale in condizioni di sputtering assicura che i bersagli funzionino in modo coerente, facilitando il miglioramento del controllo dei processi e delle prestazioni dei dispositivi.