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ST11174 Target planare al solfuro di cadmio, target CdS

Catalogo no. ST11174
Composizione CdS
La purezza ≥99,99%, o personalizzato
Forma Obiettivo
Forma Rettangolare
Dimensioni Personalizzato

Il target planare di solfuro di cadmio, CdS Target, è progettato utilizzando tecniche di deposizione precise per produrre una superficie uniforme e planare per applicazioni di sputtering. Stanford Advanced Materials (SAM) impiega controlli sistematici del processo, tra cui la diffrazione a raggi X e la microscopia ottica per la valutazione della superficie. Il processo di produzione enfatizza la coerenza della composizione e dello spessore, assicurando che il target soddisfi le rigorose specifiche per i processi di fabbricazione dei semiconduttori.

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FAQ

In che modo l'uniformità planare del target di CdS influisce sulla deposizione sputtering?

Una superficie planare uniforme garantisce una resa uniforme dello sputtering su tutto il target, con conseguente uniformità dello spessore del film sui substrati. Questa uniformità riduce la variabilità del processo e migliora la riproducibilità dei dispositivi durante la produzione di semiconduttori.

Quali tecniche analitiche vengono utilizzate per verificare la composizione del CdS e la qualità della superficie?

Tecniche come la diffrazione di raggi X, la microscopia ottica e l'analisi spettroscopica sono utilizzate per valutare la composizione delle fasi e l'uniformità della superficie. Queste misure aiutano a mantenere precise le caratteristiche del materiale critiche per le applicazioni di sputtering.

Il target può essere adattato a diverse configurazioni del sistema di sputtering?

Sì, il target è prodotto con dimensioni personalizzabili per adattarsi ai vari requisiti della camera di sputtering. È possibile apportare modifiche alle dimensioni e alle caratteristiche di montaggio per ottimizzare la compatibilità con specifiche apparecchiature di lavorazione dei semiconduttori. Per ulteriori dettagli, contattateci.

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