Substrato di cristallo di silicio (Si) (111) 10x10 mm Descrizione
Questo substrato di cristallo di silicio (Si) (111) 10×10 mm offre una base uniforme e robusta per una varietà di applicazioni industriali e di ricerca. L'orientamento cristallografico (111) fornisce un'eccezionale uniformità del reticolo, rendendolo ideale per lo sviluppo di dispositivi semiconduttori avanzati, la crescita epitassiale e gli studi di scienza delle superfici. Prodotto secondo rigorosi standard di purezza, questo substrato presenta difetti minimi e una superficie straordinariamente liscia. La sua struttura a cristallo singolo garantisce un comportamento prevedibile dei portatori di carica e un'eccezionale stabilità termica.
Soddisfacendo i rigorosi parametri di qualità, ogni substrato viene sottoposto a un'ispezione meticolosa per garantire un taglio preciso, uno spessore costante e una planarità superiore. Questi attributi consentono di produrre componenti e chip ad alte prestazioni, supportando la microelettronica, i MEMS e la fabbricazione di sensori. L'affidabile qualità del materiale e l'accuratezza dell'orientamento rendono questo substrato una soluzione preziosa per chi cerca l'eccellenza sia nella ricerca che nella produzione.
Substrato di cristallo di silicio (Si) (111) 10x10 mm Applicazioni
Il substrato di cristallo di silicio (Si) (111) 10x10 mm è apprezzato per il suo preciso orientamento atomico, l'elevata purezza e le eccellenti proprietà elettriche. La sua struttura cristallina uniforme supporta la tecnologia avanzata dei semiconduttori, mentre l'orientamento superficiale (111) migliora la compatibilità con i processi di crescita epitassiale. Questa combinazione di precisione, stabilità e conduttività rende il substrato altamente versatile, consentendo soluzioni innovative in ambito industriale, di ricerca e commerciale.
1. Applicazioni industriali
-Produzione di wafer: Consente la produzione di circuiti integrati ad alte prestazioni e di dispositivi di potenza.
-Produzione di sensori: fornisce una base cristallina stabile per i sensori, garantendo misurazioni precise e affidabili in ambienti difficili.
2. Applicazioni di ricerca
-Studi sulle pellicole sottili: offre una superficie ideale per studiare le tecniche di crescita e deposizione dei materiali.
-Informatica quantistica: serve come substrato affidabile per testare dispositivi quantistici e studiare nuove architetture computazionali.
3. Applicazioni commerciali
-Dispositivi optoelettronici: Facilita lo sviluppo di display innovativi, componenti fotonici e moduli di comunicazione.
-Elettronica di consumo: Costituisce la base dei processori all'avanguardia e dei chip specializzati presenti negli smartphone, nei dispositivi indossabili e altro ancora.
Substrato di cristallo di silicio (Si) (111) Confezione da 10x10 mm
Ogni substrato di cristallo di silicio (Si) 10x10 mm (111) è accuratamente confezionato in una busta antistatica e imbottito con inserti di schiuma per evitare danni meccanici. Un contenitore ermetico e resistente all'umidità assicura la protezione dall'umidità. Il substrato deve essere conservato in un ambiente pulito e privo di polvere a temperatura ambiente. La doppia sigillatura riduce ulteriormente i rischi di contaminazione. Le opzioni personalizzate includono rivestimenti speciali, variazioni di spessore e marcature di orientamento uniche.
Imballaggio: Sigillato sotto vuoto, scatola di legno o personalizzato.
Substrato di cristallo di silicio (Si) (111) 10x10 mm Domande frequenti
Q1: Quali sono le principali proprietà del materiale del substrato di cristallo di silicio (Si) (111) 10x10 mm?
A1: Questo substrato è un silicio a cristallo singolo con orientamento (111), che offre un piano reticolare coerente per la fabbricazione di dispositivi avanzati. Ha una resistività compresa tra 1 e 10 Ω-cm, che garantisce una mobilità stabile degli elettroni. La superficie è lucidata su un lato, ottenendo una rugosità inferiore a 5 Å. La sua purezza del 99,9999% offre una composizione uniforme favorevole a processi microelettronici affidabili. Inoltre, la sua struttura cristallografica ben definita supporta la crescita epitassiale per varie routine di semiconduttori.
D2: Come deve essere maneggiato e conservato questo prodotto?
A2: Quando si maneggia il substrato, indossare guanti puliti per prevenire la contaminazione ed evitare il contatto diretto con la superficie lucida. Utilizzare pinzette dedicate o bacchette per il vuoto per ridurre al minimo le sollecitazioni meccaniche. Conservare in un ambiente pulito e a bassa umidità, preferibilmente in un essiccatore con azoto. Proteggerlo da fluttuazioni di temperatura estreme per preservare l'integrità cristallografica. Imballare singolarmente ogni substrato in un contenitore antistatico per evitare danni alla superficie.
D3: Quali standard di qualità e certificazioni si applicano al substrato di cristallo di silicio (Si) (111) 10x10 mm?
A3: Le certificazioni riconosciute dal settore, come ISO 9001:2015 e ISO 14001:2015, si applicano spesso ai processi di produzione, garantendo una qualità costante e una responsabilità ambientale. I substrati soddisfano anche le specifiche SEMI M1, che riguardano le tolleranze dimensionali, la rugosità superficiale e la densità complessiva dei difetti. Inoltre, la documentazione può fare riferimento ad ASTM F76 o a standard equivalenti per le misure di resistività e i profili di drogaggio. La conformità alle normative RoHS e REACH è generalmente garantita per soddisfare i requisiti del mercato globale.
Informazioni correlate
1. Processo di produzione
La produzione del substrato di cristallo di silicio (Si) (111) 10x10 mm inizia tipicamente con l'attenta selezione di lingotti di silicio monocristallino. Questi lingotti vengono coltivati in condizioni termiche e atmosferiche strettamente controllate per mantenere l'uniformità dell'orientamento e della purezza dei cristalli. Metodi di estrazione avanzati, come la tecnica Czochralski, consentono di ottenere un'eccellente struttura cristallina che si allinea perfettamente con l'orientamento (111). Questo garantisce difetti minimi, rendendolo ideale per i dispositivi che richiedono alta precisione e stabilità.
Durante la fase di formatura del cristallo, il lingotto viene tagliato in substrati utilizzando attrezzature specializzate per il taglio del diamante, progettate per ottenere uno spessore costante e una qualità superficiale superiore. Ogni substrato viene poi sottoposto a un processo di lucidatura che affina la rugosità della superficie, consentendo di ottenere interfacce lisce nelle applicazioni successive. Il controllo dimensionale preciso, che si traduce in un formato di 10x10 mm, garantisce la compatibilità con un'ampia gamma di sistemi di microfabbricazione e migliora la resa delle linee di produzione di semiconduttori.
2. Applicazioni nelle industrie avanzate
Settori all'avanguardia come la microelettronica, la sensoristica e la fotonica si affidano all'orientamento del cristallo (111) per applicazioni che richiedono basse densità di difetti e mobilità ottimale dei portatori di carica. Il substrato di cristallo di silicio (Si) (111) 10x10 mm è particolarmente apprezzato in questi settori per la sua capacità di mantenere l'integrità strutturale durante le intense fasi di lavorazione, tra cui la diffusione ad alta temperatura e l'impiantazione ionica. La sua disposizione stabile del reticolo contribuisce a creare percorsi di conduzione efficienti, fondamentali per l'elettronica a livello di wafer.
Nel campo dell'informatica quantistica e dei nuovi circuiti integrati, questo substrato specializzato fornisce una base eccellente per la ricerca e le scoperte ingegneristiche. Le sue dimensioni precise di 10x10 mm consentono di utilizzare tecniche litografiche avanzate, assicurando una modellazione accurata dei dispositivi e riducendo lo spreco di materiale. I ricercatori sfruttano spesso il piano cristallografico (111) per studiare nuove architetture di punti quantici e componenti spintronici, rendendolo un materiale fondamentale per le innovazioni all'avanguardia della tecnologia moderna.
Scrivi per noi
Convertitori e calcolatori
