Substrato di cristallo di silicio (Si) (100) 10x10 mm Descrizione
Il nostro substrato di cristallo di silicio (Si) (100) 10×10 mm offre una purezza del materiale e una perfezione cristallina superiori, che lo rendono una base ideale per la ricerca avanzata sui semiconduttori e la fabbricazione di dispositivi. Tagliato con precisione secondo l'orientamento (100), questo substrato presenta una bassa rugosità superficiale e un'elevata uniformità, essenziali per ottenere risultati coerenti di deposizione e incisione. Le sue eccellenti proprietà elettriche e la sua conducibilità termica garantiscono prestazioni ottimali sia nelle applicazioni elettroniche convenzionali che in quelle all'avanguardia.
Prodotto secondo rigorosi standard di qualità, ogni substrato è sottoposto a un'ispezione rigorosa per mantenere tolleranze più strette su spessore, resistività e planarità della superficie. Questa attenzione alla precisione e all'affidabilità consente a ricercatori e ingegneri di sviluppare soluzioni innovative nel campo della microelettronica, della fotonica e di altri settori ad alta tecnologia. Sia per la prototipazione che per la produzione su larga scala, il nostro substrato di Si (100) soddisfa i requisiti più esigenti dell'industria.
Substrato di cristallo di silicio (Si) (100) 10x10 mm Applicazioni
Il substrato di cristallo di silicio (Si) (100) 10x10 mm è una piattaforma essenziale per diverse tecnologie di alta precisione. L'orientamento cristallino ben definito, la conducibilità termica superiore e la qualità uniforme della superficie supportano la microfabbricazione avanzata, consentendo prestazioni precise dei dispositivi. Le proprietà uniche di questo substrato garantiscono inoltre difetti minimi ed eccellente durata, rendendolo indispensabile nei settori industriali, di ricerca e commerciali, dove precisione e affidabilità sono fondamentali per lo sviluppo di prodotti di nuova generazione.
1. Applicazioni industriali
-Applicazione 1: utilizzo nella fabbricazione di sistemi microelettromeccanici (MEMS), sfruttando la coerenza cristallografica del substrato per la produzione di dispositivi di alta precisione.
-Applicazione 2: integrazione nei processi di produzione dei semiconduttori, per garantire prestazioni stabili a temperature elevate e in condizioni difficili.
2. Applicazioni di ricerca
-Applicazione 1: base per gli esperimenti di nanotecnologia che richiedono una superficie priva di difetti, cruciale per ottenere risultati riproducibili
-Applicazione 2: sviluppo di prototipi di sensori avanzati, sfruttando le proprietà intrinseche superiori del substrato per una raccolta accurata dei dati.
3. Applicazioni commerciali
-Applicazione 1: imballaggi ad alta densità nell'elettronica di consumo, che beneficiano di uno spessore uniforme e di eccellenti proprietà di conduzione.
-Applicazione 2: Fabbricazione di componenti ottici per la tecnologia dei display, sfruttando la minima rugosità superficiale per una chiarezza superiore.
Substrato di cristallo di silicio (Si) (100) Confezione da 10x10 mm
Ogni substrato di cristallo di silicio (Si) da 10x10 mm viene inserito in un supporto antistatico e imbottito, che garantisce il massimo assorbimento degli urti. Questo supporto viene poi sigillato sotto vuoto in una busta per camera bianca per evitare infiltrazioni di polvere. Per mantenere la purezza, la confezione sigillata deve essere conservata in un ambiente asciutto e controllato. Ulteriori misure anticontaminazione includono l'uso di guanti e banchi a flusso laminare durante la manipolazione. Su richiesta sono disponibili soluzioni di confezionamento personalizzate, come supporti per wafer o inserti multistrato.
Imballaggio: Sigillato sotto vuoto, scatola di legno o personalizzato.
Substrato di cristallo di silicio (Si) (100) 10x10 mm Domande frequenti
Q1: Quali sono le principali proprietà del materiale del substrato di cristallo di silicio (Si) (100) 10x10 mm?
A1: Il substrato di cristallo di silicio (Si) (100) 10x10 mm ha tipicamente una struttura cristallina cubica con orientamento (100), elevata purezza e un basso livello di difetti. La sua conducibilità termica è di circa 150 W/mK a 300 K e presenta un band gap energetico di circa 1,12 eV. Questo substrato offre un'eccellente resistenza meccanica, stabilità chimica e spessore uniforme per applicazioni elettroniche e fotoniche avanzate.
D2: Come deve essere maneggiato e conservato questo prodotto?
A2: Per mantenere l'integrità del substrato, maneggiare ogni pezzo con guanti o pinzette pulite e prive di pelucchi per evitare contaminazioni e danni alla superficie. Conservare i substrati in condizioni ambientali con umidità minima, possibilmente utilizzando scatole protettive per wafer o contenitori imbottiti. Evitare l'esposizione a sostanze chimiche aggressive o a rapide fluttuazioni di temperatura, in quanto possono indurre stress o difetti. Ispezionare periodicamente la presenza di contaminazione o schegge e mantenere un'etichettatura accurata per la tracciabilità e il controllo dell'inventario.
D3: Quali standard di qualità e certificazioni si applicano al substrato di cristallo di silicio (Si) (100) 10x10 mm?
A3: Questi substrati di silicio sono generalmente conformi agli standard SEMI (Semiconductor Equipment and Materials International) per lo spessore, la planarità e l'accuratezza dell'orientamento dei wafer. Possono essere dotati di certificazioni ISO 9001, che indicano processi di gestione della qualità rigorosi. Le verifiche metrologiche, come la diffrazione a raggi X (XRD) per confermare l'orientamento dei cristalli e le misure di riflettività, assicurano la coerenza del substrato. Le ispezioni della morfologia superficiale e dei difetti sono condotte secondo le specifiche del settore. Una documentazione completa accompagna spesso ogni lotto per autenticare la tracciabilità e gli standard di produzione.
Informazioni correlate
1. Proprietà e vantaggi del materiale
Prodotto con silicio ultrapuro, il wafer (100) da 10x10 mm offre una superficie eccezionalmente liscia, ottimale per i dispositivi microelettronici di alta precisione. Questo substrato vanta un orientamento dei cristalli di (100), che garantisce caratteristiche elettriche e termiche uniformi in tutta la sua dimensione quadrata, favorendo prestazioni costanti e livelli ridotti di difetti.
Scelto per la sua eccellente conducibilità termica, questo substrato di cristallo di silicio può disperdere efficacemente il calore e mantenere la stabilità strutturale durante le complesse fasi di fabbricazione. Il suo elevato livello di purezza riduce i rischi di contaminazione, rendendolo una scelta ideale per le applicazioni in cui l'affidabilità del prodotto e l'accuratezza del flusso di segnale sono fondamentali.
2. Applicazioni nelle industrie avanzate
Schermando i circuiti microelettronici critici dalle interferenze, il substrato di silicio (100) 10x10 mm svolge un ruolo fondamentale nella produzione di dispositivi aerospaziali, automobilistici e medici. Questo wafer di cristallo supporta lo sviluppo di sensori miniaturizzati, trasduttori di precisione e componenti optoelettronici specializzati, consentendo soluzioni all'avanguardia che devono sopportare ambienti operativi difficili.
Le robuste attività di ricerca e sviluppo nel settore dei semiconduttori si affidano a questi wafer altamente standardizzati per produrre circuiti integrati e componenti fotonici di nuova generazione. Grazie alla loro struttura reticolare coerente e all'eccellente affidabilità a lungo termine, questi substrati di silicio contribuiscono alla realizzazione di innovazioni nell'informatica quantistica, nei sistemi di imaging avanzati e in altre tecnologie di frontiera che richiedono prestazioni senza compromessi.
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