CY8965 Substrato di cristallo di tantalato di potassio (111) 5x10x0,5 mm SSP

Substrato di cristallo di tantalato di potassio (111) 5x10x0,5 mm SSP Descrizione

Il tantalato di potassio (KTaO₃) è un substrato cristallino di perovskite di alta qualità noto per l'eccellente stabilità chimica, la bassa perdita dielettrica e l'ampio bandgap. Questo substrato orientato a (111), che misura 5 × 10 × 0,5 mm ed è lucidato su un solo lato (SSP), supporta la deposizione precisa di film sottili, rendendolo ideale per la ricerca elettronica, fotonica e optoelettronica avanzata. Le sue capacità di adattamento del reticolo aiutano a ridurre le dislocazioni negli strati epitassiali, migliorando così le prestazioni dei dispositivi.

Prodotto secondo rigorosi standard di qualità, ogni substrato di cristallo di tantalato di potassio è sottoposto a rigorosi controlli per garantire una superficie liscia, difetti minimi e un orientamento cristallografico affidabile. Ricercatori e produttori possono fidarsi delle sue proprietà costanti per applicazioni quali filtri ad alta frequenza, guide d'onda ottiche e sensori. Questo robusto substrato offre prestazioni eccezionali e qualità affidabile in ambienti industriali e di ricerca esigenti.

Substrato di cristallo di tantalato di potassio (111) 5x10x0,5 mm Applicazioni SSP

Il substrato di cristallo di tantalato di potassio (111) 5x10x0,5 mm SSP è apprezzato per le sue proprietà dielettriche stabili, la qualità della superficie costante e l'eccellente comportamento termico. Queste caratteristiche consentono una deposizione precisa del film e l'integrazione di dispositivi ad alte prestazioni in diversi settori. Dai sensori industriali alla ricerca accademica, l'SSP apre nuove possibilità di innovazione nei settori dell'elettronica, dell'ottica e non solo, garantendo al contempo l'affidabilità delle applicazioni più complesse.

1. Applicazioni industriali

-Supporta tecnologie di sensori avanzate nel settore chimico, garantendo un controllo e un monitoraggio precisi.

-Si integra perfettamente negli ambienti petrolchimici, migliorando l'efficienza e le prestazioni dei catalizzatori.

-Migliora i dispositivi di controllo delle emissioni nel settore automobilistico grazie a superfici di substrato durevoli per una precisa deposizione di film.

2. Applicazioni di ricerca

-Facilita gli studi di deposizione ad alta precisione nella R&S sui semiconduttori, consentendo nuove architetture di dispositivi

-Offre una piattaforma stabile per lo sviluppo di rivestimenti ottici e strutture fotoniche di nuova generazione.

-Supporta le indagini sperimentali sulle proprietà dielettriche nei laboratori universitari e nelle istituzioni scientifiche.

3. Applicazioni commerciali

-Migliora i componenti delle telecomunicazioni, contribuendo a migliorare l'affidabilità del segnale e le prestazioni dei dispositivi.

-Fornisce una solida base per i sensori dei dispositivi medici, assicurando una diagnostica accurata in ambito sanitario.

-Offre prestazioni affidabili nell'elettronica di consumo, contribuendo a garantire qualità e longevità costanti.

Substrato di cristallo di potassio tantalato (111) 5x10x0,5 mm Confezione SSP

Il substrato di cristallo di tantalato di potassio (111) 5x10x0,5 mm SSP è confezionato in più strati di materiali protettivi, tra cui una busta di polietilene per camera bianca e un contenitore a prova di ESD, per evitare danni e contaminazioni. Per garantire una stabilità ottimale, il prodotto deve essere conservato in un ambiente asciutto e privo di polvere, a temperatura e umidità controllate. Su richiesta, sono disponibili opzioni di confezionamento personalizzate, come la sigillatura sottovuoto o la spedizione di lotti più grandi.

Imballaggio: Sigillato sottovuoto, scatola di legno o personalizzato.

Substrato di cristallo di tantalato di potassio (111) 5x10x0,5 mm SSP FAQs

Q1: Quali sono le principali proprietà del materiale del substrato di cristallo di tantalato di potassio (111) 5x10x0,5 mm SSP?

A1: I substrati di cristallo di tantalato di potassio (KTaO₃) presentano costanti dielettriche elevate, un'eccellente simmetria cubica e un assorbimento relativamente basso nella gamma del vicino infrarosso. Il loro orientamento (111) garantisce parametri reticolari uniformi e stabili che supportano processi avanzati di deposizione di film sottili. Grazie al basso coefficiente di espansione termica, mantengono l'integrità strutturale a temperature elevate. Queste qualità rendono i substrati di KTaO₃ ideali per applicazioni nell'optoelettronica, nei dispositivi ferrosi e in vari esperimenti di ricerca che richiedono una precisa corrispondenza reticolare.

D2: Come deve essere maneggiato e conservato questo prodotto?

A2: I substrati di cristallo di tantalato di potassio sono fragili e devono essere maneggiati con guanti puliti e privi di lanugine per evitare contaminazioni e danni alla superficie. Conservarli in un ambiente controllato e a bassa umidità, possibilmente in un contenitore protettivo o in un sacchetto antistatico sigillato. Assicurarsi che tutti gli strumenti di manipolazione, come le pinzette, abbiano punte morbide o siano coperti per evitare graffi. Evitare il contatto diretto con la pelle, poiché oli e detriti possono compromettere la qualità della superficie del substrato.

D3: Quali standard di qualità e certificazioni si applicano al substrato di cristallo di tantalato di potassio (111) 5x10x0,5 mm SSP?

A3: Questi substrati sono in genere prodotti nell'ambito di rigorosi sistemi di gestione della qualità industriale, tra cui l'ISO 9001, per garantire la coerenza e la tracciabilità della produzione. I produttori spesso aderiscono a protocolli aggiuntivi specifici per il cliente in materia di tolleranze dimensionali, purezza e pulizia. Per mantenere l'affidabilità, vengono eseguiti regolari controlli di qualità, come misurazioni della planarità superficiale e ispezioni dei difetti. La documentazione della conformità ai requisiti del settore viene fornita, contribuendo a garantire che i substrati soddisfino standard elevati per le applicazioni commerciali e di ricerca.

Informazioni correlate

1. Processo di produzione

Il controllo meticoloso dell'ambiente di crescita dei cristalli è essenziale per produrre un substrato di cristallo di potassio tantalato (111) 5x10x0,5 mm SSP di alta qualità. Durante la fabbricazione, le temperature gestite con precisione e le condizioni di crescita personalizzate contribuiscono a garantire la formazione di strutture cristalline uniformi, che contribuiscono a ottenere wafer consistenti con difetti minimi. Questo processo esigente richiede attrezzature specializzate e un monitoraggio rigoroso, poiché anche piccole fluttuazioni nella purezza o nella temperatura possono influire sulle prestazioni del substrato finale.

Alla fase iniziale di crescita dei cristalli seguono rigorose fasi di ricottura e lucidatura per affinare le proprietà fisiche e chimiche del substrato. Le superfici dei substrati vengono accuratamente lucidate fino a ottenere una finitura liscia, fondamentale per ottenere un'interfaccia di qualità superiore nelle applicazioni avanzate. Nel corso di questi processi, metodi di manipolazione specializzati e salvaguardie ambientali contribuiscono a mantenere l'integrità strutturale dei substrati, evitando la contaminazione.

2. Misure di controllo della qualità

L'ispezione continua durante il ciclo di produzione è fondamentale per mantenere l'uniformità e la precisione di ciascun substrato di cristallo di tantalato di potassio (111) 5x10x0,5 mm SSP. Le valutazioni automatizzate della superficie, le immagini ad alta risoluzione e i controlli dimensionali sono implementati per rilevare eventuali deviazioni di spessore o difetti sulle superfici dei substrati. Questa attenta supervisione garantisce che ogni cristallo soddisfi i rigorosi standard ottici ed elettrici stabiliti da vari settori commerciali e industriali.

Una volta che i substrati raggiungono la loro forma finale, vengono impiegati protocolli di test approfonditi, con analisi incentrate sulle proprietà dielettriche, sulla stabilità strutturale e sulla purezza della superficie. Queste valutazioni controllate confermano che ogni wafer può funzionare in modo ottimale in applicazioni altamente sensibili, come l'ottica di precisione e i sistemi di sensori avanzati. Aderendo a criteri di prova rigorosi, i produttori forniscono substrati affidabili che soddisfano costantemente le aspettative di prestazioni esigenti per un'ampia gamma di utilizzi finali innovativi.