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ST11183 Bersaglio rotante di rame e gallio, bersaglio CuGa

Catalogo no. ST11183
Composizione Cu, Ga
La purezza ≥99,99%, o personalizzato
Forma Obiettivo
Forma Tubolare
Dimensioni Personalizzato

Il target rotante di rame e gallio, CuGa Target, è prodotto utilizzando una lega di rame e gallio con una composizione accuratamente controllata per applicazioni di sputtering. Stanford Advanced Materials (SAM) impiega tecniche avanzate di fusione e forgiatura rotativa, combinate con valutazioni quantitative spettroscopiche e di imaging per verificare l'uniformità della composizione e l'integrità della superficie. Il processo di controllo della qualità si basa su analisi di routine al microscopio elettronico a scansione, per garantire la consistenza del materiale. Queste metodologie supportano un preciso comportamento di erosione del bersaglio e condizioni di plasma stabili durante le procedure di deposizione.

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FAQ

In che modo la composizione della lega rame-gallio influisce sulle prestazioni della deposizione sputtering?

La composizione controllata della lega aiuta a mantenere tassi di erosione costanti e una distribuzione uniforme del plasma durante la deposizione. Questa coerenza è fondamentale per ottenere uno spessore uniforme del film nelle applicazioni di sputtering.

Quali metodi di controllo della qualità vengono utilizzati durante la produzione di questo obiettivo?

Il processo di produzione comprende analisi spettroscopiche e microscopia elettronica a scansione per garantire l'uniformità della lega e la qualità della superficie. Queste tecniche monitorano l'accuratezza compositiva e la microstruttura per supportare prestazioni di sputtering stabili.

È possibile personalizzare le dimensioni del target per specifici sistemi di sputtering?

Sì, il target è disponibile in dimensioni personalizzate per allinearsi ai requisiti specifici della camera di deposizione sputter, garantendo una corretta integrazione e l'efficienza della deposizione.

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