ST11166 Target planare in alluminio, target Al

Descrizione del target planare in alluminio, Al Target

Il target planare in alluminio, Al Target, è un target di sputtering in alluminio prodotto con un controllo rigoroso delle dimensioni planari e della finitura superficiale. Le dimensioni personalizzate garantiscono la compatibilità con un'ampia gamma di sistemi di deposizione, mentre l'alluminio di elevata purezza riduce al minimo le inclusioni che potrebbero influire sull'uniformità del film. Questo prodotto è stato progettato per ottimizzare le prestazioni di sputtering nelle applicazioni di rivestimento di semiconduttori e ottiche.

Target planare in alluminio, caratteristiche del target Al

*Le informazioni sul prodotto di cui sopra si basano su dati teorici e sono solo di riferimento. Le specifiche effettive possono variare.

Target planare in alluminio, Al Target Applicazioni

Elettronica
- Utilizzato come target di sputtering nella produzione di semiconduttori per ottenere film sottili uniformi sfruttando la sua superficie planare controllata.
- Applicato come sorgente di deposizione nei processi microelettronici per mantenere l'uniformità e lo spessore precisi del film.

Industriale
- Impiegato nel settore fotovoltaico come target di sputtering per ottenere rivestimenti uniformi su grandi superfici grazie alle sue proprietà controllate del materiale.
- Utilizzato nei sistemi di rivestimento ottico per fornire uno strato di alluminio uniforme, risolvendo i problemi di deposizione irregolare e migliorando le prestazioni dei componenti.

Target planare in alluminio, imballaggio del target Al

Il target planare in alluminio è imballato in una confezione protettiva antistatica e fissato con un'imbottitura in schiuma per attenuare gli urti fisici e prevenire la contaminazione. Si consiglia di conservarlo in un ambiente asciutto e a temperatura controllata per mantenere l'integrità della superficie. Sono disponibili opzioni di confezionamento personalizzate, tra cui buste richiudibili ed etichettatura con marchio, per soddisfare requisiti specifici di movimentazione e logistica.

Informazioni aggiuntive

I target di sputtering in alluminio svolgono un ruolo fondamentale nei processi di deposizione di film sottili in diversi settori industriali. La superficie planare controllata e le dimensioni personalizzate consentono una formazione precisa degli strati e una migliore uniformità di copertura, fondamentale per le applicazioni elettroniche e ottiche. Le tecniche di lavorazione dei materiali e di controllo della qualità, come la microscopia elettronica e la verifica dimensionale, assicurano che il prodotto soddisfi gli standard tecnici più esigenti.

La comprensione dell'interazione tra purezza del materiale e prestazioni di deposizione è essenziale. Le tecniche avanzate di lavorazione e purificazione riducono al minimo il rischio di difetti durante la lavorazione, migliorando così la qualità del film. Questa visione più ampia della scienza dei materiali sottolinea l'importanza di controlli di produzione rigorosi per ottenere prestazioni ottimali per i target di sputtering di alluminio.