Substrato a cristallo singolo di biossido di titanio rutilo (TiO2) (110) 5x5x0,5 mm Descrizione
I substrati in cristallo singolo di biossido di titanio (TiO₂) in fase rutilica con orientamento (110), che misurano 5 × 5 × 0,5 mm, offrono eccezionali proprietà ottiche ed elettroniche per la ricerca e lo sviluppo di dispositivi all'avanguardia. L'elevato indice di rifrazione, l'ampio bandgap e l'eccellente stabilità chimica li rendono ideali per applicazioni nella fotocatalisi, nelle tecnologie dei sensori e nei dispositivi semiconduttori. L'orientamento (110) favorisce inoltre una crescita epitassiale uniforme, garantendo una deposizione precisa dello strato e prestazioni ottimizzate nella ricerca sui film sottili.
Ogni substrato è prodotto secondo rigorosi standard di qualità, caratterizzati da superfici lisce con difetti minimi e precise tolleranze dimensionali. Questa attenzione ai dettagli non solo garantisce l'affidabilità in condizioni sperimentali difficili, ma offre anche un'eccezionale riproducibilità per la produzione su larga scala. Scegliendo questi substrati di TiO₂ (110), ricercatori e sviluppatori di prodotti possono beneficiare delle loro notevoli prestazioni, consentendo il progresso di tecnologie innovative.
Substrato a cristallo singolo di biossido di titanio rutilo (TiO2) (110) 5x5x0,5 mm Applicazioni
Grazie alla sua particolare struttura rutilica e al preciso orientamento (110), il substrato a cristallo singolo di biossido di titanio offre un elevato indice di rifrazione, un'eccezionale stabilità e proprietà ottiche uniche. Con dimensioni di 5x5x0,5 mm, questo substrato è ideale per la fabbricazione avanzata, la ricerca e le applicazioni commerciali che prevedono la deposizione di film sottili e la crescita epitassiale. La sua bassa densità di difetti e la superficie uniforme garantiscono prestazioni affidabili in ambienti diversi, consentendo soluzioni innovative in diversi settori.
1. Applicazioni industriali
-Montaggio di sensori a film sottile: L'ampio bandgap e l'elevata cristallinità del substrato consentono un'efficiente rilevazione del segnale nei dispositivi sensoriali.
-Rivestimenti ottici avanzati: La sua superficie uniforme e l'eccellente stabilità termica favoriscono la deposizione precisa di rivestimenti multistrato per sistemi ottici ad alte prestazioni.
2. Applicazioni di ricerca
-Studi sui fotocatalizzatori: La fase cristallina del rutilo facilita l'esplorazione delle reazioni fotocatalitiche, favorendo lo sviluppo di tecnologie più pulite per il controllo dell'energia e dell'inquinamento.
-Crescita epitassiale di ossidi: La sua struttura reticolare coerente permette la crescita di film di ossidi complessi, consentendo la ricerca fondamentale nella scienza dei materiali e nella fisica dello stato solido.
3. Applicazioni commerciali
-Display elettronici ad alta risoluzione: La bassa densità di difetti del substrato assicura una chiarezza d'immagine superiore e una lunga durata nelle tecnologie di visualizzazione.
-Superfici di dispositivi resistenti all'usura: Le sue proprietà robuste aiutano a creare rivestimenti durevoli che proteggono l'elettronica di consumo da graffi e abrasioni.
Substrato a cristallo singolo di biossido di titanio rutilo (TiO2) (110) 5x5x0,5 mm Confezione
Ogni substrato di cristallo singolo di biossido di titanio rutilo (TiO₂) (110) 5×5×0,5 mm è meticolosamente avvolto in una busta antistatica e imbottito con inserti di schiuma per evitare danni fisici. Un contenitore sigillato e rivestito di materiale essiccante assicura l'asciugatura e la pulizia. Per ridurre al minimo il rischio di contaminazione, maneggiare solo in un ambiente pulito. Il nostro imballaggio può essere personalizzato su richiesta per soddisfare requisiti speciali di etichettatura o protezione.
Imballaggio: Sigillato sotto vuoto, scatola di legno o personalizzato.
Substrato a cristallo singolo di biossido di titanio rutilo (TiO2) (110) 5x5x0,5 mm Domande frequenti
Q1: Quali sono le principali proprietà del materiale del biossido di titanio rutilo (TiO2), substrato a cristallo singolo (110) 5x5x0,5 mm?
A1: I substrati in cristallo singolo di TiO2 rutilo orientati lungo il piano (110) presentano un elevato indice di rifrazione (~2,6-2,9), un band gap di circa 3,0 eV e forti proprietà dielettriche. Sono chimicamente stabili, con un'eccellente resistenza alla corrosione e stabilità termica fino a temperature elevate. La durezza è tipicamente 6,0 sulla scala Mohs e la struttura reticolare uniforme del substrato consente una crescita riproducibile del film epitassiale, rendendolo ideale per applicazioni ottiche ed elettroniche avanzate.
D2: Come deve essere maneggiato e conservato questo prodotto?
A2: Una manipolazione accurata è essenziale per evitare contaminazioni e danni meccanici. Quando si toccano le superfici del substrato si devono usare guanti e pinzette da camera bianca. Conservare il substrato in un contenitore privo di polvere a temperatura ambiente, lontano dalla luce solare diretta o da fonti di umidità. In caso di trasporto, fissarlo in un imballaggio resistente agli urti. La pulizia periodica con solventi appropriati, seguita da un'asciugatura delicata in un ambiente filtrato, contribuisce a mantenere l'integrità della superficie.
D3: Quali standard di qualità e certificazioni si applicano al biossido di titanio rutilo (TiO2), substrato a cristallo singolo (110) 5x5x0,5 mm?
A3: I fornitori affidabili di solito aderiscono a sistemi di gestione della qualità certificati ISO 9001, che garantiscono la tracciabilità, una produzione coerente e protocolli di ispezione rigorosi. I substrati sono spesso sottoposti a diffrazione di raggi X (XRD) e a ispezione ottica per verificare l'orientamento cristallografico, la planarità e la qualità della superficie. Alcuni prodotti soddisfano anche le direttive RoHS e REACH, confermando l'assenza di sostanze pericolose. Questi standard contribuiscono a garantire substrati affidabili e di elevata purezza, adatti alla ricerca e alle applicazioni industriali in tutto il mondo.
Informazioni correlate
1. Processo di produzione
Per creare il substrato a cristallo singolo (110) di biossido di titanio rutilo (TiO2), con dimensioni di 5x5x0,5 mm, vengono impiegate tecniche di fabbricazione orientate alla precisione. Il processo inizia con la crescita controllata dei cristalli, in genere utilizzando metodi ad alta temperatura che producono una fase rutilica uniforme. Monitorando i gradienti di temperatura e le condizioni ambientali, i produttori ottengono un substrato con difetti minimi e un'omogeneità superiore. Durante questa fase, parametri rigorosi assicurano che l'orientamento cristallografico (110) sia preservato, portando a caratteristiche fisiche e chimiche coerenti in ogni wafer.
Le fasi di taglio e lucidatura, ottimizzate termicamente, perfezionano ulteriormente la qualità e lo spessore della superficie del substrato. Dopo la separazione iniziale dal cristallo sfuso, tecniche di lucidatura avanzate rimuovono le abrasioni microscopiche, ottenendo una finitura ultra-liscia. Questo approccio completo garantisce un substrato altamente stabile che soddisfa le elevate esigenze di applicazioni specializzate, tra cui esperimenti ottici ed elettronici in cui le condizioni di superficie precise sono fondamentali.
2. Applicazioni nelle industrie avanzate
Negli ultimi anni, questi substrati monocristallini di TiO2 hanno trovato sempre più impiego nella prototipazione di dispositivi su scala nanometrica, negli studi dielettrici ad alta precisione e nei sistemi ottici di nuova generazione. La loro eccellente trasparenza alle lunghezze d'onda del visibile e del vicino infrarosso ne fa un candidato forte per i progetti di fotonica avanzata, consentendo una modulazione della luce superiore e riducendo al minimo la dispersione. Inoltre, l'elevato indice di rifrazione della struttura rutilica rende questi substrati una piattaforma preziosa per la ricerca sui rivestimenti ottici e le applicazioni laser.
Riconosciuti per le loro costanti prestazioni meccaniche e termiche, i substrati di biossido di titanio rutilo (110) sono ricercati anche nel campo emergente dei sensori quantistici. Forniscono un'interfaccia stabile per film sottili e strati epitassiali, essenziali per la ricerca d'avanguardia nei superconduttori e nella spintronica. Di conseguenza, i ricercatori e gli sviluppatori industriali apprezzano questi substrati per facilitare le scoperte innovative in una serie di settori high-tech, dall'imaging specializzato alla metrologia di precisione.
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