ST11169 Bersaglio planare in alluminio cromo titanio vanadio, bersaglio AlCrTiV

Target planare in alluminio cromo titanio vanadio, AlCrTiV Target Descrizione

Il target planare in alluminio, cromo, titanio e vanadio, AlCrTiV Target è un target di sputtering fabbricato da una lega di alluminio con aggiunte controllate di cromo, titanio e vanadio. Gli elementi di lega sono ottimizzati per migliorare l'uniformità di deposizione del film, rendendolo compatibile con i sistemi di sputtering industriali e per semiconduttori. Il suo design planare facilita la copertura uniforme e l'erosione costante del bersaglio, garantendo risultati di deposizione riproducibili in ambienti di lavorazione controllati.

Target planare in alluminio, cromo, titanio e vanadio, caratteristiche del target AlCrTiV

*Le informazioni sui prodotti di cui sopra si basano su dati teorici e sono solo di riferimento. Le specifiche effettive possono variare.

Obiettivo planare in alluminio cromo titanio vanadio, obiettivo AlCrTiV Applicazioni

1.
Elettronica
- Utilizzato come target di sputtering nella fabbricazione di dispositivi a semiconduttore per ottenere una metallizzazione uniforme del film sottile sfruttando la sua microstruttura controllata.
- Applicato come mezzo di deposizione nei sistemi di rivestimento della microelettronica per ottenere uno spessore e un'adesione costanti del film.

2.
Rivestimenti industriali
- Serve come bersaglio di sputtering nei processi industriali per depositare film di leghe di alluminio resistenti all'usura, migliorando la durata della superficie grazie a un preciso controllo della composizione.
- Viene spesso utilizzato per applicazioni di rivestimento di parti di macchinari per migliorare la durezza superficiale e ridurre l'attrito, sfruttando il suo design planare.

3.
Ricerca e sviluppo
- Utilizzato negli esperimenti di sputtering di R&S per studiare le caratteristiche di deposizione delle leghe, sfruttando le dimensioni personalizzabili e la composizione uniforme.
- Utilizzato come bersaglio modello nella ricerca sulla scienza dei materiali per valutare le dinamiche di formazione del film e il comportamento di erosione del bersaglio.

Target planare in alluminio, cromo, titanio e vanadio, confezione del target AlCrTiV

Il target è confezionato in contenitori antistatici per camera bianca con imbottitura in schiuma per evitare danni meccanici e contaminazione. È sigillato in un imballaggio in atmosfera inerte per ridurre al minimo l'ossidazione durante lo stoccaggio. Le condizioni di stoccaggio adeguate includono un ambiente fresco e asciutto, lontano dalla luce solare diretta. Su richiesta sono disponibili opzioni di confezionamento personalizzate, come un ulteriore assorbimento degli urti e un'etichettatura specifica.

Informazioni aggiuntive

I target di sputtering realizzati con leghe di alluminio complesse svolgono un ruolo fondamentale nei processi di deposizione di film sottili. Il controllo preciso della composizione della lega influenza direttamente la microstruttura e le proprietà funzionali del film, rendendoli essenziali per le applicazioni ad alte prestazioni nell'elettronica e nei rivestimenti industriali.

La comprensione dell'interazione tra elementi di lega e dinamiche di sputtering è fondamentale per la ricerca sulla scienza dei materiali. Questi obiettivi forniscono una piattaforma per esplorare la cinetica di deposizione e ottimizzare le caratteristiche della superficie, per migliorare le applicazioni nella produzione di semiconduttori e nell'ingegneria dei materiali.