ST11188 Bersaglio rotante in ferro, bersaglio Fe

Descrizione del target rotante in ferro, Fe Target

Il bersaglio rotante di ferro, bersaglio di Fe, è un bersaglio di sputtering composto da ferro (Fe) di elevata purezza e prodotto secondo specifiche dimensionali rigorose. Il suo design personalizzabile garantisce la compatibilità con i diversi sistemi di sputtering utilizzati nelle industrie dei semiconduttori e dei rivestimenti. La composizione controllata riduce al minimo i livelli di impurità, garantendo una deposizione uniforme del film. SAM impiega un rigoroso controllo di qualità spettrometrico per monitorare l'uniformità del materiale, che è fondamentale per le applicazioni che richiedono uno spessore preciso dello strato e una densità minima di difetti.

Bersaglio rotante di ferro, caratteristiche del bersaglio Fe

*Le informazioni di cui sopra si basano su dati teorici e sono solo di riferimento. Le specifiche effettive possono variare.

Obiettivo rotante di ferro, applicazioni dell'obiettivo di Fe

Elettronica
- Utilizzato come target di deposizione nei sistemi di sputtering per la fabbricazione di dispositivi a semiconduttore per ottenere uno spessore costante del film sfruttando la purezza controllata del materiale.

Industria
- Applicato come materiale di partenza per rivestimenti protettivi su componenti strutturali per migliorare la resistenza alla corrosione utilizzando dimensioni personalizzabili e composizione uniforme.

Energia
- Serve come bersaglio per la fabbricazione di nuclei magnetici in dispositivi di conversione energetica per migliorare le prestazioni magnetiche sfruttando le caratteristiche di deposizione stabile del ferro.

Bersaglio rotante di ferro, imballaggio del bersaglio Fe

Il target rotante di ferro, Fe Target, è confezionato in contenitori antistatici e resistenti all'umidità con inserti rivestiti di schiuma per evitare danni durante il trasporto e lo stoccaggio. L'involucro protettivo in polietilene riduce al minimo l'ossidazione e la contaminazione da particolato. L'imballaggio garantisce che il target rimanga in un ambiente controllato e sono disponibili opzioni per l'imballaggio personalizzato, tra cui l'etichettatura e la suddivisione in compartimenti, per soddisfare requisiti di manipolazione specifici.

Informazioni aggiuntive

I target di ferro sono componenti critici nei sistemi di deposizione sputtering, dove la purezza del materiale e l'accuratezza dimensionale hanno un impatto diretto sulle proprietà del film. Il rilascio controllato di atomi da un bersaglio di ferro garantisce strati di rivestimento uniformi e una ridotta formazione di difetti nei film sottili.

La comprensione dell'interazione tra le caratteristiche del materiale e i parametri di deposizione è essenziale per ottimizzare i processi di sputtering. I progressi delle tecniche di produzione consentono un controllo preciso delle proprietà del target, favorendo così prestazioni migliori nella produzione di semiconduttori e nelle applicazioni di rivestimento industriale.