CY8505 LAO (LaAlO3) Substrato di cristallo di alluminato di lantanio (100) 10x10x0,5 mm

LAO (LaAlO3) Substrato di cristallo di alluminato di lantanio (100) 10x10x0,5 mm Descrizione

I substrati di alluminato di lantanio (LaAlO₃) sono ampiamente riconosciuti per l'eccellente stabilità termica, la bassa perdita dielettrica e le costanti reticolari strettamente corrispondenti, che li rendono ideali per la crescita di film sottili epitassiali di alta qualità. Questo substrato di cristallo orientato 10 × 10 × 0,5 mm (100) offre una perfezione cristallina superiore e superfici levigate, garantendo una densità minima di difetti e un'uniformità ottimale. La robusta stabilità chimica del LaAlO₃ supporta inoltre un'ampia gamma di applicazioni industriali e di ricerca avanzata, tra cui dispositivi superconduttori, materiali ferroelettrici e sviluppo di elettronica a ossidi.

Prodotto secondo severi standard di qualità, ogni substrato è sottoposto a rigorosi controlli per verificare l'accuratezza dimensionale, la rugosità superficiale e la precisione di orientamento. Con una qualità superficiale costante e un'elevata omogeneità cristallina, questo substrato LaAlO₃ consente a ricercatori e ingegneri di ottenere risultati affidabili e ripetibili in ambienti difficili.

Substrato di cristallo di alluminato di lantanio LAO (LaAlO3) (100) 10x10x0,5 mm Applicazioni

I substrati di cristallo di alluminato di lantanio (LaAlO3), di dimensioni 10×10×0,5 mm e orientati lungo l'asse (100), presentano proprietà dielettriche superiori, un'elevata stabilità strutturale e un disallineamento reticolare minimo per vari film sottili. Queste caratteristiche li rendono una scelta ideale per diverse applicazioni, tra cui l'elettronica avanzata e la ricerca d'avanguardia. Di seguito sono riportate alcune delle principali modalità di utilizzo di questi substrati.

1. Applicazioni industriali

-Applicazione 1: utilizzata nella produzione di condensatori ad alta frequenza grazie all'eccellente costante dielettrica e alla stabilità, che consente prestazioni precise nei circuiti industriali più esigenti.

-Applicazione 2: impiegato per la deposizione di film sottili nei componenti per le telecomunicazioni, sfruttando la sua stabile struttura reticolare per una fabbricazione affidabile dei dispositivi.

2. Applicazioni di ricerca

-Applicazione 1: Ideale per esperimenti di crescita di film epitassiali, grazie al minimo disallineamento reticolare e alle proprietà di espansione termica.

-Applicazione 2: Utilizzato nella ricerca sull'informatica quantistica, fornisce una superficie robusta che supporta film sottili superconduttori con difetti minimi.

3. Applicazioni commerciali

-Applicazione 1: incorporati in sensori commerciali per migliorare la sensibilità e la durata, beneficiando delle loro caratteristiche strutturali superiori.

-Applicazione 2: integrazione in tecnologie di visualizzazione avanzate, per favorire lo sviluppo di schermi di nuova generazione che richiedono materiali di substrato stabili.

Substrato di cristallo di alluminato di lantanio LAO (LaAlO3) (100) 10x10x0,5 mm Confezione

Ogni substrato di cristallo di alluminato di lantanio LAO (LaAlO3) (100) 10x10x0,5 mm è confezionato in modo sicuro in una custodia di plastica a prova di ESD con imbottitura in schiuma per proteggere dagli urti. Sono poi sigillati in buste resistenti all'umidità ed etichettati per la tracciabilità. Per evitare la contaminazione, ogni substrato è avvolto in una pellicola per camera bianca. Per una conservazione prolungata, conservare in un ambiente a temperatura controllata. Su richiesta sono disponibili opzioni di confezionamento e spessore personalizzate.

Imballaggio: Sigillato sottovuoto, scatola di legno o personalizzato.

LAO (LaAlO3) Substrato di cristallo di alluminato di lantanio (100) 10x10x0,5 mm FAQs

Q1: Quali sono le principali proprietà del materiale LAO (LaAlO3) Substrato di cristallo di alluminato di lantanio (100) 10x10x0,5 mm?

A1: LaAlO3 è un cristallo pseudocubico con un'elevata costante dielettrica, una buona stabilità termica e basse correnti di dispersione, che lo rendono adatto per applicazioni microelettroniche e film superconduttori. Ha una costante reticolare vicina a quella di molti epilayer a base di ossido, che facilita la crescita epitassiale. Con una durezza di circa 6,5 sulla scala Mohs, presenta una moderata resistenza ai graffi. L'orientamento (100) assicura una deposizione uniforme del film.

D2: Come deve essere maneggiato e conservato questo prodotto?

A2: Gli operatori devono maneggiare i substrati LAO con guanti puliti e privi di polvere per evitare la contaminazione della superficie o i micrograffi. Evitare il contatto diretto con le mani nude e utilizzare sempre pinzette pulite o supporti specializzati per i substrati. Conservare i substrati in un ambiente a bassa umidità e privo di polvere, preferibilmente in scatole antistatiche per ridurre l'accumulo elettrostatico. Evitare prodotti chimici aggressivi e l'esposizione prolungata all'umidità. Una pulizia delicata con alcol isopropilico può aiutare a rimuovere i contaminanti leggeri senza danneggiare la superficie.

D3: Quali standard di qualità e certificazioni si applicano al substrato di cristallo di alluminato di lantanio LAO (LaAlO3) (100) 10x10x0,5 mm?

A3: I substrati LAO di alta qualità soddisfano in genere le rigorose tolleranze dimensionali, la planarità e le specifiche di rugosità superficiale richieste dalle industrie dei semiconduttori e dell'ottica. Molti fornitori aderiscono ai sistemi di gestione della qualità ISO 9001, che garantiscono la tracciabilità e la costanza delle prestazioni dei prodotti. I substrati possono essere sottoposti a rigorose ispezioni per individuare eventuali difetti come schegge, bolle o inclusioni. Inoltre, alcuni produttori forniscono certificati di conformità e orientamenti cristallografici accuratamente misurati, a conferma che i substrati soddisfano gli standard industriali e applicativi richiesti.

Informazioni correlate

1. Proprietà e vantaggi del materiale

Questo substrato di cristallo di alluminato di lantanio LAO (LaAlO₃), orientato a (100) e prodotto in un formato di 10x10x0,5 mm, è noto per la sua eccellente corrispondenza cristallografica con una varietà di materiali a film sottile. La sua struttura cubica stabile a temperatura ambiente offre un mismatch reticolare costantemente basso, rendendolo ideale per una crescita eteroepitassiale di alta qualità e per prestazioni di alto livello nella fabbricazione di dispositivi.

Proprietà chimiche stabili e una costante dielettrica relativamente alta distinguono questo substrato LAO da altri materiali ossidati. La sua robustezza gli consente di tollerare condizioni di lavorazione impegnative, come le fasi di deposizione ad alta temperatura, mantenendo una finitura superficiale superiore che supporta una precisa uniformità del film. Questo livello di affidabilità garantisce risultati costanti nell'integrazione di strati complessi di semiconduttori, superconduttori o ferroelettrici.

2. Applicazioni in industrie avanzate

Le principali strutture di ricerca e le linee di produzione di vari settori, tra cui la microelettronica e l'optoelettronica, si affidano ai substrati LAO (LaAlO₃) (100) per lo sviluppo di prototipi e la produzione in grandi volumi. Le sue dimensioni di 10x10x0,5 mm semplificano la manipolazione e l'orientamento cristallografico aiuta a ottenere un esatto allineamento epitassiale, fondamentale per la costruzione di dispositivi sensibili alla struttura e alla qualità dell'interfaccia.

L'utilizzo di questo substrato cristallino ha ampliato le opportunità per le industrie che desiderano sfruttare materiali avanzati per filtri ottici di nuova generazione, risonatori e componenti microelettronici ad alta frequenza. La ridotta densità di difetti e la superficie uniforme consentono di creare dispositivi con proprietà elettromagnetiche superiori, aumentando le prestazioni complessive in applicazioni all'avanguardia.