Substrato di cristallo di silicio (Si) (110) 5x5 mm Descrizione
Progettato per la microfabbricazione avanzata e la ricerca fotonica, il nostro substrato di cristallo di silicio (110) da 5 × 5 mm offre precisione e uniformità senza pari. L'orientamento dell'indice (110) Miller di questo substrato fornisce proprietà anisotropiche uniche, che lo rendono estremamente prezioso per la progettazione di dispositivi su scala nanometrica. Ogni substrato è prodotto secondo rigorosi standard di qualità, che garantiscono difetti superficiali minimi, bassa rugosità ed eccezionale purezza. Ciò si traduce in prestazioni di crescita epitassiale superiori e in un funzionamento affidabile in ambienti ad alta temperatura e ad alta sollecitazione. Le applicazioni più diffuse includono i sistemi microelettromeccanici (MEMS), la deposizione di film sottili e lo sviluppo di sensori.
Il nostro meticoloso processo di produzione e il rigoroso controllo di qualità garantiscono un'eccellente planarità e precisione dimensionale. Questo substrato è la soluzione perfetta per ricercatori e ingegneri che cercano una piattaforma stabile e affidabile per i loro progetti di semiconduttori più impegnativi.
Substrato di cristallo di silicio (Si) (110) 5x5 mm Applicazioni
I substrati di cristallo di silicio (110), che misurano 5x5 mm, sono apprezzati per le loro proprietà strutturali uniche e per l'orientamento costante dei cristalli che facilitano le prestazioni avanzate dei dispositivi. Questi substrati consentono una modellazione precisa e supportano vari sforzi industriali, di ricerca e commerciali. Grazie all'elevata purezza e alle caratteristiche elettriche superiori, sono le piattaforme ideali per un'ampia gamma di applicazioni che riguardano la microelettronica e la nanofabbricazione.
1. Applicazioni industriali
-Applicazione 1: confezionamento conduttivo a livello di wafer di microelettronica ad alte prestazioni, sfruttando l'orientamento (110) per un legame affidabile e una distorsione minima del segnale.
-Applicazione 2: Sensori di alta precisione per l'industria automobilistica e aerospaziale, che sfruttano le caratteristiche di risposta alle sollecitazioni del piano (110) per un'affidabilità costante.
-Applicazione 3: microfabbricazione robusta di dispositivi MEMS che richiedono uno spessore uniforme, garantendo proprietà meccaniche stabili in condizioni operative industriali.
2. Applicazioni di ricerca
-Applicazione 1: Studi di crescita epitassiale per la ricerca e sviluppo di semiconduttori avanzati, utilizzando il substrato (110) per esaminare la deformazione reticolare e la propagazione dei difetti.
-Applicazione 2: Prototipi di dispositivi quantistici in cui l'orientamento preciso della superficie è fondamentale per migliorare la mobilità degli elettroni e ridurre la dispersione.
-Applicazione 3: esperimenti di fisica fondamentale che studiano le proprietà di trasporto termico ed elettrico in orientamenti cristallini ben definiti.
3. Applicazioni commerciali
-Applicazione 1: Componenti fotonici integrati che sfruttano gli indici di rifrazione unici del piano (110) per una propagazione efficiente della luce.
-Applicazione 2: Rivestimenti a film sottile e strati protettivi specializzati, che beneficiano di una qualità uniforme del substrato e di una migliore adesione.
-Applicazione 3: Sensori di elettronica di consumo (ad esempio, sensori di pressione o tattili) che sfruttano la stabilità del substrato in condizioni ambientali variabili.
Substrato di cristallo di silicio (Si) (110) Confezione da 5x5 mm
Ogni substrato di Si (110) da 5×5 mm è confezionato in un ambiente pulito e privo di elettricità statica, utilizzando materiali imbottiti e a basso contenuto di particelle per garantire la sicurezza e l'integrità del prodotto. Le superfici sono protette dall'umidità e dalla polvere con pellicole protettive sigillate e anti-contaminazione. Il contenitore sigillato viene conservato a temperatura e umidità controllate per ridurre al minimo l'ossidazione. Sono disponibili anche opzioni di personalizzazione, come imballaggi sigillati sottovuoto a doppio strato o vettori specializzati, per soddisfare esigenze specifiche di movimentazione e spedizione.
Imballaggio: Sigillato sottovuoto, scatola di legno o personalizzato.
Substrato di cristallo di silicio (Si) (110) 5x5 mm Domande frequenti
Q1: Quali sono le principali proprietà del materiale del substrato di cristallo di silicio (Si) (110) 5x5 mm?
A1: Il substrato di cristallo di silicio (Si) con orientamento (110) offre proprietà anisotrope distinte rispetto al più comune orientamento (100). Ha una struttura cristallina cubica di diamante, alti livelli di purezza (spesso 99,9999%) e una conduttività termica di circa 150 W/m-K a temperatura ambiente. Il piano (110) presenta una diversa resistenza alla frattura e una struttura a bande elettroniche che lo rendono ideale per la fabbricazione di dispositivi specializzati, tra cui canali di transistor avanzati e sistemi microelettromeccanici (MEMS).
D2: Come deve essere maneggiato e conservato questo prodotto?
A2: Maneggiare questi substrati dai bordi o con guanti da camera bianca per evitare contaminazioni e danni. Conservarli in un ambiente privo di polvere e a temperatura controllata per preservare l'integrità della superficie e prevenire l'ossidazione. Utilizzare supporti protettivi o scatole per wafer per proteggersi dalle sollecitazioni meccaniche. Si raccomanda un'ispezione regolare con un microscopio o un profilometro di superficie per confermare la pulizia e la qualità della superficie prima di qualsiasi lavorazione. Evitare forze o piegature eccessive per mantenere l'integrità del cristallo.
D3: Quali standard di qualità e certificazioni si applicano al substrato di cristallo di silicio (Si) (110) 5x5 mm?
A3: I substrati di silicio (110) sono generalmente conformi alle specifiche SEMI M1 per la geometria del wafer, la planarità e la qualità della superficie. I produttori spesso aderiscono alla norma ISO 9001 per i sistemi di gestione della qualità, garantendo una produzione coerente e protocolli di ispezione rigorosi. Le tolleranze epitassiali e di drogaggio sono verificate con metodi come la misurazione con sonda a quattro punti o la spettrometria di massa a ioni secondari (SIMS). Queste certificazioni garantiscono tracciabilità, riproducibilità e conformità agli standard internazionali, rendendo i substrati adatti alla ricerca di alta precisione e alle applicazioni industriali.
Informazioni correlate
1. Processo di produzione
La creazione di un substrato di cristallo di silicio (Si) (110) 5x5 mm inizia tipicamente con la crescita di un lingotto di silicio di elevata purezza, che viene poi accuratamente orientato e tagliato per ottenere il piano cristallografico (110). Durante queste fasi, vengono impiegate procedure avanzate di segatura e lucidatura per mantenere la planarità del substrato, minimizzare i difetti e preservare lo spessore uniforme, assicurando che l'orientamento (110) sia presentato con precisione su tutta la superficie di 5x5 mm.
Le tecniche di precisione sono fondamentali per affinare ulteriormente il substrato. Dopo l'affettatura, le superfici sono sottoposte a un ampio regime di pulizia per rimuovere i contaminanti, seguito da processi di incisione che migliorano la levigatezza del reticolo cristallino. Questo approccio meticoloso contribuisce a mantenere costanti le caratteristiche elettriche e meccaniche, consentendo al substrato di cristallo di silicio (Si) (110) 5x5 mm di soddisfare gli esigenti requisiti delle applicazioni specializzate di microelettronica e nanotecnologia.
2. Applicazioni nelle industrie avanzate
Il Substrato di Cristallo di Silicio (Si) (110) 5x5 mm è ampiamente utilizzato nei dispositivi elettronici di nuova generazione, dove l'orientamento cristallografico fornisce proprietà elettriche distinte adatte a determinate configurazioni di transistor. Il suo preciso allineamento strutturale supporta anche tecnologie di sensori avanzate, in particolare nella fabbricazione di dispositivi MEMS e sofisticati fotorivelatori.
La robustezza delle prestazioni in condizioni difficili rende questo substrato ideale per altri ambiti di alta precisione, come l'optoelettronica e l'informatica quantistica. Sfruttando la maggiore mobilità dei portatori caratteristica del piano cristallografico (110), gli ingegneri sono in grado di sviluppare componenti con maggiore velocità e sensibilità, favorendo così l'innovazione in una serie di settori all'avanguardia.
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