ST11173 Target di sputtering al fosfato di sodio, target Na3PO4

Target di sputtering al fosfato di sodio, Na3PO4 Descrizione del target

Il target di sputtering al fosfato di sodio, Na3PO4, è composto da Na3PO4 di elevata purezza in forma di target adatto ai processi di sputtering. La composizione chimica uniforme del materiale supporta tassi di deposizione e proprietà del film coerenti. La sua produzione prevede controlli di processo rigorosi, che assicurano impurità e difetti minimi, fondamentali per le applicazioni che richiedono film sottili uniformi nella produzione di semiconduttori e dispositivi ottici.

Target di fosfato di sodio per sputtering, Na3PO4 Caratteristiche del target

*Le informazioni sul prodotto di cui sopra si basano su dati teorici e sono solo di riferimento. Le specifiche effettive possono variare.

Target di sputtering al fosfato di sodio, target Na3PO4 Applicazioni

Produzione di elettronica e display
- Utilizzato come materiale target nella deposizione di film sottili per pannelli di visualizzazione per ottenere un rivestimento uniforme e ad alta integrità sfruttando la sua stabilità chimica.
- Applicato nella fabbricazione di film conduttivi trasparenti, dove la composizione controllata garantisce proprietà ottiche ed elettriche costanti.

Rivestimenti industriali e sensori
- Impiegato come target di sputtering reattivo nella produzione di sensori per ottenere strati di film funzionali sfruttando la sua microstruttura controllata.
- Viene spesso utilizzato nei processi di rivestimento protettivo, dove l'inerzia chimica supporta la durata del film a lungo termine sotto le sollecitazioni operative.

Target di sputtering al fosfato di sodio, imballaggio del target Na3PO4

Il target è imballato in modo sicuro in un involucro antistatico e resistente all'umidità, con materiali ammortizzanti per evitare danni meccanici durante il trasporto. Le linee guida per lo stoccaggio includono un ambiente a temperatura e umidità controllate per mantenere l'integrità del materiale. Le opzioni di confezionamento possono essere personalizzate con sigillature o etichettature aggiuntive per soddisfare i requisiti specifici del laboratorio o della produzione.

Informazioni aggiuntive

I target per lo sputtering di fosfato di sodio sono componenti critici nella deposizione di film sottili, dove l'uniformità precisa del film dipende fortemente dalla purezza e dalla microstruttura del target. Il processo di sputtering stesso si basa sul mantenimento di un ambiente di plasma stabile e i materiali con caratteristiche chimiche coerenti garantiscono cicli di deposizione ripetibili.

Nel contesto più ampio della scienza dei materiali, la comprensione della relazione tra composizione chimica e proprietà del film è essenziale. La ricerca continua a perfezionare le formulazioni dei target per ottimizzare l'efficienza dello sputtering, ridurre la generazione di particolato e migliorare le prestazioni complessive del film nei dispositivi elettronici e ottici avanzati.