CY8296 Substrato di cristallo di zaffiro all'ossido di alluminio, Al2O3 A-Plane (11-20) 10 x 10 x 0,5 mm

Substrato di cristallo di zaffiro all'ossido di alluminio, Al2O3 piano A (11-20) 10 x 10 x 0,5 mm Descrizione

Il nostro substrato di cristallo di zaffiro all'ossido di alluminio, piano A (11-20), è un materiale di elevata purezza, a cristallo singolo, progettato per soddisfare i più severi requisiti di prestazione. Lo zaffiro (Al2O3) è rinomato per la sua eccezionale conducibilità termica, stabilità chimica e durezza superiore, che lo rendono ideale per applicazioni microelettroniche e optoelettroniche avanzate. L'orientamento del cristallo lungo il piano A (11-20) assicura una superficie stabile per la crescita epitassiale, mentre le dimensioni di 10 x 10 x 0,5 mm forniscono una piattaforma standardizzata per le esigenze di ricerca e produzione.

Ogni substrato è sottoposto a un rigoroso controllo di qualità per garantire una bassa rugosità superficiale, tolleranze dimensionali ristrette e una densità minima di difetti. Ciò assicura risultati costanti nei processi di alta precisione, come i dispositivi ad alta frequenza, lo sviluppo di sensori e l'ottica laser. Grazie a questi standard rigorosi, il nostro substrato Al2O3 A-plane offre prestazioni affidabili per applicazioni tecnologiche all'avanguardia.

Substrato di cristallo di zaffiro all'ossido di alluminio, Al2O3 piano A (11-20) 10 x 10 x 0,5 mm Applicazioni

I substrati in zaffiro di ossido di alluminio (Al2O3) con orientamento A (11-20) misurano 10 x 10 x 0,5 mm e offrono un'eccezionale stabilità termica e meccanica. L'elevatissima purezza, le basse perdite dielettriche e l'eccellente chiarezza ottica li rendono ideali per un'ampia gamma di applicazioni. Di seguito sono riportati alcuni dei modi in cui questi substrati servono a vari settori industriali, di ricerca e commerciali.

1. Applicazioni industriali

- Applicazione 1: processi di produzione ad alta temperatura per semiconduttori, dove la stabilità termica e la resistenza meccanica supportano la produzione di wafer.

- Applicazione 2: componenti laser per il taglio e l'incisione industriale, che garantiscono una distorsione minima grazie all'eccellente chiarezza ottica del cristallo.

2. Applicazioni di ricerca

- Applicazione 1: Substrato per studi di epitassia a film sottile, che fornisce una struttura cristallina priva di difetti che migliora la qualità del film.

- Applicazione 2: Esperimenti ottici, come la spettroscopia, che beneficiano della bassa perdita dielettrica e dell'elevata trasparenza del substrato.

3. Applicazioni commerciali

- Applicazione 1: ottiche di precisione in fotocamere e sensori, sfruttando la resistenza ai graffi e la trasparenza dello zaffiro.

- Applicazione 2: tecnologie LED e display, dove la forte inerzia chimica del substrato aumenta la longevità del dispositivo.

Substrato di cristallo di zaffiro all'ossido di alluminio, Al2O3 piano A (11-20) 10 x 10 x 0,5 mm Confezione

Ogni substrato di zaffiro A-plane è confezionato in una busta antistatica sigillata singolarmente e protetta da inserti di schiuma per evitare graffi. La pulizia accurata e la sigillatura sottovuoto impediscono la contaminazione durante il trasporto. Per una conservazione ottimale, conservare in un ambiente pulito e a umidità controllata, lontano dalla luce solare diretta. Su richiesta, è possibile realizzare opzioni di spessore e dimensioni personalizzate. Si raccomanda una manipolazione minima per mantenere l'integrità della superficie prima dell'uso.

Imballaggio: Sigillato sottovuoto, scatola di legno o personalizzato.

Substrato di cristallo di zaffiro all'ossido di alluminio, Al2O3 A-Plane (11-20) 10 x 10 x 0,5 mm Domande frequenti

Q1: Quali sono le principali proprietà del materiale del substrato di cristallo di ossido di alluminio zaffiro, Al2O3 A-Plane (11-20) 10 x 10 x 0,5 mm?

A1: Questo substrato è caratterizzato da elevata durezza meccanica, conduttività termica e inerzia chimica. Offre eccellenti proprietà dielettriche, che lo rendono adatto ad applicazioni ad alta frequenza. La sua struttura cristallina lungo il piano A (11-20) garantisce un mismatch reticolare minimo per la crescita di determinati film epitassiali. Con un basso coefficiente di espansione termica e una trasparenza ottica superiore, offre prestazioni stabili in ambienti difficili, mantenendo uno spessore costante e una precisione dimensionale.

D2: Come deve essere maneggiato e conservato questo prodotto?

A2: La manipolazione accurata è fondamentale per evitare microfratture e contaminazioni superficiali. Indossare sempre guanti da camera bianca per evitare che oli o particelle entrino in contatto con il cristallo. Per la pulizia o il trasporto dei substrati, utilizzare materiali morbidi e non abrasivi. Conservarli in un ambiente privo di polvere e a temperatura e umidità controllate. Il mantenimento di un imballaggio coerente, come l'uso di scatole per wafer o di supporti imbottiti, aiuta a proteggere da graffi e contaminazioni durante la spedizione e lo stoccaggio.

D3: Quali standard di qualità e certificazioni si applicano al substrato di cristallo di zaffiro all'ossido di alluminio, Al2O3 A-Plane (11-20) 10 x 10 x 0,5 mm?

A3: Questi substrati sono in genere conformi alla norma ISO 9001 per la gestione della qualità della produzione, che garantisce processi produttivi coerenti e tracciabilità. Molti fornitori seguono anche le specifiche ASTM che regolano le tolleranze dimensionali e gli orientamenti cristallografici. Un'ulteriore conformità alle normative RoHS e REACH garantisce l'assenza di sostanze pericolose. I materiali sono spesso testati per la purezza cristallografica e la planarità della superficie e possono essere sottoposti a ispezioni ottiche e metrologiche per verificare la stretta aderenza agli standard industriali.

Informazioni correlate

1. Proprietà e vantaggi del materiale

Grazie alla sua robusta struttura cristallina, il substrato Al2O3 A-plane (11-20) di 10 x 10 x 0,5 mm dimostra un'eccezionale resistenza alle alte temperature e alle sollecitazioni meccaniche. La disposizione esagonale degli atomi di alluminio e ossigeno contribuisce a una durezza superiore, rendendolo altamente resistente ai graffi o alle fratture durante la lavorazione.

Questo substrato eccelle anche nel ridurre al minimo la conduttività elettrica, un vantaggio fondamentale nella progettazione microelettronica e optoelettronica. Inoltre, la sua eccezionale chiarezza ottica facilita la sperimentazione ottica avanzata e le applicazioni di imaging, fornendo a ricercatori e ingegneri una piattaforma affidabile per test di alta precisione.

2. Applicazioni nelle industrie avanzate

I produttori di componenti optoelettronici si affidano al substrato di cristallo Al2O3 A-plane (11-20) per la fabbricazione di diodi a emissione luminosa, array di sensori e transistor ad alta frequenza. Le dimensioni precise di 10 x 10 x 0,5 mm consentono di standardizzare il layout dei dispositivi, semplificando l'integrazione in vari sistemi all'avanguardia.

Inoltre, i settori aerospaziale e della difesa traggono vantaggio dalla robusta stabilità termica di questo substrato di zaffiro, utilizzandolo per sviluppare apparecchiature di rilevamento resistenti in grado di sopportare condizioni estreme. Grazie alla combinazione di elevata purezza e orientamento cristallografico uniforme, lo zaffiro è diventato un materiale cruciale per le applicazioni all'avanguardia in cui affidabilità e prestazioni sono fondamentali.