ST11181 Bersaglio di sputtering cromo-alluminio, bersaglio CrAl

Descrizione del target di sputtering cromo-alluminio, CrAl Target

Il target di sputtering cromo-alluminio, CrAl Target, è composto da una lega di cromo-alluminio accuratamente bilanciata e ottimizzata per i processi di deposizione di film sottili. La microstruttura ingegnerizzata del target favorisce la crescita costante e l'uniformità del film su vari substrati. La composizione controllata della lega è fondamentale per mantenere tassi di deposizione e proprietà del film riproducibili nella produzione di semiconduttori e display. Questo prodotto soddisfa gli elevati standard richiesti dai sistemi di sputtering industriali.

Target di sputtering cromo-alluminio, caratteristiche del target CrAl

*Le informazioni di cui sopra si basano su dati teorici e sono solo di riferimento. Le specifiche effettive possono variare.

Bersaglio di cromo-alluminio per sputtering, applicazioni del bersaglio CrAl

Elettronica
- Utilizzato come target di sputtering nei sistemi di deposizione dei semiconduttori per ottenere film metallici sottili e uniformi, sfruttando la composizione coerente della lega.

Industria
- Applicato come fonte di rivestimento nei processi di produzione per migliorare le proprietà superficiali sfruttando la sua microstruttura stabile e il suo comportamento di deposizione prevedibile.

Componenti ottici
- Serve come materiale per depositare rivestimenti riflettenti e conduttivi su dispositivi ottici per mettere a punto le proprietà riflettenti con uno spessore controllato del film.

Target di cromo-alluminio per sputtering, imballaggio del target CrAl

Il target è confezionato in un contenitore antistatico rivestito di schiuma e sigillato in un sacchetto sottovuoto per proteggerlo dagli urti meccanici e dalla contaminazione durante il trasporto. Si raccomanda di conservare il target in un ambiente asciutto e a temperatura controllata, lontano da umidità e polvere. Sono disponibili ulteriori personalizzazioni, tra cui strati barriera ed etichette personalizzate, per soddisfare requisiti specifici di manipolazione e conservazione.

Informazioni aggiuntive

I target sputtering svolgono un ruolo fondamentale nei processi di deposizione di film sottili in diversi settori industriali. Il controllo preciso della composizione del materiale facilita la produzione di film con spessore uniforme e maggiore adesione. Questi target sono componenti fondamentali in processi come la fabbricazione di semiconduttori e il rivestimento ottico, dove la coerenza del materiale è fondamentale.

I progressi nelle tecniche di produzione dei target hanno contribuito a migliorare le prestazioni dei sistemi di deposizione. La comprensione dell'interazione tra le proprietà del materiale e il comportamento dello sputtering aiuta gli ingegneri a ottimizzare i parametri di deposizione, portando al perfezionamento delle caratteristiche del film e al miglioramento delle prestazioni del dispositivo. Questo contesto più ampio supporta la continua innovazione nella lavorazione dei materiali e nella progettazione delle applicazioni.