Substrato di cristallo di silicio (Si) (100) 5x5 mm Descrizione
Il nostro substrato di cristallo di silicio (Si) (100) 5×5 mm è stato meticolosamente progettato per garantire una purezza e una qualità cristallografica eccezionali. Realizzato in silicio monocristallino con orientamento (100), ogni substrato offre una superficie uniforme e priva di difetti, ideale per la ricerca avanzata e la fabbricazione di dispositivi. L'elevata perfezione cristallina e la struttura reticolare coerente consentono un controllo preciso della diffusione del drogante, della deposizione del film e di altri processi critici dei semiconduttori.
Aderendo ai severi standard industriali, questi substrati sono sottoposti a rigorosi controlli di qualità per mantenere una bassa rugosità superficiale e ridurre al minimo la contaminazione. Sono ampiamente utilizzati in applicazioni di microelettronica, fotovoltaico e sensori, dove prestazioni affidabili e scalabilità sono fondamentali. Sia per la prototipazione che per la produzione, il nostro substrato di cristallo di silicio (Si) (100) contribuisce a fornire risultati costanti, supportando nuove scoperte e lo sviluppo di prodotti innovativi.
Substrato di cristallo di silicio (Si) (100) 5x5 mm Applicazioni
Il substrato di cristallo di silicio (Si) (100) 5x5 mm si distingue per l'elevata purezza, l'orientamento cristallografico e l'eccellente conduttività termica. Questo substrato di piccole dimensioni si adatta a un'ampia gamma di applicazioni microelettroniche e fotoniche, fornendo una piattaforma stabile per la crescita di film sottili e la fabbricazione di dispositivi. Inoltre, la qualità uniforme della sua superficie garantisce risultati precisi in applicazioni complesse, consentendo sia la ricerca che le scoperte commerciali.
1. Applicazioni industriali
-Applicazione 1: L'orientamento (100) semplifica la lavorazione dei wafer, consentendo un'incisione precisa per i dispositivi MEMS e microfluidici.
-Applicazione 2: L'elevata conduttività termica lo rende ideale per l'elettronica di potenza, garantendo un'efficiente dissipazione del calore nella produzione su larga scala.
2. Applicazioni di ricerca
-Applicazione 1: fornisce un ambiente controllato per lo studio di componenti avanzati di calcolo quantistico che richiedono difetti superficiali minimi.
-Applicazione 2: offre l'uniformità essenziale per gli esperimenti di deposizione di film sottili, migliorando la riproducibilità e l'accuratezza dei dati in ambienti accademici e di laboratorio.
3. Applicazioni commerciali
-Applicazione 1: migliora le prestazioni dei dispositivi di consumo, compresi sensori e display, grazie a caratteristiche strutturali affidabili.
-Applicazione 2: offre una qualità costante e tassi di guasto ridotti per le aziende che sviluppano circuiti integrati ed elettronica di nuova generazione.
Substrato di cristallo di silicio (Si) (100) Confezione da 5x5 mm
Ogni substrato di cristallo di silicio (Si) da 5x5 mm (100) è confezionato in una busta antistatica sigillata con inserti in schiuma rinforzata per la protezione dagli urti e dai colpi. Gli articoli sono conservati in condizioni di umidità controllata per mantenere la purezza, mentre la sigillatura sottovuoto impedisce la contaminazione. Per la personalizzazione, sono disponibili etichette personalizzate e inserti su misura. Tutti i componenti dell'imballaggio sono accuratamente selezionati per salvaguardare l'integrità del substrato, garantendo prestazioni costanti e di alta qualità al momento dell'arrivo.
Imballaggio: Sigillato sottovuoto, scatola di legno o personalizzato.
Substrato di cristallo di silicio (Si) (100) 5x5 mm Domande frequenti
Q1: Quali sono le principali proprietà del materiale del substrato di cristallo di silicio (Si) (100) 5x5 mm?
A1: I substrati di cristallo di silicio (Si) con orientamento (100) presentano elevata purezza, cristallinità uniforme ed eccellente conduttività termica. In genere possiedono una gamma di resistività personalizzata in base ai livelli di drogaggio, che consente di regolare finemente le proprietà elettriche. La loro costante reticolare è di circa 5,43 Å e presentano un band gap vicino a 1,12 eV. Questi substrati offrono inoltre una planarità superficiale superiore e difetti minimi per applicazioni di precisione nei semiconduttori.
D2: Come deve essere maneggiato e conservato questo prodotto?
A2: Data la loro fragilità e i severi requisiti di superficie, i substrati di cristallo di silicio (Si) (100) 5x5 mm devono essere maneggiati con pinzette o bacchette da vuoto per evitare contaminazioni e danni meccanici. È necessario indossare guanti per evitare di introdurre oli o particolati. Le superfici possono essere protette da pellicole protettive specializzate e conservate in contenitori puliti e asciutti. Le fluttuazioni di temperatura devono essere ridotte al minimo per preservare la stabilità dimensionale e ridurre i rischi di ossidazione.
D3: Quali standard di qualità e certificazioni si applicano al substrato di cristallo di silicio (Si) (100) 5x5 mm?
A3: I principali substrati di silicio per semiconduttori sono conformi a standard rigorosi come le specifiche SEMI (Semiconductor Equipment and Materials International), che assicurano la tolleranza di spessore, la pulizia della superficie e l'accuratezza dell'orientamento dei cristalli. La certificazione ISO 9001 spesso regola la qualità generale della produzione, mentre la ISO 14001 si occupa della gestione ambientale. Può essere richiesta un'ulteriore conformità alla RoHS (Restriction of Hazardous Substances). I fornitori eseguono in genere test approfonditi a livello di wafer per verificare la densità dei difetti, la resistività e l'uniformità del drogaggio, al fine di mantenere costanti le prestazioni del prodotto.
Informazioni correlate
1. Proprietà e vantaggi del materiale
Progettato per offrire un'uniformità eccezionale, il substrato di cristallo di silicio (Si) (100) 5x5 mm è noto per la sua struttura reticolare definita con precisione. Questa uniformità è fondamentale per ottimizzare le prestazioni dei dispositivi elettronici, in quanto garantisce una conduttività costante su tutto il substrato. Inoltre, l'orientamento del cristallo (100) fornisce una piattaforma stabile per la crescita epitassiale, consentendo ai progettisti di sviluppare interfacce di alta qualità e densità di difetti ridotte al minimo.
Rispetto ad altri materiali di substrato, questa fetta di cristallo di silicio dimostra una stabilità termica superiore, che la rende in grado di sopportare condizioni di lavorazione difficili senza compromettere l'integrità strutturale. Il moderato coefficiente di espansione termica del silicio limita ulteriormente le sollecitazioni durante le fluttuazioni di temperatura, preservando così la planarità del substrato e l'affidabilità meccanica complessiva. Integrando questi vantaggi, i ricercatori possono sfruttare con sicurezza le robuste proprietà del substrato per perfezionare le configurazioni avanzate dei dispositivi.
2. Applicazioni nelle industrie avanzate
Questo substrato di cristallo di silicio (Si) da 5x5 mm (100) svolge un ruolo essenziale in settori all'avanguardia che richiedono un controllo preciso dell'orientamento del cristallo e della qualità della superficie. I produttori di dispositivi medici utilizzano questi substrati per lo sviluppo di moduli di sensori, sfruttando la coerenza del reticolo cristallino per migliorare l'accuratezza e la ripetibilità del rilevamento. Anche le aziende produttrici di semiconduttori incorporano questi substrati nella produzione di microprocessori e chip di memoria, beneficiando di una piattaforma affidabile per la scalatura dei transistor e l'efficienza energetica.
Poiché il substrato soddisfa requisiti rigorosi di purezza e planarità della superficie, viene utilizzato anche nella ricerca sull'informatica quantistica, dove anche imperfezioni minime possono compromettere la stabilità dei qubit. I settori aerospaziale e della difesa adottano queste fette cristalline per dispositivi fotonici avanzati, supportando i sistemi di comunicazione di prossima generazione che dipendono dalla trasmissione di segnali ad alta velocità e a bassa perdita. Eccellendo in molteplici ambiti specialistici, questo substrato di silicio sottolinea il suo ruolo fondamentale nel guidare il progresso tecnologico.
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