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Stanford Advanced Materials
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CY8934 Film multistrato di hBN su substrato di nichel 2 in x 2 in

Catalogo no. CY8934
Materiale hBN, nichel
Forma Rettangolare
Forma Substrato

Stanford Advanced Materials (SAM) presenta il suo film multistrato di hBN ad alte prestazioni su substrato di nichel (2 pollici x 2 pollici), meticolosamente progettato per soddisfare le più severe esigenze industriali e di ricerca. Sfruttando decenni di esperienza nei materiali avanzati, SAM garantisce risultati affidabili grazie all'eccezionale uniformità dello strato e alla stabilità termica. Questo robusto substrato supporta un'ampia gamma di applicazioni all'avanguardia, dai dispositivi a semiconduttore agli ambienti ad alta temperatura. Con un impegno costante verso l'innovazione, la qualità e la soddisfazione del cliente, SAM fornisce soluzioni affidabili e convenienti che potenziano le prestazioni e guidano il progresso in diversi settori industriali globali.

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