CY8540 Substrato di cristallo di silicio (Si) (110) 10x10 mm

Substrato di cristallo di silicio (Si) (110) 10x10 mm Descrizione

Il nostro substrato di cristallo di silicio (Si) (110) 10×10 mm è fabbricato con precisione da silicio monocristallino di elevata purezza, garantendo un'uniformità eccezionale e una bassa densità di difetti. L'orientamento cristallografico (110) offre vantaggi unici per i processi di fabbricazione di dispositivi avanzati, tra cui l'incisione anisotropa e la crescita epitassiale. La sua struttura reticolare coerente aiuta a minimizzare le deformazioni negli strati epitassiali, migliorando le prestazioni del dispositivo e l'affidabilità complessiva. Inoltre, la finitura superficiale liscia e le strette tolleranze dimensionali consentono una perfetta integrazione in un'ampia gamma di applicazioni industriali e di ricerca.

Progettato per soddisfare rigorosi standard di qualità, questo substrato è sottoposto a severe procedure di ispezione e pulizia per ridurre la contaminazione e mantenere ottimali le superfici dei wafer. Sia che stiate studiando nuovi materiali semiconduttori, sviluppando circuiti integrati di nuova generazione o esplorando dispositivi MEMS, il nostro substrato di cristallo di silicio (Si) (110) 10×10 mm offre la precisione, la durata e la coerenza necessarie per ottenere risultati all'avanguardia.

Substrato di cristallo di silicio (Si) (110) 10x10 mm Applicazioni

Il substrato di cristallo di silicio (Si) (110) 10x10 mm è rinomato per la sua struttura cristallina uniforme, il drogaggio costante e l'impareggiabile stabilità termica. Questo substrato compatto è molto richiesto nell'elettronica avanzata, nell'ottica di precisione e nei test sui materiali. Grazie a proprietà come l'elevata purezza, l'eccellente mobilità dei portatori e l'accuratezza dimensionale, diventa fondamentale in vari settori per promuovere l'innovazione e le scoperte della ricerca. Progettato per l'affidabilità, favorisce le prestazioni dei dispositivi di nuova generazione.

1. Applicazioni industriali

-Applicazione 1: Utilizzato nei componenti di macchinari ad alta temperatura grazie alla resistenza termica e alla stabilità superiori.

-Applicazione 2: impiegato nei processi di produzione di semiconduttori su larga scala per una produzione di wafer estremamente precisa.

2. Applicazioni di ricerca

-Applicazione 1: Integrale nei dispositivi sperimentali di calcolo quantistico in cui il drogaggio controllato è fondamentale

-Applicazione 2: essenziale per lo sviluppo di dispositivi nanoelettronici, consentendo l'esplorazione di nuove architetture di transistor

3. Applicazioni commerciali

-Applicazione 1: si trova nell'elettronica di consumo di fascia alta per garantire la longevità e l'efficienza dei dispositivi.

-Applicazione 2: utilizzato nelle tecnologie fotovoltaiche per migliorare le prestazioni delle celle solari e la conversione dell'energia.

Cristallo di silicio (Si) Substrato (110) 10x10 mm Imballaggio

Ogni substrato di cristallo di silicio (Si) da 10×10 mm è protetto in una busta sigillata antistatica con inserti in schiuma per evitare danni meccanici. La confezione include essiccanti per il controllo dell'umidità per mantenere l'asciutto e ridurre il rischio di contaminazione. Conservare in ambienti puliti e a temperatura controllata, al riparo dalla luce solare diretta. Per una maggiore pulizia, sono disponibili opzioni di doppia sigillatura e sottovuoto. Su richiesta, è possibile realizzare etichette personalizzate, imballaggi speciali e adeguamenti delle quantità.

Confezioni: Sigillato sottovuoto, scatola di legno o personalizzato.

Substrato di cristallo di silicio (Si) (110) 10x10 mm Domande frequenti

Q1: Quali sono le principali proprietà del materiale del substrato di cristallo di silicio (Si) (110) 10x10 mm?

A1: Il substrato di cristallo di silicio (Si) (110) è noto per il suo orientamento cristallografico ben definito, l'elevata purezza e il preciso controllo del drogaggio. Con una costante reticolare di circa 5,431 Å, offre un'eccellente stabilità meccanica, una durezza di circa 1150 HV e una conduttività termica di 148 W/m-K. Questo orientamento (110) è particolarmente vantaggioso per alcune applicazioni di dispositivi, grazie alle sue proprietà elettriche e ottiche anisotrope.

D2: Come deve essere maneggiato e conservato questo prodotto?

A2: Questi substrati vengono solitamente maneggiati con guanti da camera bianca e conservati in imballaggi inerti o sottovuoto per evitare la contaminazione o l'ossidazione. Le superfici possono essere estremamente sensibili ai graffi, quindi è essenziale utilizzare solo materiali non abrasivi durante la pulizia. Le fluttuazioni di temperatura devono essere ridotte al minimo per evitare deformazioni e l'umidità deve essere controllata per evitare l'assorbimento di umidità che può compromettere l'integrità della superficie del substrato.

D3: Quali standard di qualità e certificazioni si applicano al substrato di cristallo di silicio (Si) (110) 10x10 mm?

A3: Per i rigorosi criteri di prestazione, questi substrati sono generalmente conformi ai sistemi di gestione della qualità ISO 9001. Molti fornitori seguono anche gli standard SEMI, come l'M1, per le specifiche dei wafer di silicio, garantendo spessore, planarità e orientamento cristallografico costanti. I controlli di routine con la diffrazione dei raggi X e la profilometria della superficie verificano l'uniformità del substrato. Inoltre, la conformità alle direttive RoHS garantisce una produzione responsabile dal punto di vista ambientale, priva di sostanze pericolose come piombo, mercurio o cadmio.

Informazioni correlate

1. Proprietà e vantaggi del materiale

Il substrato di cristallo di silicio (Si) (110) 10x10 mm è rinomato per la sua struttura robusta e versatile, che lo rende ideale per numerose applicazioni di alta precisione. L'orientamento (110) offre un insieme unico di caratteristiche cristallografiche che consentono una mobilità superiore dei portatori in alcuni progetti di transistor e migliorano le proprietà di conduzione superficiale. Questo orientamento specifico offre anche una migliore uniformità nella deposizione di film sottili, garantendo a ricercatori e produttori risultati affidabili nello sviluppo di dispositivi elettronici e fotonici avanzati.

Grazie alle sue dimensioni compatte di 10x10 mm, questo substrato è particolarmente comodo per i test di laboratorio e le piccole produzioni. Riesce a trovare un equilibrio tra l'efficienza dei materiali e le prestazioni dei dispositivi, consentendo una prototipazione economica senza sacrificare l'accuratezza o la coerenza. La sua capacità di mantenere stabili le caratteristiche elettriche in varie condizioni ambientali ne consolida ulteriormente il ruolo nella ricerca sui semiconduttori e nei processi di microfabbricazione all'avanguardia.

2. Tendenze del mercato globale

L'accresciuta domanda di tecnologie ad alta efficienza energetica e di componenti miniaturizzati sta determinando un notevole interesse per il substrato di cristallo di silicio (Si) (110) 10x10 mm. Industrie come la microelettronica, il fotovoltaico e la produzione di sensori stanno adottando attivamente questi substrati per rispondere alla crescente richiesta di dispositivi ad alte prestazioni e basso consumo. Con l'espansione degli impianti di produzione di semiconduttori in tutto il mondo, i produttori di questi substrati traggono vantaggio dalla creazione di catene di fornitura affidabili e dalla possibilità di soddisfare i mercati internazionali che attribuiscono grande importanza a un preciso orientamento cristallografico e a proprietà coerenti dei materiali.

Negli ultimi anni, le iniziative di collaborazione tra istituti di ricerca, aziende tecnologiche ed enti governativi hanno incrementato gli investimenti complessivi nell'innovazione dei substrati di silicio. L'aumento delle partnership globali ha accelerato l'esplorazione di nuove architetture di dispositivi e tecniche di lavorazione, rafforzando in ultima analisi la fattibilità commerciale di substrati di piccolo formato come i wafer di silicio orientati a 10x10 mm (110). Queste tendenze sono destinate a continuare, dato che le industrie avanzate danno importanza a progetti compatti ed efficienti per soddisfare le esigenze dei consumatori e dell'industria in continua evoluzione.