ST11177 Bersaglio rotante al cobalto, bersaglio Co

Descrizione del bersaglio rotante di cobalto

Il target rotante di cobalto è un target di sputtering in cobalto (Co) di elevata purezza progettato per i processi di deposizione fisica da vapore. Il meccanismo rotante del target favorisce un'erosione uniforme, migliorando così l'uniformità del film sui substrati. La sua specifica in dimensioni personalizzate supporta la compatibilità con diversi sistemi di deposizione. La microstruttura e la composizione chimica controllate garantiscono prestazioni costanti nelle applicazioni di produzione in cui la deposizione precisa di film sottili è fondamentale.

Bersaglio rotante di cobalto, caratteristiche del bersaglio Co

*Le informazioni di cui sopra si basano su dati teorici e sono solo di riferimento. Le specifiche effettive possono variare.

Bersaglio rotante di cobalto, applicazioni del bersaglio Co

Produzione elettronica
- Utilizzato come target di sputtering nella produzione di semiconduttori per ottenere una deposizione uniforme di film sottile sfruttando le caratteristiche di erosione definite del cobalto.

Processi industriali
- Applicato come bersaglio catodico nei sistemi di rivestimento progettati per creare strati resistenti all'usura sfruttando il comportamento prevedibile del materiale in fase di sputtering.
- Serve come componente nelle configurazioni di sputtering magnetronico, dove l'erosione costante del target contribuisce a controllare lo spessore del film e a migliorare le prestazioni del dispositivo.

Target rotante di cobalto, imballaggio del target Co

Il target è confezionato in materiali antistatici e barriera contro l'umidità per evitare la contaminazione. È sigillato in contenitori imbottiti di gas inerte per evitare l'ossidazione e i danni meccanici. Le condizioni di conservazione richiedono un basso livello di umidità e di controllo della temperatura. Sono disponibili soluzioni di imballaggio personalizzate, compresi inserti in schiuma ed etichettature specifiche, per rispondere a requisiti di movimentazione e transito unici.

Informazioni aggiuntive

I target di sputtering sono componenti critici nella deposizione fisica da vapore, dove l'uniformità del materiale e l'erosione prevedibile hanno un impatto diretto sulla qualità del film. Il cobalto, con le sue proprietà fisiche e chimiche definite, è ampiamente utilizzato nelle applicazioni che richiedono rivestimenti durevoli e coerenti. Il design rotante migliora ulteriormente l'efficienza del target, distribuendo il carico di sputtering in modo uniforme sulla superficie.

I recenti progressi nella tecnologia di deposizione continuano a perfezionare l'uso di target metallici come il cobalto, promuovendo una migliore adesione e uniformità del film nelle applicazioni di semiconduttori ed elettronica. La comprensione dell'interazione tra proprietà dei materiali e parametri di processo è essenziale per ottimizzare i risultati della deposizione e consentire innovazioni tecnologiche in diversi settori industriali.