CY8303 Substrato di cristallo di zaffiro in ossido di alluminio, piano R in Al2O3 (1-102) Dia. 50,8 mm x 0,5 mm

Substrato di cristallo di zaffiro all'ossido di alluminio, piano R di Al2O3 (1-102) Dia. 50,8 mm x 0,5 mm Descrizione

I substrati di cristallo di zaffiro all'ossido di alluminio (Al₂O₃) vantano un'eccezionale resistenza meccanica, stabilità chimica ed elevata conducibilità termica, che li rendono una base ideale per varie applicazioni ad alte prestazioni. Questo substrato di zaffiro R-plane (1-102) presenta un diametro di 50,8 mm e uno spessore di 0,5 mm, offrendo un'ampia superficie e uno spessore uniforme per la crescita epitassiale. Il suo orientamento cristallografico unico garantisce proprietà ottimali per la fabbricazione di dispositivi avanzati, tra cui l'optoelettronica, l'elettronica ad alta frequenza e i laser a semiconduttore.

Ogni substrato è sottoposto a rigorosi controlli di qualità per verificare l'orientamento dei cristalli, la lucidatura e la planarità della superficie. Prodotto per soddisfare i rigorosi standard industriali, presenta difetti minimi, garantendo prestazioni affidabili anche negli sviluppi commerciali e di ricerca più impegnativi. Che si tratti della produzione di LED o di intricate matrici di sensori, questo substrato di zaffiro di elevata purezza offre risultati affidabili quando la precisione e la durata sono più importanti.

Substrato di cristallo di zaffiro all'ossido di alluminio, piano R di Al2O3 (1-102) Dia. 50,8 mm x 0,5 mm Applicazioni

Substrato di cristallo di zaffiro in ossido di alluminio (Al2O3 R-Plane (1-102) Dia. 50,8 mm x 0,5 mm) offre resistenza meccanica, chiarezza ottica e inerzia chimica. Grazie all'elevata conducibilità termica e alla bassa perdita dielettrica, è ideale per processi impegnativi come la crescita di dispositivi a semiconduttore e l'ottica avanzata. Il suo orientamento preciso supporta anche applicazioni uniche di crescita epitassiale, rendendolo indispensabile in diversi settori industriali e di ricerca.

1. Applicazioni industriali

- Applicazione 1: Ideale per forni ad alta temperatura grazie all'eccellente stabilità termica e alla resistenza all'usura.

- Applicazione 2: Utilizzato in ambienti chimici difficili, dove la resistenza alla corrosione garantisce la longevità delle apparecchiature.

2. Applicazioni di ricerca

- Applicazione 1: Serve come piattaforma stabile per la deposizione di film sottili orientati al piano R nello sviluppo di semiconduttori.

- Applicazione 2: consente una sperimentazione ottica precisa e indagini basate sul laser grazie alla minima dispersione e all'elevata trasparenza.

3. Applicazioni commerciali

- Applicazione 1: fornisce substrati robusti per tecnologie avanzate di sensori nell'elettronica di consumo.

- Applicazione 2: Migliora la durata dei componenti ottici utilizzati nei dispositivi medici e di imaging.

Substrato di cristallo di zaffiro all'ossido di alluminio, piano R di Al2O3 (1-102) Dia. 50,8 mm x 0,5 mm Imballaggio

Questi substrati di cristallo di zaffiro all'ossido di alluminio sono racchiusi in contenitori protettivi di plastica con inserti di schiuma per evitare danni meccanici. Un ambiente sigillato sotto vuoto o con azoto contribuisce a ridurre l'intrusione di umidità e particelle. Conservarli in un'area pulita, a temperatura controllata e con livelli di umidità stabili. Ulteriori misure anticontaminazione, come le buste sigillate, garantiscono la pulizia. Le opzioni di personalizzazione includono spessori alternativi, finiture superficiali e dimensioni personalizzate per esigenze particolari.

Imballaggio: Sigillato sotto vuoto, scatola di legno o personalizzato.

Substrato di cristallo di zaffiro all'ossido di alluminio, piano R di Al2O3 (1-102) Dia. 50,8 mm x 0,5 mm Domande frequenti

Q1: Quali sono le principali proprietà del materiale del substrato di cristallo di zaffiro in ossido di alluminio, Al2O3 R-Plane (1-102) Dia. 50,8 mm x 0,5 mm?

A1: Il substrato di zaffiro Al2O3 R-plane è noto per l'eccezionale stabilità termica, l'elevata resistenza meccanica, l'eccellente resistenza chimica e l'ottima trasparenza ottica. Composto principalmente da ossido di alluminio monocristallino, offre una durezza Mohs di 9, una planarità superficiale superiore e un basso coefficiente di espansione termica. L'orientamento del piano R allinea con precisione i piani cristallini per l'epitassia avanzata e garantisce un mismatch reticolare minimo nei processi di epitassia a fascio molecolare o di deposizione di film sottili.

D2: Come deve essere maneggiato e conservato questo prodotto?

A2: Quando si maneggiano questi substrati di zaffiro di precisione, utilizzare sempre guanti da camera bianca ed evitare di esercitare una pressione meccanica eccessiva per evitare graffi o scheggiature. Conservarli in contenitori antistatici, privi di polvere e dotati di imbottitura di sostegno per mantenere l'integrità della superficie. Mantenere un ambiente stabile con bassa umidità e minime fluttuazioni di temperatura per ridurre lo stress. Prima dell'uso, si raccomanda una pulizia accurata con solventi approvati o acqua ultrapura.

D3: Quali standard di qualità e certificazioni si applicano al substrato di cristallo di zaffiro in ossido di alluminio, Al2O3 R-Plane (1-102) Dia. 50,8 mm x 0,5 mm?

A3: I produttori di solito aderiscono agli standard di gestione della qualità ISO 9001 e di gestione ambientale ISO 14001 per una produzione coerente e sostenibile. Ogni lotto è sottoposto a un'ispezione rigorosa per quanto riguarda l'orientamento cristallografico, la rugosità della superficie e le tolleranze dimensionali per garantire la conformità ai parametri di riferimento del settore. La produzione soddisfa spesso le specifiche MIL-STD o equivalenti per i flat ottici, garantendo uno spessore uniforme, impurità minime e prestazioni stabili per applicazioni avanzate di semiconduttori, fotonica o ricerca.

Informazioni correlate

1. Processo di produzione

L'attenzione ai dettagli è essenziale per la produzione del substrato di cristallo di zaffiro in ossido di alluminio, Al2O3 R-Plane (1-102) Dia. 50,8 mm x 0,5 mm. La materia prima di allumina di elevata purezza viene fusa meticolosamente e solidificata in modo direzionale utilizzando tecniche avanzate di crescita dei cristalli, come la crescita Czochralski o la crescita con film definito ai bordi. Questa fase garantisce una disposizione molecolare uniforme che supporta prestazioni elettriche e ottiche costanti sull'intera superficie di 50,8 mm di diametro.

Per ottenere l'orientamento del piano R, tecnici esperti impiegano metodi di taglio precisi che producono substrati con l'allineamento cristallino (1-102). Una volta tagliato, ogni wafer viene lappato e lucidato a livelli progressivamente più fini finché la rugosità della superficie non soddisfa le specifiche più severe. Il risultato finale è un substrato di 0,5 mm di spessore, caratterizzato da un'eccezionale integrità strutturale, che lo rende particolarmente adatto a sofisticati processi di fabbricazione di film sottili e dispositivi.

2. Applicazioni nelle industrie avanzate

Il substrato di cristallo di zaffiro all'ossido di alluminio, Al2O3 R-Plane (1-102) Dia. 50,8 mm x 0,5 mm è diventato un componente integrale delle tecnologie di nuova generazione. La sua notevole durezza meccanica e l'orientamento cristallino stabile consentono di migliorare l'affidabilità della strumentazione aerospaziale e di una serie di sistemi ottici basati su laser. Inoltre, la sua bassa perdita dielettrica e l'elevata conduttività termica lo rendono prezioso per i dispositivi a microonde ad alta frequenza.

Diversi settori ad alte prestazioni impiegano questo substrato di zaffiro con piano R per costruire robuste piattaforme di sensori e componenti di potenza. Il suo spessore di 0,5 mm consente di eseguire complesse operazioni di microfabbricazione, ottenendo prodotti più piccoli ed efficienti. I ricercatori che esplorano nuove architetture di dispositivi sfruttano anche l'orientamento unico del substrato, che produce una crescita epitassiale a film sottile di qualità superiore, favorendo l'innovazione nelle applicazioni industriali avanzate.