CY8508 Substrato di cristallo di tantalato di alluminio di lantanio e stronzio (100) 5x5x0,5 mm

Substrato di cristallo di tantalato di alluminio e stronzio di lantanio (100) 5x5x0,5 mm Descrizione

Il substrato di cristallo di lantanio, stronzio e alluminio tantalato (LSAT) (100) 5×5×0,5 mm offre una piattaforma altamente stabile e versatile per la ricerca avanzata sui film sottili. La sua costante reticolare ben assortita e il coefficiente di espansione termica compatibile lo rendono ideale per la crescita epitassiale di materiali ossidi funzionali, tra cui superconduttori ad alta temperatura, ferroelettrici e ossidi magnetici. Progettato per ridurre al minimo i difetti e garantire un'eccellente finitura superficiale, questo substrato assicura una qualità e una riproducibilità ottimali dei cristalli durante i sofisticati processi di deposizione.

Prodotto secondo rigorosi standard di qualità, ogni substrato LSAT è sottoposto a un preciso orientamento e a una lucidatura per ottenere una planarità e una levigatezza eccezionali. Questa dedizione all'eccellenza si traduce in una riduzione delle perdite per dispersione, in una maggiore integrità del dispositivo e in una maggiore affidabilità delle prestazioni. Sia che venga impiegato nella ricerca d'avanguardia o in applicazioni commerciali, la struttura stabile e le proprietà robuste dell'LSAT forniscono una base affidabile per i dispositivi elettronici, fotonici ed elettro-ottici di prossima generazione.

Substrato di cristallo di lantanio, stronzio e alluminio tantalato (100) 5x5x0,5 mm Applicazioni

I substrati di cristallo di lantanio, stronzio e alluminio tantalato (LSAT) sono apprezzati per l'elevata stabilità chimica, il minimo disallineamento reticolare e le eccellenti proprietà termiche e meccaniche. L'orientamento (100) in una forma compatta di 5x5x0,5 mm supporta diversi processi di deposizione di film sottili ed epitassia. Queste caratteristiche rendono i substrati LSAT altamente versatili, consentendo applicazioni industriali, di ricerca e commerciali avanzate che richiedono precisione, affidabilità e prestazioni.

1. Applicazioni industriali

-Imballaggio di dispositivi ad alta frequenza per le tecnologie di comunicazione di prossima generazione

-Risonatori a bassa perdita utilizzati nell'elettronica a microonde e a onde millimetriche.

2. Applicazioni di ricerca

-Crescita di film superconduttori ad alta temperatura per la scienza dei materiali fondamentale

-Studi ottici avanzati su film sottili per esplorare nuove proprietà fotoniche.

3. Applicazioni commerciali

-Integrazione in gruppi di sensori ottici di precisione per la diagnostica medica

-Impiego in sistemi basati su laser che richiedono substrati stabili e con pochi difetti.

Substrato di cristallo di lantanio stronzio tantalato di alluminio (100) 5x5x0,5 mm Confezione

Confezionare ogni substrato di cristallo di tantalato di alluminio di lantanio e stronzio (100) 5×5×0,5 mm in una busta sigillata sottovuoto a prova di ESD con imbottitura in schiuma per proteggere dagli urti. Conservare in un ambiente pulito e asciutto a temperatura ambiente controllata, lontano dalla luce solare diretta e dall'umidità. Per evitare contaminazioni, utilizzare guanti privi di lattice e uno spazio di lavoro privo di polvere. Su richiesta, sono disponibili confezioni e opzioni di etichettatura personalizzate per soddisfare le esigenze di progetti specifici.

Imballaggio: Sigillato sottovuoto, scatola di legno o personalizzato.

Substrato di cristallo di lantanio stronzio tantalato di alluminio (100) 5x5x0,5 mm FAQs

Q1: Quali sono le principali proprietà del materiale del substrato di cristallo di tantalato di alluminio di lantanio e stronzio (100) 5x5x0,5 mm?

A1: Il tantalato di lantanio, stronzio e alluminio (LSAT) offre un ampio band gap, stabilità termica e una costante reticolare ben definita di 3,868 Å, che lo rende ideale per la crescita epitassiale di film di ossidi complessi. Il basso disadattamento strutturale del cristallo con molti materiali ossidi garantisce una deposizione di film di alta qualità. Inoltre, l'elevata stabilità chimica e la natura isolante dell'LSAT forniscono eccellenti proprietà dielettriche e riducono il rischio di reattività chimica durante la lavorazione dei film sottili.

D2: Come deve essere maneggiato e conservato questo prodotto?

A2: Questo substrato deve essere sempre maneggiato con guanti o pinzette pulite e prive di pelucchi per evitare che oli e contaminanti aderiscano alla superficie. Conservarlo in un ambiente pulito e asciutto, preferibilmente sotto vuoto o in un involucro protettivo, per evitare l'assorbimento di umidità o il deposito di particelle. Evitare sbalzi di temperatura che possono indurre tensioni o crepe e maneggiare con cura per evitare scheggiature o rotture.

D3: Quali standard di qualità e certificazioni si applicano al substrato di cristallo di lantanio stronzio tantalato di alluminio (100) 5x5x0,5 mm?

A3: I substrati di tantalato di alluminio di lantanio e stronzio sono comunemente forniti nell'ambito di sistemi di gestione della qualità certificati ISO 9001, che garantiscono geometria, orientamento e finitura superficiale coerenti. Questi substrati rispettano in genere tolleranze rigorose sulle dimensioni e sulla precisione di orientamento, come ±0,1 mm nello spessore e ±0,5° negli assi cristallografici. Le superfici lucidate spesso soddisfano requisiti di rugosità rigorosi (meno di 5 Å RMS), conformi agli esigenti standard dell'industria ottica e dei semiconduttori.

Informazioni correlate

1. Proprietà e vantaggi del materiale

Il tantalato di lantanio e stronzio (LaSrAlTaO₆) offre un eccezionale equilibrio tra stabilità strutturale e inerzia chimica, che lo rende una scelta eccellente per le applicazioni su substrato. L'orientamento (100) su un cristallo di 5x5x0,5 mm garantisce un'espansione termica uniforme, a supporto di prestazioni costanti in ambienti ad alta temperatura. La sua robusta struttura cristallina rimane resistente alle sollecitazioni meccaniche, contribuendo a mantenere l'integrità del substrato durante i vari processi di produzione.

Le sue costanti reticolari, strettamente abbinate, consentono di migliorare l'epitassia con diversi materiali a film sottile, migliorando l'efficienza e l'affidabilità dei dispositivi. Riducendo al minimo i difetti di interfaccia e promuovendo la crescita uniforme dei cristalli, questo substrato ottimizza in modo significativo le prestazioni di complessi sistemi elettronici e fotonici. La capacità di gestire temperature di lavorazione elevate senza compromettere la qualità della superficie evidenzia i vantaggi distintivi di questo substrato di tantalato di lantanio e stronzio.

2. Applicazioni nelle industrie avanzate

L'elettronica di potenza utilizza questo substrato per lo sviluppo di wafer avanzati grazie alla sua eccellente stabilità dielettrica e alle sue affidabili caratteristiche isolanti. La dimensione di 5x5x0,5 mm consente di realizzare layout di componenti più stretti, permettendo la fabbricazione di transistor ad alta frequenza, convertitori e componenti correlati che richiedono una stratificazione di precisione. Questa coerenza dimensionale è fondamentale per i processi in cui l'uniformità e la ripetibilità hanno un impatto diretto sulla qualità del prodotto finale.

Mercati di nicchia come quello della fotonica sfruttano ulteriormente i vantaggi della riduzione dei difetti e della superba qualità dei cristalli. I sistemi laser, i sensori ottici e le tecnologie di imaging ad alta risoluzione traggono vantaggio dai film chiari e stabili supportati dai substrati di tantalato di alluminio e stronzio di lantanio. Combinando la durata con una precisa corrispondenza reticolare, questo substrato offre prestazioni superiori in settori all'avanguardia che richiedono standard rigorosi di affidabilità ed efficienza.