SI11491 Serbatoio di pulizia in quarzo fuso con cestello per wafer

Serbatoio di pulizia al quarzo fuso con cestello per wafer Descrizione

Il serbatoio di pulizia al quarzo fuso con cestello per wafer utilizza quarzo fuso di elevata purezza, essenzialmente SiO₂, apprezzato per la sua inerzia chimica e la bassa espansione termica. Questo design supporta la pulizia dei wafer sensibili alla contaminazione alloggiando in modo sicuro un cestello lavorato con precisione, mantenendo così l'integrità del substrato durante i processi di pulizia aggressivi. Le proprietà del materiale contribuiscono direttamente a ridurre i tassi di difettosità nella produzione di semiconduttori.

I cestelli per la pulizia dei wafer in vetro di quarzo sono contenitori o serbatoi perforati realizzati in vetro di quarzo di elevata purezza con una specifica struttura reticolare. Sono progettati per contenere in modo sicuro più wafer di silicio durante i processi di pulizia ad alta temperatura con soluzioni chimiche altamente corrosive, come acido fluoridrico (HF), acqua regia, SC-1, SC-2 o acqua deionizzata ad alta temperatura.

La struttura ottimizzata garantisce un'esposizione completa e un flusso uniforme dei prodotti chimici di pulizia intorno a ciascun wafer, consentendo prestazioni di pulizia costanti, approfondite e affidabili e mantenendo un'eccellente stabilità termica e chimica.

Serbatoio di pulizia al quarzo fuso con cestello per wafer Caratteristiche

*Le informazioni sul prodotto sopra riportate si basano su dati teorici e sono solo di riferimento. Le specifiche effettive possono variare.

Serbatoio di pulizia al quarzo fuso con cestello per wafer Applicazioni

1.Elettronica - Trattamento dei semiconduttori
- Utilizzato come componente di pulizia nei sistemi di lavorazione dei wafer per ottenere una contaminazione particellare minima sfruttando l'inerzia chimica del quarzo fuso.
- Applicato come modulo di pulizia integrale per mantenere la qualità del substrato durante i trattamenti chimici aggressivi.

2.Apparecchiature di laboratorio
- Serve come camera di pulizia controllata in ambienti di ricerca dove la purezza del materiale è fondamentale per evitare la contaminazione.
- Viene spesso utilizzato per processi di pulizia chimica in cui la natura non reattiva del quarzo fuso preserva l'integrità del campione.

Serbatoio per la pulizia del quarzo fuso con imballaggio a cestello Wafer

Il serbatoio di pulizia al quarzo fuso con cestello per wafer è imballato in modo sicuro in una cassa progettata su misura con imbottitura antistatica e pellicola inerte resistente all'umidità. Il sistema di imballaggio incorpora inserti di schiuma protettiva per attenuare l'impatto meccanico e lo stress termico durante il trasporto e lo stoccaggio. Le istruzioni per lo stoccaggio in ambiente controllato preservano l'integrità del materiale. Sono disponibili opzioni di etichettatura e imbottitura personalizzate per soddisfare i requisiti specifici di gestione del laboratorio.

Informazioni aggiuntive

Il quarzo fuso, composto prevalentemente da biossido di silicio (SiO₂), presenta un'eccezionale inerzia chimica e stabilità termica, che lo rendono uno dei materiali preferiti per la pulizia di precisione e la lavorazione dei semiconduttori. Il suo basso coefficiente di espansione termica contribuisce a migliorare la stabilità del processo in ambienti con frequenti fluttuazioni di temperatura.

Nella produzione di semiconduttori e nei laboratori, il mantenimento di rigorosi controlli sulla contaminazione è fondamentale. Le proprietà del quarzo fuso, combinate con le pratiche di ingegneria di precisione, supportano le applicazioni di pulizia critiche in cui anche una minima interferenza di particelle può compromettere le prestazioni del prodotto.