ST11180 Bersaglio planare al cromo, bersaglio al Cr

Descrizione del bersaglio planare al cromo, bersaglio al Cr

Il bersaglio planare al cromo, bersaglio Cr, è una sorgente di sputtering realizzata in metallo di cromo di elevata purezza. È stato progettato per essere utilizzato nei processi di deposizione fisica da vapore per formare film sottili uniformi. La configurazione planare supporta la produzione di materiale uniforme e il controllo preciso dello spessore del film. Le sue dimensioni personalizzate consentono la compatibilità con le apparecchiature di sputtering standard, mantenendo una superficie di deposizione liscia e una composizione stabile degli elementi, fondamentale per le applicazioni di semiconduttori e rivestimenti ottici.

Target planare al cromo, caratteristiche del target al cromo

*Le informazioni sul prodotto sopra riportate si basano su dati teorici e sono solo di riferimento. Le specifiche effettive possono variare.

Target planare al cromo, target al Cr Applicazioni

Produzione di elettronica e semiconduttori
- Utilizzato come sorgente di metallo nei sistemi di sputtering per formare strati conduttivi nei circuiti integrati sfruttando la composizione costante del target.
- Applicato come materiale di deposizione nella produzione di schermi piatti per ottenere una copertura uniforme del film e ridurre l'interferenza del particolato.

Rivestimenti superficiali industriali
- Serve come elemento di rivestimento di componenti meccanici per fornire uno strato metallico protettivo, sfruttando le proprietà stabili del materiale.
- Utilizzato come fonte nei sistemi di rivestimento decorativo per produrre pellicole di cromo uniformi e aderenti sui prodotti di consumo.

Bersaglio planare al cromo, imballaggio del bersaglio al cromo

Il target viene confezionato in un ambiente pulito e privo di cariche elettrostatiche, utilizzando un involucro anti-contaminazione. È sigillato in contenitori su misura, resistenti all'umidità e dotati di un'imbottitura protettiva che riduce al minimo i danni da movimentazione. Le istruzioni per la conservazione sottolineano la necessità di un ambiente a temperatura controllata e di un'esposizione minima alla polvere o alle particelle sospese nell'aria. Sono disponibili opzioni di confezionamento personalizzate, tra cui unità etichettate e compartimentate, per soddisfare requisiti logistici specifici.

Informazioni aggiuntive

I target di sputtering a base di cromo sono da tempo utilizzati in ambienti che richiedono la deposizione controllata di film sottili. Le loro proprietà, tra cui l'elevato punto di fusione e la moderata resistività elettrica, li rendono adatti ad applicazioni in cui la stabilità termica e meccanica sono essenziali.

La comprensione delle condizioni di lavorazione e della morfologia del bersaglio gioca un ruolo significativo nelle prestazioni complessive dei sistemi di deposizione fisica da vapore. La continua ricerca nella scienza dei materiali contribuisce a perfezionare questi target per rispondere alle sfide ingegneristiche avanzate nella produzione di semiconduttori e nei processi di rivestimento industriale.