CY8301 Substrato di cristallo di zaffiro all'ossido di alluminio, piano R di Al2O3 (1-102) 5 x 5 x 0,5 mm

Substrato di cristallo di zaffiro all'ossido di alluminio, Al2O3 piano R (1-102) 5 x 5 x 0,5 mm Descrizione

Il nostro substrato di cristallo di zaffiro all'ossido di alluminio (Al₂O₃) in configurazione piano R (1-102) offre rigidità, stabilità termica e chiarezza ottica eccezionali. Con dimensioni di 5 x 5 x 0,5 mm, questo substrato garantisce una struttura cristallina uniforme che ottimizza le prestazioni del dispositivo sia in ambienti di ricerca che di produzione. Grazie all'eccellente costante dielettrica e all'elevata resistenza alla corrosione, è ideale per applicazioni ad alta temperatura e in condizioni operative difficili.

Prodotto secondo rigorosi standard di qualità, ogni substrato presenta un controllo preciso dello spessore e difetti superficiali minimi, garantendo risultati costanti da un lotto all'altro. L'orientamento del piano R fornisce caratteristiche reticolari uniche, utili nei processi di crescita epitassiale per LED, laser e altri componenti optoelettronici. Scegliete il nostro substrato di cristallo di zaffiro per la sua comprovata affidabilità, che vi consentirà di sviluppare con fiducia tecnologie all'avanguardia.

Substrato di cristallo di zaffiro all'ossido di alluminio, Al2O3 R-Plane (1-102) 5 x 5 x 0,5 mm Applicazioni

Il substrato di cristallo di zaffiro all'ossido di alluminio, piano R di Al2O3 (1-102), che misura 5 x 5 x 0,5 mm, offre un'eccezionale resistenza meccanica, stabilità termica e chiarezza ottica, che lo rendono indispensabile in numerosi campi. Il suo ruolo autorevole nelle applicazioni dei materiali avanzati deriva dalla bassa perdita dielettrica, dall'elevata conduttività termica e dall'inerzia chimica. Di seguito sono riportati solo alcuni dei potenziali impieghi di questo substrato robusto e versatile.

1. Applicazioni industriali

- Confezionamento a livello di wafer: Le eccellenti proprietà termiche e meccaniche del substrato di zaffiro R-plane consentono processi stabili di incollaggio dei wafer nella microelettronica.

- Produzione di LED ad alta intensità: La sua chiarezza ottica e l'elevata tolleranza alle temperature garantiscono un'efficiente dissipazione del calore e una maggiore longevità dei dispositivi.

2. Applicazioni di ricerca

- Prove di crescita eteroepitassiale: La struttura reticolare unica supporta la crescita di vari semiconduttori composti, favorendo lo sviluppo di nuovi materiali.

- Prototipi di calcolo quantistico: La bassa perdita dielettrica e la stabilità chimica aprono la strada ai risonatori dei circuiti nei bit quantistici.

3. Applicazioni commerciali

- Ottica compatibile con i laser: L'eccezionale trasparenza e durata rendono questi substrati perfetti per i dispositivi ottici avanzati nei prodotti di consumo.

- Superfici protettive: La resistenza ai graffi e la durezza superiori migliorano la durata dei prodotti, in particolare nell'elettronica portatile di alta qualità.

Substrato di cristallo di zaffiro all'ossido di alluminio, Al2O3 R-Plane (1-102) 5 x 5 x 0,5 mm Confezione

Ogni substrato di cristallo di zaffiro all'ossido di alluminio è confezionato in un contenitore protettivo a conchiglia rivestito di schiuma, che lo protegge da eventuali danni fisici. I substrati sono sigillati in sacchetti antistatici per ridurre al minimo la contaminazione. Devono essere conservati in un ambiente pulito e a umidità controllata inferiore al 40% RH. Ulteriori strati di filtrazione assicurano un'esposizione minima al particolato. Dalle variazioni di spessore alle forme personalizzate, sono disponibili diverse opzioni di personalizzazione per soddisfare i requisiti specifici del progetto.

Imballaggio: Sigillato sotto vuoto, scatola di legno o personalizzato.

Substrato di cristallo di zaffiro all'ossido di alluminio, Al2O3 R-Plane (1-102) 5 x 5 x 0,5 mm Domande frequenti

Q1: Quali sono le principali proprietà del materiale del substrato di cristallo di ossido di alluminio zaffiro, Al2O3 R-Plane (1-102) 5 x 5 x 0,5 mm?

A1: I substrati in ossido di alluminio zaffiro (Al2O3) con piano R presentano un'eccellente resistenza meccanica e stabilità chimica. Con una durezza pari a 9 sulla scala Mohs, resistono ai graffi e alle alte temperature, fino a 2000°C. Vantano una buona conducibilità termica (circa 30 W/mK) e una bassa perdita dielettrica, oltre a presentare un'elevata trasparenza ottica negli intervalli IR, visibile e UV. Queste proprietà li rendono ideali per le applicazioni optoelettroniche.

D2: Come deve essere maneggiato e conservato questo prodotto?

A2: Per garantire una manipolazione sicura, indossare sempre guanti senza polvere e utilizzare pinzette pulite quando si manipola il substrato. Evitare il contatto diretto con la superficie per ridurre al minimo la contaminazione e i graffi. Conservare ogni substrato in un apposito supporto per wafer o in un contenitore protettivo, lontano da umidità e polvere. Mantenere un ambiente a temperatura stabile per evitare shock termici. Ispezionare e pulire regolarmente il substrato come richiesto per mantenere le prestazioni.

D3: Quali standard di qualità e certificazioni si applicano al substrato di cristallo di zaffiro all'ossido di alluminio, Al2O3 R-Plane (1-102) 5 x 5 x 0,5 mm?

A3: Questi substrati sono in genere conformi a rigorosi parametri di riferimento del settore, come ISO 9001 per la gestione della qualità e ISO 14001 per la responsabilità ambientale. I fornitori eseguono spesso rigorose ispezioni ottiche e cristallografiche, tra cui misure di rugosità superficiale, analisi di diffrazione dei raggi X e verifica dell'orientamento. Vengono rilasciate certificazioni a livello di lotto che specificano la purezza, l'orientamento dei cristalli e la densità dei difetti. Questi standard garantiscono prestazioni costanti per le applicazioni optoelettroniche e di semiconduttori più esigenti.

Informazioni correlate

1. Proprietà e vantaggi del materiale

Ricavato da ossido di alluminio di elevata purezza, il substrato di cristallo di zaffiro Al2O3 R-Plane (1-102) misura 5 x 5 x 0,5 mm e garantisce una finitura superficiale eccezionalmente uniforme. Questo orientamento specifico produce una struttura cristallografica stabile che resiste ai processi ad alta temperatura, rendendola particolarmente adatta alla crescita epitassiale complessa.

Un altro vantaggio notevole di questo substrato con piano R è la sua eccellente conducibilità termica, che consente un'efficace dissipazione del calore nelle applicazioni più impegnative. La sua bassa perdita dielettrica, combinata con una resistenza meccanica superiore, supporta l'integrazione di strati semiconduttori delicati, mantenendo la rigidità necessaria per la fabbricazione di dispositivi sofisticati.

2. Applicazioni nelle industrie avanzate

Ampiamente utilizzato nella produzione di dispositivi optoelettronici ad alte prestazioni, questo substrato in cristallo di zaffiro di 5 x 5 x 0,5 mm trova ampio consenso negli istituti di ricerca all'avanguardia. Ad esempio, l'orientamento del piano R apre la strada allo sviluppo di diodi laser specializzati, array di sensori e circuiti ottici integrati.

Altrettanto cruciale è il suo contributo ai sistemi aerospaziali e di difesa, dove i materiali robusti sono essenziali per le condizioni ambientali estreme. Fornendo stabilità in ambienti difficili, il substrato Al2O3 R-plane consente lo sviluppo innovativo di sistemi di puntamento avanzati, sensori e componenti robusti che richiedono un'eccezionale stabilità termica e meccanica.