CY8299 Substrato di cristallo di zaffiro all'ossido di alluminio, Al2O3 M-Plane 10 x 10 x 0,5 mm

Substrato di cristallo di zaffiro all'ossido di alluminio, Al2O3 M-Plane 10 x 10 x 0,5 mm Descrizione

I substrati in ossido di alluminio (Al₂O₃) con piano M in zaffiro sono rinomati per l'eccellente conduttività termica, la stabilità chimica e l'elevata resistenza meccanica. Misurando 10 × 10 × 0,5 mm, questi substrati presentano una finitura superficiale priva di difetti che supporta una precisa crescita epitassiale di materiali avanzati, come i composti III-V. L'orientamento del piano M offre vantaggi unici, tra cui un ridotto disallineamento del reticolo e una minore sollecitazione durante l'epitassia, rendendolo una scelta preferenziale per i dispositivi optoelettronici, i LED e i sensori ad alta temperatura.

Prodotto secondo rigorosi standard di qualità, ogni substrato è sottoposto a rigorose ispezioni per garantire l'accuratezza dimensionale e una qualità superficiale costante. Questi substrati non solo garantiscono un'affidabilità a lungo termine in ambienti eccezionalmente difficili, ma migliorano anche le prestazioni dei dispositivi grazie alla riduzione al minimo della densità dei difetti. Sia che vengano utilizzati nella ricerca d'avanguardia o in applicazioni commerciali, i substrati di zaffiro Al₂O₃ M-plane forniscono la base affidabile necessaria per le tecnologie di prossima generazione.

Substrato di cristallo di zaffiro all'ossido di alluminio, Al2O3 M-Plane 10 x 10 x 0,5 mm Applicazioni

Il substrato di cristallo di zaffiro all'ossido di alluminio (Al2O3 M-Plane) è noto per la sua notevole stabilità chimica, l'elevata conducibilità termica e la superiore resistenza meccanica. Questo substrato di 10 x 10 x 0,5 mm offre una base versatile per numerose applicazioni nelle tecnologie avanzate. Inoltre, l'eccezionale qualità cristallina e la trasparenza ottica lo rendono ideale per la ricerca, l'industria e gli usi commerciali che richiedono prestazioni affidabili.

1. Applicazioni industriali

- Produzione di LED ad alta potenza: L'eccellente conduttività termica e la durata del substrato favoriscono un'efficiente dissipazione del calore, garantendo un'illuminazione stabile.

- Componenti di reattori ad alta temperatura: L'inerzia chimica e la robustezza meccanica del cristallo gli consentono di resistere a condizioni di processo difficili.

2. Applicazioni di ricerca

- Studi di crescita epitassiale: La struttura cristallina uniforme del substrato aiuta i ricercatori a studiare nuovi strati di materiale e a ottimizzare la deposizione di film sottili.

- Sviluppo di sensori ottici: La chiarezza ottica e la stabilità della superficie consentono un rilevamento e una misurazione precisi in varie condizioni sperimentali.

3. Applicazioni commerciali

- Confezionamento di diodi laser: L'eccellente gestione termica e la stabilità del substrato preservano la longevità dei componenti sensibili dei diodi.

- Cristalli per orologi resistenti all'usura: La sua durezza e la sua resistenza ai graffi garantiscono una chiarezza e una durata durature nell'elettronica di consumo.

Substrato di cristallo di zaffiro all'ossido di alluminio, Al2O3 M-Plane 10 x 10 x 0,5 mm Confezione

Ogni substrato di cristallo di zaffiro all'ossido di alluminio (Al2O3, piano M) 10 × 10 × 0,5 mm è confezionato in un supporto antistatico per wafer con inserti in schiuma per proteggerlo da danni meccanici. Una busta sigillata e priva di polvere fornisce un ulteriore controllo della contaminazione. Conservare il substrato in un ambiente a temperatura e umidità controllate per preservarne la purezza. Siamo in grado di realizzare spessori, bordi o forme personalizzate per soddisfare le diverse esigenze di ricerca e produzione.

Imballaggio: Sigillato sotto vuoto, scatola di legno o personalizzato.

Substrato di cristallo di zaffiro all'ossido di alluminio, Al2O3 M-Plane 10 x 10 x 0,5 mm Domande frequenti

Q1: Quali sono le principali proprietà del materiale del substrato di cristallo di zaffiro in ossido di alluminio, Al2O3 M-Plane 10 x 10 x 0,5 mm?

A1: Questo substrato deriva da una struttura di corindone monocristallino con orientamento sul piano M che garantisce proprietà anisotrope specifiche utili per la fabbricazione dei dispositivi. Offre un'elevata conducibilità termica, un'eccellente inerzia chimica e un'eccezionale resistenza meccanica con una durezza Mohs di 9. Il materiale offre una trasmissione ottica superiore dall'ultravioletto al medio infrarosso e un mismatch reticolare minimo per l'epitassia basata sul nitruro. Ha una bassa rugosità superficiale e una precisa tolleranza di spessore.

D2: Come deve essere maneggiato e conservato questo prodotto?

A2: È fondamentale maneggiare ogni substrato con guanti puliti e privi di pelucchi per evitare contaminazioni o graffi sulla superficie a specchio. Utilizzare contenitori di stoccaggio dedicati con inserti ammortizzanti per evitare scheggiature lungo i bordi. Mantenere una camera bianca o un ambiente a polvere controllata con temperatura e umidità stabili. Per la pulizia, utilizzare sempre materiali non abrasivi ed evitare bruschi sbalzi di temperatura che potrebbero causare stress termico.

Q3: Quali standard di qualità e certificazioni si applicano al substrato di cristallo di zaffiro in ossido di alluminio, Al2O3 M-Plane 10 x 10 x 0,5 mm?

A3: I substrati di cristallo di zaffiro all'ossido di alluminio sono comunemente conformi alle linee guida ISO 9001 per la gestione della qualità, garantendo la tracciabilità e la costanza delle prestazioni. Spesso soddisfano gli standard SEMI per le tolleranze di dimensione e planarità dei wafer, oltre ad avere specifiche di qualità superficiale definite, come graffi e buchi minimi. Alcuni fornitori forniscono dati metrologici certificati, che confermano l'accuratezza dell'orientamento del substrato, l'uniformità dello spessore e i livelli accettabili di difetti del cristallo per le applicazioni di dispositivi avanzati.

Informazioni correlate

1. Processo di produzione

Per ottenere l'elevata purezza di ciascun substrato di cristallo di ossido di alluminio e zaffiro, Al2O3 M-Plane 10 x 10 x 0,5 mm, viene impiegata una precisione meticolosa. Tecniche avanzate di crescita dei cristalli, come il metodo Kyropoulos, assicurano uno sviluppo uniforme dei cristalli, consentendo al contempo un controllo ottimale sulla formazione dei difetti. Durante questa fase, vengono monitorati parametri rigorosi in modo che l'orientamento del piano M rimanga stabile, il che è fondamentale per mantenere coerenti le proprietà ottiche e meccaniche di ciascun wafer.

Per sottolineare la qualità e la coerenza, il substrato viene accuratamente tagliato e lucidato per ottenere le dimensioni di 10 x 10 x 0,5 mm, mantenendo uno spessore e una planarità uniformi. Molteplici fasi di lucidatura con abrasivi progressivamente più fini consentono di ottenere una finitura ultra-liscia, riducendo al minimo i difetti superficiali che potrebbero interferire con i processi a valle. Il risultato finale è un substrato che soddisfa i criteri rigorosi per la ricerca accademica e industriale, sottolineando l'affidabilità per la fabbricazione di dispositivi di fascia alta.

2. Applicazioni nelle industrie avanzate

Destinato ai settori che richiedono una tolleranza superiore alla temperatura e una stabilità chimica, questo substrato in cristallo di zaffiro con piano M trova ampio impiego nella microelettronica e nell'optoelettronica. Fornisce una solida piattaforma per la crescita epitassiale di semiconduttori composti e altri film sottili, consentendo la creazione di circuiti integrati e sensori altamente efficienti. Le sue eccellenti proprietà dielettriche facilitano ulteriormente lo sviluppo di dispositivi fotonici avanzati in cui è essenziale ridurre al minimo la perdita di segnale.

Anche le tecnologie innovative nel settore aerospaziale e della difesa si affidano alle caratteristiche precise dei substrati M-plane per una gestione termica e una resistenza alle radiazioni superiori. Il fattore di forma 10 x 10 x 0,5 mm garantisce la compatibilità con un'ampia gamma di apparecchiature di fabbricazione all'avanguardia, consentendo flussi di lavoro semplificati. Di conseguenza, questo substrato in cristallo di zaffiro rimane indispensabile per applicazioni rivoluzionarie nelle comunicazioni di prossima generazione, nell'elettronica ad alta potenza e nei sistemi ottici di precisione.