ST11175 Bersaglio planare al cerio e magnesio, bersaglio CeMg

Descrizione del bersaglio planare di cerio e magnesio, CeMg Target

Il target planare di cerio e magnesio, CeMg Target, è un target di sputtering composto da una lega di cerio e magnesio accuratamente bilanciata. Il suo design planare facilita la deposizione coerente di film nei processi sotto vuoto, garantendo una distribuzione uniforme del materiale. La composizione controllata supporta caratteristiche specifiche del film, essenziali per applicazioni elettroniche, ottiche e di rivestimento avanzate, rendendolo un materiale funzionale per la ricerca e le configurazioni industriali di sputtering.

Target planare di cerio e magnesio, caratteristiche del target CeMg

*Le informazioni sul prodotto di cui sopra si basano su dati teorici e sono solo di riferimento. Le specifiche effettive possono variare.

Obiettivo planare di cerio e magnesio, applicazioni dell'obiettivo CeMg

Elettronica
- Utilizzato come target di sputtering nella deposizione di film sottili di semiconduttori per ottenere uno spessore uniforme del film sfruttando la composizione coerente della lega.
- Applicato come sorgente di deposizione nella fabbricazione di dispositivi optoelettronici per migliorare l'uniformità del film sfruttando la sua composizione chimica controllata.

Industriale
- Impiegato come target di rivestimento nei trattamenti superficiali antiusura per migliorare l'uniformità del processo sfruttando la sua stabile struttura di lega.
- Integrato in sistemi di rivestimento a gradiente per componenti ottici per ottimizzare i tassi di deposizione e la qualità del film in base alle sue precise proprietà materiali.

Ricerca scientifica
- Utilizzato nelle configurazioni sperimentali per gli studi sui film sottili per produrre strutture di film controllate sfruttando la sua esatta composizione.
- Applicato in ambienti di prova per analizzare le dinamiche di sputtering e la cinetica di crescita dei film, beneficiando del suo design planare uniforme.

Target planare di cerio e magnesio, imballaggio del target CeMg

Il target planare di cerio e magnesio è confezionato in materiali antistatici e resistenti alla corrosione, con imbottitura in schiuma all'interno di contenitori sigillati per prevenire la contaminazione e i danni meccanici. I target sono conservati a temperatura controllata e in condizioni di bassa umidità. È possibile fornire opzioni di confezionamento personalizzate, tra cui design sigillati sottovuoto ed etichettatura specializzata, per soddisfare requisiti di manipolazione specifici.

Informazioni aggiuntive

I target sputtering come il target CeMg svolgono un ruolo cruciale nei processi di deposizione di film sottili in diversi settori industriali. La composizione controllata della lega consente di ottenere caratteristiche precise del film, che è fondamentale per le applicazioni nell'elettronica e nell'ottica. La ricerca si concentra spesso sull'interazione tra le proprietà del materiale e i parametri di deposizione per ottimizzare le prestazioni.

La selezione dei target di sputtering si basa su specifiche tecniche dettagliate che garantiscono la compatibilità con i sistemi ad alto vuoto e le apparecchiature di deposizione. Test approfonditi, tra cui il monitoraggio in situ e l'analisi post-deposizione, aiutano a convalidare le prestazioni dei materiali e a guidare i miglioramenti dei processi in ambienti di produzione avanzati.