CY9442 Substrato di alluminio a cristallo singolo (110), 10x10x1 mm, SSP

Substrato di alluminio a cristallo singolo (110), 10x10x1 mm, SSP Descrizione

Il substrato di alluminio a cristallo singolo (110), 10x10x1 mm, SSP è un wafer di alluminio monocristallino con orientamento cristallografico definito (110) e dimensioni di 10 mm per 10 mm per 1 mm. La sua struttura uniforme riduce al minimo le irregolarità dei bordi dei grani e la densità dei difetti. Questo substrato supporta la fabbricazione di dispositivi sperimentali e l'analisi delle superfici, offrendo una piattaforma stabile per la crescita epitassiale e gli studi sulla modifica dei materiali.

Substrato di alluminio a cristallo singolo (110), 10x10x1 mm, Applicazioni SSP

1. Applicazioni elettroniche
- Utilizzato come substrato portante nell'assemblaggio di semiconduttori per ottenere una deposizione stabile del film sfruttando la sua cristallinità uniforme.
- Applicato come base conduttiva nei circuiti integrati per garantire un comportamento elettrico costante grazie all'orientamento controllato dei grani.

2. Applicazioni industriali
- Impiegato come campione di prova nei sistemi di caratterizzazione dei materiali per valutare le modifiche superficiali grazie alla sua struttura omogenea.
- Utilizzato in setup di ricerca per indagini sulla gestione termica per valutare le proprietà di trasferimento del calore inerenti alle sue dimensioni e alla sua composizione.

Substrato di alluminio a cristallo singolo (110), 10x10x1 mm, imballaggio SSP

Il substrato è sigillato singolarmente in una busta antistatica e imbottito di schiuma stampata per ridurre al minimo gli shock meccanici e la contaminazione. È conservato in un compartimento a bassa umidità e temperatura regolata per preservarne l'integrità superficiale e le proprietà cristallografiche. I rivestimenti antigraffio e i contenitori sigillati proteggono ulteriormente il prodotto durante il trasporto. Le opzioni di confezionamento possono essere personalizzate con etichettature e compartimenti specifici per la lavorazione in lotti.

Domande frequenti

Q1: In che modo l'orientamento (110) influenza i processi di deposizione?
A1: L'orientamento (110) fornisce un piano cristallografico specifico che aiuta a controllare la crescita dello strato epitassiale. Questo piano definito semplifica l'allineamento durante la deposizione, garantendo uno sviluppo uniforme del film nelle applicazioni di ricerca e produzione.

D2: Quali misure di controllo della qualità vengono utilizzate durante la produzione?
A2: Il processo di produzione incorpora la microscopia elettronica e le valutazioni dell'uniformità del reticolo in diverse fasi. Queste valutazioni identificano e minimizzano i difetti, assicurando che il substrato soddisfi i requisiti dettagliati per gli studi accademici e industriali.

D3: Quali sono le condizioni di conservazione consigliate?
A3: Il substrato deve essere conservato in un ambiente a bassa umidità e temperatura controllata, con un imballaggio antistatico e imbottito. Queste condizioni aiutano a mantenere l'integrità della superficie e l'orientamento cristallografico definito, che sono fondamentali per le successive fasi di lavorazione.

Informazioni aggiuntive

I substrati a cristallo singolo come questo wafer di alluminio svolgono un ruolo fondamentale nella ricerca sulla scienza dei materiali, in particolare negli studi sulla deposizione di film sottili e sull'ingegneria di superficie. La loro struttura cristallina omogenea consente un esame dettagliato delle interfacce dei materiali e facilita lo sviluppo di architetture di dispositivi a strati.

Sia nella ricerca accademica che nella prototipazione industriale, la comprensione delle proprietà dei substrati di cristallo singolo è essenziale. I progressi nelle tecniche di imaging e di analisi continuano a espandere le applicazioni di questi substrati, migliorando la nostra capacità di modellare e manipolare accuratamente i comportamenti dei materiali su microscala.