ST11176 Bersaglio planare di cobalto, bersaglio Co

Descrizione del target planare di cobalto, target Co

Il target planare di cobalto, Co Target, è prodotto in cobalto elementare (Co) con dimensioni personalizzate per soddisfare i diversi requisiti dei sistemi di sputtering. Il target è progettato per promuovere la distribuzione uniforme del plasma e la deposizione costante del film. La sua composizione chimica controllata e le sue proprietà fisiche riducono al minimo la generazione di particolato durante lo sputtering, garantendo la costanza delle prestazioni nelle applicazioni di lavorazione dei semiconduttori e dei rivestimenti.

Target cobalto planare, caratteristiche del target Co

Le informazioni sul prodotto sopra riportate si basano su dati teorici e sono solo di riferimento. Le specifiche effettive possono variare.

Bersaglio planare di cobalto, applicazioni del bersaglio Co

1.Elettronica
- Utilizzato come target di sputtering nella deposizione di semiconduttori per ottenere una formazione uniforme del film sfruttando la composizione controllata del cobalto.
- Applicato nella fabbricazione di dispositivi di memorizzazione magnetica per ottenere proprietà magnetiche costanti attraverso un controllo preciso dello spessore del rivestimento.

2.Industriale
- Impiegato in sistemi di rivestimento per strati resistenti all'usura per migliorare la durata della superficie sfruttando l'elevato punto di fusione del cobalto.
- Utilizzato come componente di filtri a film sottile per sistemi ottici per ottenere un controllo preciso della densità e prestazioni migliori.

3.Automotive
- Utilizzato nella deposizione di rivestimenti decorativi su componenti interni per garantire un aspetto e un'adesione uniformi grazie all'utilizzo di una composizione target coerente.

Target cobalto planare, imballaggio del target Co

Il target viene confezionato con materiali antistatici e resistenti all'umidità e inserito in un contenitore rigido che assorbe gli urti. La pellicola protettiva e gli inserti in schiuma impediscono la contaminazione da particolato e i danni meccanici. L'imballaggio è progettato per essere conservato in un ambiente controllato, in modo da non alterare le proprietà del materiale. Su richiesta sono disponibili opzioni di confezionamento personalizzate, tra cui l'etichettatura e i contenitori a scomparti.

Informazioni aggiuntive

I target di sputtering al cobalto svolgono un ruolo fondamentale nelle tecnologie di deposizione di film sottili utilizzate nella microelettronica e nell'ingegneria delle superfici. La lavorazione controllata del cobalto in bersagli planari è essenziale per mantenere un ambiente di plasma stabile durante lo sputtering, che è fondamentale per ottenere un'uniformità del film di alta qualità.

I progressi nella scienza dei materiali e nelle tecnologie di lavorazione precisa hanno permesso la produzione di target con tolleranze dimensionali e compositive rigorose. Questi miglioramenti consentono di migliorare le prestazioni nelle applicazioni che richiedono alta precisione ed efficienza, contribuendo al successo operativo nei settori dei semiconduttori, dell'industria e dell'automobile.