CY8531 Substrato a cristallo singolo di biossido di titanio rutilo (TiO2) (001) 5x5x0,5 mm

Substrato a cristallo singolo di biossido di titanio rutilo (TiO2) (001) 5x5x0,5 mm Descrizione

Il nostro substrato a cristallo singolo di biossido di titanio rutilo (TiO2) offre un'eccezionale purezza e integrità strutturale per la ricerca e lo sviluppo di alta precisione. L'orientamento (001) garantisce parametri di crescita uniformi, mentre la superficie lucidata migliora la qualità epitassiale e riduce al minimo gli effetti di dispersione. Con dimensioni di 5 × 5 × 0,5 mm, questo substrato accuratamente dimensionato supporta l'utilizzo efficiente del materiale nella deposizione di film sottili, nei rivestimenti ottici e nelle applicazioni di sensori avanzati. Il TiO2 è noto per il suo elevato indice di rifrazione, la stabilità chimica e l'ampio band gap, che lo rendono ideale per gli studi sulla fotocatalisi e la ricerca sui semiconduttori.

Ogni substrato è sottoposto a rigorosi standard di qualità, tra cui una meticolosa valutazione cristallografica e rigide tolleranze dimensionali. Questa attenzione ai dettagli produce basse densità di difetti, garantendo prestazioni riproducibili in diverse applicazioni. Migliorate il vostro prossimo progetto con questo substrato di TiO2 rutilo di qualità superiore, progettato per offrire affidabilità, coerenza e un valore di ricerca senza pari.

Substrato a cristallo singolo di biossido di titanio rutilo (TiO2) (001) 5x5x0,5 mm Applicazioni

Grazie all'elevato indice di rifrazione, all'eccezionale chiarezza ottica e alla struttura cristallina stabile, il substrato a cristallo singolo di biossido di titanio rutilo (TiO2) (001) è la soluzione ideale per un'ampia gamma di applicazioni di materiali avanzati. La sua composizione coerente e la finitura superficiale liscia offrono prestazioni superiori nella deposizione di film sottili, negli studi di scienza delle superfici e nella fabbricazione di dispositivi. Queste qualità uniche rendono il substrato una risorsa indispensabile in diversi settori industriali, di ricerca e commerciali.

1. Applicazioni industriali

-Applicazione 1: utilizzato nei rivestimenti ad alta temperatura che sfruttano la stabilità e la resistenza del substrato alle sollecitazioni termiche.

-Applicazione 2: impiegato come base per strati resistenti alla corrosione, sfruttando la sua robusta struttura cristallina per una maggiore durata.

2. Applicazioni di ricerca

-Applicazione 1: serve come sistema modello negli studi sulla crescita di film sottili, grazie alla sua superficie liscia e consistente

-Applicazione 2: fornisce una piattaforma affidabile per gli esperimenti di scienza delle superfici, grazie al reticolo prevedibile e alla bassa densità di difetti.

3. Applicazioni commerciali

-Applicazione 1: Incorporato in dispositivi ottici dove l'alto indice di rifrazione migliora la manipolazione e la chiarezza della luce.

-Applicazione 2: Utilizzato nelle tecnologie dei sensori che richiedono precisione e stabilità per misurazioni accurate.

Substrato a cristallo singolo di biossido di titanio rutilo (TiO2) (001) 5x5x0,5 mm Confezione

Ogni substrato a cristallo singolo di biossido di titanio rutilo (TiO2) (001) 5x5x0,5 mm è accuratamente confezionato in una busta sigillata sotto vuoto a prova di ESD e supportata da strati di schiuma protettiva. La confezione sigillata aiuta a prevenire la contaminazione da polvere e umidità. Conservare in un ambiente pulito e asciutto a temperatura e umidità moderate. Su richiesta sono disponibili etichette personalizzate, materiali per l'involucro e quantità su misura per una gestione ottimale e una conservazione a lungo termine.

Imballaggio: Sigillato sottovuoto, scatola di legno o personalizzato.

Substrato a cristallo singolo di biossido di titanio rutilo (TiO2) (001) 5x5x0,5 mm Domande frequenti

Q1: Quali sono le principali proprietà del materiale del substrato a cristallo singolo di biossido di titanio rutilo (TiO2) (001) 5x5x0,5 mm?

A1: Questi substrati a cristallo singolo sono composti dal polimorfo rutilo del biossido di titanio, che offre un elevato indice di rifrazione (~2,6), un'eccellente trasparenza ottica nello spettro del visibile e del vicino infrarosso e forti proprietà dielettriche. L'orientamento (001) garantisce piani atomici ben definiti per la crescita epitassiale. Presentano inoltre un'elevata stabilità chimica, durezza (scala Mohs ~6) e un ampio band gap (~3,0 eV).

D2: Come deve essere maneggiato e conservato questo prodotto?

A2: Fragili e sensibili alla contaminazione superficiale, questi substrati devono essere maneggiati con guanti puliti e privi di lanugine per evitare graffi e particelle. Evitare il contatto diretto con le dita nude e conservarli in un ambiente privo di umidità, polvere e vapori chimici. Utilizzare contenitori adeguatamente imbottiti per proteggerli dalle sollecitazioni meccaniche. Per mantenere intatta la qualità dei cristalli, si consiglia di utilizzare un imballaggio sottovuoto, quando possibile.

D3: Quali standard di qualità e certificazioni si applicano al substrato di cristallo singolo di biossido di titanio rutilo (TiO2) (001) 5x5x0,5 mm?

A3: Questi substrati soddisfano in genere gli standard di gestione della qualità ISO 9001:2015 per garantire una precisione dimensionale, una purezza e un orientamento cristallografico costanti. Sono sottoposti a un'ispezione rigorosa che utilizza la diffrazione a raggi X per verificare l'accuratezza dell'orientamento e le misure di qualità della superficie, come i valori Ra per le facce lucidate. Molti produttori forniscono anche una documentazione tracciabile, che garantisce la conformità alle norme del settore per l'uniformità del substrato, la densità dei difetti e la composizione chimica.

Informazioni correlate

1. Processo di produzione

Tecniche meticolose di crescita dei cristalli sono essenziali per la produzione di substrato a cristallo singolo di biossido di titanio rutilo (TiO2) (001) 5x5x0,5 mm. I produttori utilizzano in genere un ambiente controllato, che assicura una precisa regolazione della temperatura e condizioni chimiche stabili durante l'intero ciclo di formazione. Questo metodo garantisce che ogni wafer lucidato presenti un orientamento ottimale della fase rutilica, con caratteristiche ottiche ed elettriche uniformi, essenziali per applicazioni di ricerca e sviluppo di alto livello.

I rigorosi trattamenti successivi alla crescita migliorano ulteriormente la qualità della superficie del substrato. La rimozione dei difetti e dei contaminanti a livello microscopico attraverso sequenze avanzate di lucidatura e incisione consente un controllo costante dello spessore di 0,5 mm. Questo approccio non solo garantisce un'eccellente planarità e levigatezza, ma preserva anche i noti vantaggi del TiO2 rutilico, tra cui gli eccezionali indici di rifrazione e l'elevata stabilità chimica.

2. Applicazioni nelle industrie avanzate

L'ampia adozione di questi substrati in cristallo singolo nei sistemi ottici di alta precisione rappresenta uno dei loro impieghi più significativi. Grazie all'orientamento (001) e alle dimensioni costanti di 5x5 mm, i wafer di TiO2 offrono proprietà di rifrazione affidabili, che li rendono ideali per dispositivi birifrangenti, guide d'onda e altri strumenti fotonici in cui sono fondamentali tolleranze dimensionali ristrette.

Anche i sofisticati processi di semiconduttori si affidano alle vantaggiose proprietà del TiO2 rutilico in questa forma specifica. Sia che vengano integrati in array di sensori o in rivestimenti a film sottile, questi substrati monocristallini presentano un disadattamento reticolare minimo quando vengono abbinati a materiali di nuova generazione, elevando in ultima analisi le prestazioni e l'affidabilità dei dispositivi in settori quali l'aerospaziale, le telecomunicazioni e la microelettronica avanzata.