CY8546 Substrato di cristallo di silicio (Si) (110) Dia. 2 pollici

Substrato di cristallo di silicio (Si) (110) Dia. 2 pollici Descrizione

Realizzato in silicio monocristallino di elevata purezza con orientamento (110), il nostro substrato Dia. 2 pollici è accuratamente tagliato e lucidato per garantire un'uniformità superiore. Questo orientamento è particolarmente vantaggioso per una serie di applicazioni microelettroniche, tra cui la fabbricazione di sensori, le matrici di transistor e la ricerca avanzata nella fisica dei semiconduttori. I nostri substrati sono sottoposti a rigorosi controlli di qualità per essere conformi agli standard industriali, garantendo una rugosità superficiale minima, una bassa variazione di resistenza e un'integrità eccezionale. Con uno spessore costante e una curvatura minima, rappresentano una base affidabile per la lavorazione precisa dei dispositivi. Sia per la produzione di massa che per la ricerca d'avanguardia, il nostro substrato di cristallo di silicio (Si) (110) Dia. 2 pollici si distingue per le sue prestazioni robuste, l'affidabile ripetibilità e la massima conformità ai requisiti globali di produzione dei semiconduttori.

Substrato di cristallo di silicio (Si) (110) Dia. 2 pollici Applicazioni

I substrati di cristallo di silicio (Si) (110) Dia. 2 pollici sono ampiamente riconosciuti per la loro eccezionale purezza, l'orientamento cristallografico e le proprietà strutturali stabili. Svolgono un ruolo fondamentale in numerosi settori industriali, dalla microelettronica ai campi di ricerca avanzati. La loro disposizione cristallina uniforme offre una conduttività elettrica superiore, rendendoli ideali per l'uso in sensori, dispositivi semiconduttori e ricerca all'avanguardia. Questa combinazione di orientamento preciso e proprietà superficiali di alta qualità li distingue per diverse applicazioni specializzate.

1. Applicazioni industriali

-Fabbricazione di wafer di precisione: l'orientamento (110) migliora la resistenza meccanica e le caratteristiche di incisione, consentendo la produzione di sistemi microelettromeccanici robusti.

-Sensori ad alte prestazioni: Le proprietà elettroniche superiori facilitano il rilevamento e la misurazione altamente accurati nella produzione e nel controllo dei processi.

2. Applicazioni di ricerca

-Prototipazione di dispositivi quantistici: La struttura cristallina stabile supporta lo sviluppo di sistemi elettronici e quantistici avanzati nelle università e nei laboratori di ricerca e sviluppo.

-Studi sulla scienza delle superfici: Le superfici uniformi sono ideali per studiare le reazioni chimiche e le proprietà dei materiali a livello atomico.

3. Applicazioni commerciali

-Dispositivi a semiconduttore: Un'eccellente conduttività e un orientamento cristallografico affidabile sono fondamentali per la costruzione di circuiti integrati nell'elettronica di consumo.

-Componenti fotonici: La precisa disposizione dei reticoli migliora le proprietà ottiche, supportando sistemi fotonici ad alta efficienza nelle tecnologie di comunicazione.

Cristallo di silicio (Si) Substrato (110) Dia. 2 pollici Imballaggio

Ogni substrato di silicio (Si) (110) da 2 pollici è confezionato singolarmente in una busta antistatica sigillata, rivestita con inserti di schiuma per evitare danni meccanici. Queste buste sono ulteriormente racchiuse in sacchetti con barriera antiumidità e pacchetti essiccanti per mantenere l'umidità e prevenire la contaminazione. Per una conservazione ottimale, i substrati devono essere conservati in un ambiente pulito e a bassa umidità. Su richiesta, sono disponibili etichette personalizzate, forme speciali di schiuma e opzioni di doppio imballaggio per soddisfare requisiti di spedizione o movimentazione unici.

Imballaggio: Sigillato sottovuoto, scatola di legno o personalizzato.

Substrato di cristallo di silicio (Si) (110) Dia. 2 pollici FAQ

Q1: Quali sono le principali proprietà del materiale del substrato di cristallo di silicio (Si) (110) Dia. 2 pollici?

A1: Il substrato di cristallo di silicio (Si) (110) con un diametro di 2 pollici presenta specifiche caratteristiche elettriche, meccaniche e ottiche che lo rendono essenziale per le applicazioni avanzate. Tra le sue proprietà principali vi sono l'elevata mobilità dei portatori, l'orientamento definito lungo il piano (110), la bassa densità di difetti e l'eccellente conduttività termica. Questo substrato è ampiamente utilizzato nella microelettronica, nelle celle fotovoltaiche e in altri progetti di ricerca basati sui semiconduttori.

D2: Come deve essere trattato e conservato questo prodotto?

A2: Per mantenere le condizioni incontaminate del substrato, gli operatori devono maneggiare il wafer con guanti privi di polvere e pinzette morbide o bacchette da vuoto per evitare la contaminazione della superficie e i danni fisici. Evitare il contatto diretto con le mani nude e conservare il substrato in un ambiente pulito e asciutto in appositi supporti per wafer o in imballaggi specializzati. Una corretta manipolazione riduce la contaminazione da particolato e preserva l'integrità della superficie per la successiva lavorazione.

D3: Quali standard di qualità e certificazioni si applicano al substrato di cristallo di silicio (Si) (110) Dia. 2 pollici?

A3: Il substrato di cristallo di silicio (Si) (110) Dia. 2 pollici aderisce in genere a standard specifici del settore, come SEMI M1 per la geometria dei wafer e le specifiche di superficie, assicurando spessore, diametro e planarità uniformi. I produttori operano spesso nell'ambito di sistemi di gestione della qualità certificati ISO 9001 per garantire la tracciabilità e la costanza delle prestazioni del prodotto. Il rispetto di questi standard favorisce una lavorazione affidabile dei semiconduttori e assicura agli utenti finali la qualità e la riproducibilità del substrato.

Informazioni correlate

1. Proprietà e vantaggi del materiale

Progettato meticolosamente per un preciso orientamento cristallografico, il substrato di cristallo di silicio (Si) (110) Dia. 2 pollici offre una piattaforma eccellente per la fabbricazione di semiconduttori avanzati. L'orientamento (110) garantisce una spaziatura atomica quasi uniforme sulla superficie, favorendo un comportamento di incisione altamente prevedibile e facilitando il trasferimento di modelli nitidi durante i processi litografici. Questo particolare tipo di substrato di silicio è noto per le sue proprietà meccaniche stabili, che lo rendono meno suscettibile di incrinarsi o deformarsi nelle difficili condizioni della produzione microelettronica.

Questi substrati presentano un'eccezionale conducibilità elettrica che può essere personalizzata attraverso procedure di drogaggio controllate, consentendo a ricercatori e produttori di mettere a punto le prestazioni dei wafer in applicazioni specializzate. Il formato da 2 pollici di diametro offre un equilibrio tra maneggevolezza e superficie sufficiente per la prototipazione o la produzione di dispositivi su scala ridotta. Grazie all'eccezionale stabilità termica, il substrato di cristallo di silicio (Si) (110) Dia. 2 pollici mantiene la sua integrità attraverso ripetuti cicli di riscaldamento e raffreddamento, garantendo risultati costanti per progetti di microchip ad alta precisione.

2. Tendenze del mercato globale

Spinti dalla crescente domanda di dispositivi elettronici efficienti e miniaturizzati, i substrati di silicio (110) hanno raccolto una maggiore attenzione nelle regioni che enfatizzano lo sviluppo di chip all'avanguardia. Le nazioni che si concentrano sull'innovazione dei circuiti integrati hanno adottato i wafer da 2 pollici di diametro come materiali standardizzati nei progetti di ricerca, ponendo le basi per la futura produzione di massa. Questi fattori favoriscono l'espansione delle tecnologie specializzate per wafer di silicio (110), portando a un netto aumento della crescita industriale globale e della collaborazione tra gli impianti di produzione.

Il crescente interesse per questi substrati versatili è ulteriormente alimentato dai progressi dell'intelligenza artificiale, dei sistemi di comunicazione ad alta frequenza e dei dispositivi fotonici. La compatibilità dei wafer di silicio (110) con molti processi di fabbricazione esistenti consente a queste applicazioni di prosperare senza richiedere un'ampia riprogettazione delle linee di produzione. Questa adattabilità e le ampie opportunità di miglioramento del prodotto posizionano il substrato di cristallo di silicio (Si) (110) Dia. 2 pollici all'avanguardia in un mercato globale in rapida evoluzione, con la promessa di una rilevanza costante per gli anni a venire.