ST11167 Bersaglio rotante in alluminio, bersaglio Al

Descrizione del target rotante in alluminio, Al Target

Il target rotante in alluminio, Al Target, è prodotto con alluminio di elevata purezza destinato ai sistemi di deposizione sputtering. Il design rotante del target facilita l'erosione uniforme e l'utilizzo del materiale durante il processo di sputtering. Le sue dimensioni personalizzate garantiscono la compatibilità con diverse camere di deposizione, ottimizzando l'uniformità del film sottile. Le proprietà del materiale, tra cui la struttura a grani controllati e il punto di fusione definito, supportano prestazioni stabili nei processi che richiedono una vaporizzazione precisa del metallo.

Target rotante in alluminio, caratteristiche del target Al

Le informazioni sul prodotto sopra riportate si basano su dati teorici e sono solo di riferimento. Le specifiche effettive possono variare.

Target rotante in alluminio, Al Target Applicazioni

Elettronica e lavorazione dei semiconduttori
- Utilizzato come target di sputtering nella deposizione di semiconduttori per ottenere rivestimenti uniformi a film sottile sfruttando la composizione controllata del materiale.
- Applicato come sorgente metallica nei sistemi PVD per depositare strati conduttivi, favorendo lo sviluppo di circuiti microelettronici.

Rivestimento industriale e trattamento delle superfici
- Utilizzato come componente di rivestimento nei sistemi di trattamento delle superfici per migliorare l'adesione e l'uniformità del film grazie al suo design rotante che migliora la distribuzione del materiale.
- Serve come base per rivestimenti decorativi e protettivi su componenti industriali, garantendo l'uniformità del film grazie alla personalizzazione dimensionale.

Target rotante in alluminio, imballaggio del target Al

Il target rotante in alluminio, Al Target, è confezionato con materiali antistatici e resistenti all'umidità. È fissato in contenitori sigillati e rivestiti di schiuma per ridurre l'impatto meccanico e la contaminazione. Per ridurre al minimo l'ossidazione, si consiglia di conservarlo in un ambiente controllato e a bassa umidità. Il design dell'imballaggio facilita la personalizzazione in base alle dimensioni del target e ai requisiti di spedizione. Ogni confezione è chiaramente etichettata per garantire la corretta manipolazione e la tracciabilità durante il trasporto.

Informazioni aggiuntive

I target di sputtering in alluminio hanno un ruolo fondamentale nei sistemi di deposizione fisica da vapore, in quanto forniscono la materia prima per la formazione di film sottili in vari settori industriali. Le proprietà dell'alluminio, come il suo punto di fusione definito e la sua densità costante, hanno un impatto diretto sull'efficienza dei processi di deposizione, influenzando la qualità e l'uniformità dei film risultanti.

La comprensione degli aspetti metallurgici dell'alluminio, compreso il suo comportamento di affinamento dei grani e la stabilità compositiva, è essenziale per ottimizzare le applicazioni di sputtering. I progressi scientifici nella caratterizzazione dei materiali continuano a migliorare l'affidabilità dei target di alluminio, supportandone l'uso in ambienti produttivi sempre più sofisticati.