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  • FE10669 Bersaglio di ferro silicio boro (bersaglio FeSiB)

    • FE10669 Bersaglio di ferro silicio boro (bersaglio FeSiB)

    Catalogo no. FE10669
    Composizione Fe, Si, B
    Dimensioni Personalizzato
    Forma Obiettivo

    Il target ferro-silicio-boro (target FeSiB) è un target in ferro-lega a base di ferro con aggiunte controllate di silicio e boro che ne ottimizzano le caratteristiche di deposizione. Stanford Advanced Materials (SAM) impiega metodi spettroscopici ad alta risoluzione durante il monitoraggio del processo di sputtering per garantire una distribuzione uniforme della composizione. L'analisi microstrutturale dettagliata e le misure di emissione in situ verificano la coerenza del target. Questo controllo sistematico della qualità riduce al minimo le variazioni, supportando la produzione di film sottili precisi per la ricerca e le applicazioni industriali.

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    FAQ

    In che modo le aggiunte di silicio e boro influiscono sulle prestazioni di sputtering del target?

    L'inclusione di silicio e boro nella matrice di ferro affina la microstruttura e modifica le proprietà di adesione del film durante lo sputtering. Questi elementi possono migliorare l'uniformità dell'erosione del bersaglio e controllare la velocità di deposizione, a tutto vantaggio dell'ottenimento di strati uniformi di film sottile sui substrati.

    Quali metodi di controllo della qualità vengono applicati durante la produzione dell'obiettivo?

    SAM utilizza la spettroscopia di emissione ottica in situ e l'analisi microstrutturale post-produzione per monitorare la consistenza della lega. Queste tecniche aiutano a rilevare precocemente le variazioni di composizione, garantendo che ogni target mantenga l'omogeneità richiesta, essenziale per prestazioni di deposizione ripetibili.

    La composizione del target può essere regolata per processi di deposizione specifici?

    Sì, la composizione della lega può essere personalizzata per soddisfare particolari requisiti di processo. I clienti possono richiedere modifiche ai livelli di silicio o boro per ottimizzare parametri quali la velocità di deposizione e l'uniformità del film. Contattateci per ulteriori dettagli sulla personalizzazione e per il supporto tecnico.

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