CY8504 LAO (LaAlO3) Substrato di cristallo di alluminato di lantanio (111) 5x5x0,5 mm

LAO (LaAlO3) Substrato di cristallo di alluminato di lantanio (111) 5x5x0,5 mm Descrizione

Il LaAlO₃ (alluminato di lantanio) è un robusto substrato monocristallino noto per le sue eccellenti proprietà di corrispondenza reticolare e l'elevata stabilità termica. L'orientamento (111) offre una superficie uniforme, ideale per la crescita di film sottili di perovskite, superconduttori ad alta temperatura e materiali diversificati a base di ossidi. Le dimensioni di 5×5×0,5 mm assicurano un fattore di forma compatto adatto sia alla ricerca che alla produzione industriale.

Prodotto sotto rigorosi controlli di qualità, questo substrato LaAlO₃ presenta una bassa densità di dislocazioni e una rugosità superficiale minima, che si traducono in una piattaforma eccellente per la deposizione di strati epitassiali avanzati. L'orientamento cristallografico ben definito garantisce una crescita epitassiale precisa, mentre la tolleranza di spessore strettamente controllata e la planarità della superficie mantengono gli standard chiave per la ricerca sui materiali funzionali. Questa combinazione di prestazioni e affidabilità ne fa una scelta indispensabile per le applicazioni di elettronica e optoelettronica d'avanguardia.

LAO (LaAlO3) Substrato di cristallo di alluminato di lantanio (111) 5x5x0,5 mm Applicazioni

I cristalli di alluminato di lantanio (LaAlO3) offrono una combinazione unica di elevata stabilità strutturale, eccellente conducibilità termica e bassa tangente di perdita a microonde, che li rende ideali per una serie di applicazioni avanzate. L'orientamento (111), unito alle dimensioni precise di 5×5×0,5 mm, garantisce prestazioni affidabili, soprattutto nei casi in cui è fondamentale un'accurata corrispondenza reticolare. Questi substrati aprono nuove possibilità nei settori industriale, della ricerca e commerciale, supportando sviluppi tecnologici all'avanguardia.

1. Applicazioni industriali

-Applicazione 1: Ideale per la produzione di dispositivi ad alta frequenza, grazie alla bassa perdita di microonde e alla capacità del cristallo di mantenere un'integrità strutturale superiore durante le fluttuazioni di temperatura.

-Applicazione 2: Utilizzato nei processi di produzione di semiconduttori per la deposizione di film sottili di alta qualità, grazie alle eccezionali proprietà di corrispondenza reticolare del cristallo.

2. Applicazioni di ricerca

-Applicazione 1: serve come substrato chiave per la crescita epitassiale di film di ossidi complessi, consentendo studi avanzati sulla superconduttività e sul comportamento elettronico quantistico.

-Applicazione 2: impiegato in esperimenti di scienza dei materiali che esplorano l'elevata costante dielettrica del cristallo per sviluppare nuove tecnologie elettroniche e fotoniche.

3. Applicazioni commerciali

-Applicazione 1: utilizzata nella produzione di sensori per dispositivi di monitoraggio ambientale di precisione, sfruttando la stabilità del cristallo in condizioni variabili.

-Applicazione 2: contribuisce allo sviluppo di componenti ottici ad alte prestazioni che beneficiano della sua eccellente trasparenza e delle sue proprietà uniformi.

LAO (LaAlO3) Cristallo di alluminato di lantanio Substrato (111) 5x5x0,5 mm Confezione

I substrati di LaAlO₃ (111) di 5×5×0,5 mm sono imballati in modo sicuro in un contenitore rivestito di schiuma per ridurre al minimo gli urti. Ogni cristallo è sigillato in una busta antistatica per preservare la purezza e bloccare i contaminanti. Per una durata ottimale, conservare in un ambiente pulito e a bassa umidità (inferiore al 60% di umidità relativa). Su richiesta è possibile aggiungere ulteriori strati protettivi. Sono disponibili configurazioni personalizzate di etichettatura, tracciabilità dei lotti e confezionamento per soddisfare le diverse esigenze e garantire una consegna affidabile.

Imballaggio: Sigillato sotto vuoto, scatola di legno o personalizzato.

LAO (LaAlO3) Substrato di cristallo di alluminato di lantanio (111) 5x5x0,5 mm FAQs

Q1: Quali sono le principali proprietà del materiale LAO (LaAlO3) Substrato di cristallo di alluminato di lantanio (111) 5x5x0,5 mm?

A1: LaAlO3 (LAO) è un ossido monocristallino con una struttura perovskite romboedrica che diventa pseudocubica al di sopra dei 435°C circa. Presenta un disadattamento reticolare relativamente basso rispetto a molti film sottili funzionali di perovskite, il che lo rende un substrato eccellente. Il parametro reticolare è di circa 3,79 Å e presenta una buona stabilità termica, una costante dielettrica moderata (~24) e un coefficiente di espansione termica vicino a quello delle perovskiti tipiche.

D2: Come deve essere maneggiato e conservato questo prodotto per evitare danni o contaminazioni?

A2: Poiché i substrati LAO sono intrinsecamente fragili e possono rompersi sotto stress, devono essere maneggiati con guanti puliti e privi di lanugine e con pinzette di precisione per evitare contaminazioni o graffi. Teneteli lontani da sostanze chimiche aggressive ed evitate gli sbalzi di temperatura che possono provocare fratture. Conservare i substrati in contenitori privi di polvere o in cassette per wafer in condizioni di bassa umidità e ispezionarli regolarmente per verificare la presenza di eventuali contaminanti superficiali prima della deposizione del film sottile.

D3: Quali standard di qualità e certificazioni si applicano al substrato di cristallo di alluminato di lantanio LAO (LaAlO3) (111) 5x5x0,5 mm?

A3: I substrati di LaAlO3 (111) sono generalmente prodotti in base alla gestione della qualità ISO 9001:2015 per garantire un'accuratezza di orientamento costante, precisione dimensionale e levigatezza della superficie. Spesso seguono le linee guida SEMI per l'orientamento dei cristalli e la geometria dei wafer. La diffrazione a raggi X è comunemente utilizzata per verificare la qualità del cristallo, mentre la microscopia a forza atomica controlla la rugosità della superficie a livelli sub-nanometrici, garantendo un'elevata ripetibilità e affidabilità per la crescita epitassiale avanzata.

Informazioni correlate

1. Processo di produzione

La produzione di substrati di cristallo di alluminato di lantanio LAO (LaAlO3) (111) 5x5x0,5 mm prevede un ambiente attentamente controllato che garantisce la massima precisione e purezza. Tecnici esperti segmentano inizialmente il lingotto di cristallo in pezzi uniformi di 5x5 mm, utilizzando metodi di taglio specializzati progettati per ridurre al minimo le microfratture. Vengono quindi impiegate tecniche di lucidatura meticolose per ottenere lo spessore standard di 0,5 mm, preservando l'integrità del cristallo e ottenendo una superficie liscia, fondamentale per i dispositivi elettronici e fotonici di prossima generazione.

Durante le fasi successive, protocolli di pulizia completi eliminano qualsiasi abrasione residua o detrito di particelle. L'immersione ad ultrasuoni ad alta frequenza in soluzioni chimiche accuratamente selezionate è comunemente utilizzata per rimuovere i contaminanti microscopici prima dell'ispezione finale. Questo rigoroso processo conferma sia l'accuratezza dimensionale che l'orientamento dei cristalli, garantendo che ogni substrato LAO soddisfi gli esigenti requisiti del settore in termini di affidabilità e prestazioni.

2. Applicazioni nelle industrie avanzate

Un'ampia gamma di industrie avanzate si affida ai substrati di cristallo di alluminato di lantanio LAO (LaAlO3) (111) 5x5x0,5 mm per consentire un funzionamento superiore dei dispositivi. I produttori di semiconduttori incorporano questi substrati nei componenti per l'elaborazione dei dati ad alta velocità, sfruttando l'eccellente conduttività termica e le proprietà dielettriche del materiale. Inoltre, i ricercatori nei settori della fotonica e della spintronica utilizzano il LAO per facilitare la crescita di intricati strati epitassiali, rendendolo un componente prezioso per le tecnologie basate sulla luce di prossima generazione.

Nei laboratori che si occupano di sistemi energetici emergenti, i substrati di LAO svolgono un ruolo fondamentale nella fabbricazione di rivestimenti a film sottile specializzati. Questi rivestimenti richiedono un substrato con un'uniformità strutturale eccezionale e LAO soddisfa questa esigenza garantendo al contempo un disallineamento reticolare minimo. Sostenendo lo sviluppo di dispositivi all'avanguardia in diversi settori high-tech, i substrati di cristallo LAO continuano a essere una pietra miliare per l'innovazione e il progresso tecnologico.