CY8987 LSAT Substrato di cristallo di lantanio-stronzio-tantalato di alluminio (110) 5x5x0,5 mm SSP

Substrato di cristallo di lantanio-stronzio-tantalato di alluminio LSAT (110) 5x5x0,5 mm SSP Descrizione

Il nostro substrato di cristallo LSAT (lantanio-stronzio-tantalato di alluminio) (110) in formato 5×5×0,5 mm lucidato su un solo lato offre un'eccezionale corrispondenza reticolare e stabilità termica. Progettato per la ricerca sui film sottili ad alte prestazioni, supporta la crescita di strati di ossido complessi, composti superconduttori e materiali a base di perovskite. La sua struttura cristallina uniforme e le basse perdite dielettriche contribuiscono a una qualità superiore degli strati, riducendo al minimo i difetti e migliorando le prestazioni dei dispositivi.

Ogni substrato è sottoposto a un rigoroso controllo di qualità, che garantisce un orientamento preciso, l'uniformità dello spessore e una superficie lucida priva di graffi. Questo livello di eccellenza è essenziale per facilitare risultati riproducibili e affidabili nei processi di epitassia avanzata, deposizione laser pulsata ed epitassia a fascio molecolare. I nostri substrati LSAT soddisfano i rigorosi standard del settore e rappresentano la scelta ideale per i ricercatori e i produttori che desiderano ottenere risultati costanti e di alta qualità.

LSAT Substrato di cristallo di lantanio-stronzio-tantalato di alluminio (110) 5x5x0,5 mm Applicazioni SSP

Il substrato di cristallo LSAT (lantanio-stronzio-tantalato di alluminio) (110) 5x5x0,5 mm SSP è ampiamente riconosciuto per la sua eccezionale stabilità dielettrica e termomeccanica. La sua struttura cristallina coerente e il minimo disallineamento reticolare lo rendono un componente essenziale nella fabbricazione di dispositivi avanzati. Queste qualità ne giustificano l'ampia utilità in vari settori, alimentando l'innovazione nei dispositivi elettronici, nella strumentazione di ricerca e nei prodotti commerciali in cui precisione e affidabilità sono fondamentali.

1. Applicazioni industriali

-Utilizzato nella produzione di wafer di semiconduttori ad alte prestazioni, per consentire processi di deposizione e incisione efficienti.

-Integrato in apparecchiature ottiche e chimiche di precisione per migliorare la stabilità e l'uniformità termica.

2. Applicazioni di ricerca

-Facilita lo sviluppo di nuovi materiali a film sottile nei laboratori di ricerca e sviluppo accademici e commerciali.

-Impiegato in strumenti metrologici avanzati per garantire misure accurate e ripetibili.

3. Applicazioni commerciali

-Applicato nella produzione di elettronica di consumo per migliorare l'affidabilità e le prestazioni dei dispositivi.

-Incorporati nei componenti delle telecomunicazioni per ottimizzare l'elaborazione del segnale e ridurre il consumo energetico.

LSAT Substrato di cristallo di lantanio-stronzio-tantalato di alluminio (110) 5x5x0,5 mm Confezione SSP

Ogni substrato di cristallo di lantanio-stronzio-tantalato di alluminio LSAT (110) 5x5x0,5 mm è sigillato singolarmente sotto vuoto in una busta di polietilene pulita prima di essere inserito in una scatola rivestita di schiuma per evitare danni meccanici. Conservare il substrato in un ambiente asciutto e a temperatura controllata per mantenere la qualità della superficie. Tutte le confezioni sono gestite in una camera bianca di Classe 100 per ridurre al minimo la contaminazione. Sono disponibili confezioni personalizzate e opzioni di quantità per soddisfare i requisiti di progetti specifici.

Imballaggio: Sigillato sotto vuoto, scatola di legno o personalizzato.

LSAT Substrato di cristallo di lantanio-stronzio-tantalato di alluminio (110) 5x5x0,5 mm SSP FAQs

Q1: Quali sono le principali proprietà del materiale del substrato di cristallo di lantanio-stronzio-tantalato di alluminio LSAT (110) 5x5x0,5 mm SSP?

A1: Questo substrato LSAT a cristallo singolo presenta una struttura di tipo perovskite con un'eccellente stabilità chimica e termica. L'orientamento (110) è stato scelto per ottenere una corrispondenza reticolare ottimale, riducendo la deformazione durante la deposizione di film sottili di ossido. Il substrato ha un coefficiente di espansione termica moderato e una bassa perdita dielettrica, che lo rendono adatto per applicazioni elettroniche e ottiche di precisione. Inoltre, presenta una buona qualità superficiale, un'elevata cristallinità e difetti minimi per mantenere una crescita costante del film.

D2: Come deve essere maneggiato e conservato questo prodotto?

A2: La manipolazione corretta prevede l'uso di guanti non abrasivi per evitare contaminazioni o graffi sulle superfici lucide. Conservare il substrato in un ambiente pulito e asciutto, possibilmente sigillato in un imballaggio antistatico. Evitare di esporlo a sbalzi di temperatura o a un'elevata umidità. Quando è necessaria la pulizia, si raccomanda un delicato risciacquo con solvente isopropanolo o acqua deionizzata seguito da un'asciugatura con azoto per preservare la superficie incontaminata.

D3: Quali standard di qualità e certificazioni si applicano al substrato di cristallo di lantanio-stronzio-tantalato di alluminio LSAT (110) 5x5x0,5 mm SSP?

A3: In genere, questi substrati sono prodotti secondo protocolli di gestione della qualità riconosciuti a livello internazionale, come ISO 9001, per garantire processi di produzione coerenti e prestazioni affidabili del prodotto. Sono sottoposti a rigorosi controlli per verificare l'accuratezza dimensionale, l'orientamento cristallografico e la planarità della superficie. Gli strumenti metrologici, come la diffrazione a raggi X e l'interferometria ottica, verificano la conformità alle tolleranze specificate, mentre la documentazione finale garantisce la tracciabilità e la registrazione dettagliata della qualità per ogni lotto.

Informazioni correlate

1. Proprietà e vantaggi del materiale

Il substrato cristallino di lantanio-stronzio-alluminio tantalato (LSAT) (110) 5x5x0,5 mm SSP è rinomato per le sue eccellenti capacità di corrispondenza reticolare, che lo rendono molto adatto alla crescita epitassiale di film sottili di ossido complessi. La sua struttura cristallina stabile contribuisce a ridurre le tensioni residue negli strati depositati, migliorando così le prestazioni dei dispositivi elettronici e ottici avanzati. Inoltre, l'orientamento (110) fornisce una piattaforma equilibrata per i ricercatori che intendono studiare le proprietà anisotropiche dei materiali a film sottile, migliorando l'accuratezza sperimentale e la flessibilità di progettazione.

Questo prodotto dimostra un'impressionante stabilità strutturale, in gran parte dovuta al basso tasso di espansione termica dell'LSAT rispetto a vari substrati alternativi. L'assenza di distorsioni strutturali significative a temperature elevate lo rende una scelta affidabile per i processi ad alta temperatura comunemente impiegati nella fabbricazione dei moderni componenti a semiconduttore. Grazie alle dimensioni di 5x5x0,5 mm e alla superficie lucidata su un solo lato, questo substrato di cristallo LSAT offre un piano di riferimento preciso e una qualità superficiale uniforme che facilita la riproducibilità dei risultati nelle applicazioni commerciali e di ricerca.

2. Applicazioni in industrie avanzate

In una serie di industrie avanzate, i substrati di cristallo LSAT (110) 5x5x0,5 mm SSP servono come materiale di base fondamentale per lo sviluppo di film sottili ad alte prestazioni. I produttori di semiconduttori utilizzano l'LSAT per produrre strati di ossido specializzati che supportano i transistor e i circuiti integrati di nuova generazione, garantendo proprietà elettriche stabili e una ridotta interferenza del segnale. La sua compatibilità con diverse tecniche di deposizione ne amplia l'ambito di applicazione, rendendolo una valida scelta per i componenti ottici di alta precisione e i sistemi microelettromeccanici (MEMS).

Anche campi tecnologici come l'elettronica ad alta frequenza, la fotonica e le apparecchiature per sensori beneficiano delle proprietà uniche dell'LSAT. Lo spessore costante di 0,5 mm consente di ridurre al minimo le sollecitazioni durante il funzionamento del dispositivo, cercando di mantenere l'integrità strutturale per periodi prolungati. Offrendo una superficie eccezionale per la crescita di materiali innovativi, i substrati LSAT contribuiscono a migliorare l'affidabilità dei dispositivi e ad aprire nuove possibilità per progetti complessi in dispositivi microelettronici e fotonici all'avanguardia.