CY8293 Substrato di cristallo di zaffiro all'ossido di alluminio, Al2O3 C-Plane (0001) 10 x 10 x 0,5 mm

Substrato di cristallo di zaffiro all'ossido di alluminio, piano C di Al2O3 (0001) 10 x 10 x 0,5 mm Descrizione

Sperimentate prestazioni e affidabilità senza pari con il nostro substrato di cristallo di zaffiro all'ossido di alluminio, caratterizzato dall'orientamento del piano C di Al2O3 (0001) in una dimensione precisa di 10 x 10 x 0,5 mm. Noto per la sua eccezionale durezza e l'elevata conducibilità termica, questo substrato di zaffiro offre una resistenza meccanica e un'inerzia chimica superiori, che lo rendono la scelta ideale per applicazioni avanzate di semiconduttori, optoelettronica e alte temperature. La sua trasparenza ottica nell'intervallo tra l'UV e il vicino infrarosso e le eccellenti proprietà dielettriche ne ampliano ulteriormente la versatilità per un'ampia gamma di progetti di ricerca e industriali.

Prodotto con rigorosi controlli di qualità, ogni substrato è sottoposto a rigorosi processi di lucidatura per garantire una rugosità superficiale minima e una planarità ottimale. Ciò garantisce una piattaforma stabile per la crescita epitassiale e prestazioni costanti in tutti i cicli di produzione. Affidatevi al nostro substrato di cristallo di zaffiro per soddisfare i più elevati standard industriali e ottenere risultati eccezionali in ambienti tecnologici esigenti.

Substrato di cristallo di zaffiro in ossido di alluminio, Al2O3 C-Plane (0001) 10 x 10 x 0,5 mm Applicazioni

I substrati di cristallo di zaffiro all'ossido di alluminio, come l'Al2O3 C-plane (0001) 10 x 10 x 0,5 mm, sono apprezzati per la loro notevole stabilità termica, l'eccezionale resistenza meccanica e l'elevata chiarezza ottica. La loro struttura cristallina unica garantisce un mismatch reticolare minimo, rendendoli ideali per i processi di crescita di film sottili. Queste proprietà combinate consentono prestazioni affidabili in condizioni difficili, a supporto di molteplici applicazioni industriali, di ricerca e commerciali.

1. Applicazioni industriali

- Applicazione 1: rivestimenti di forni ad alta temperatura, che sfruttano l'eccellente conduttività termica e stabilità del substrato.

- Applicazione 2: Componenti resistenti all'abrasione per macchinari pesanti, dove durezza e durata sono fondamentali.

2. Applicazioni di ricerca

- Applicazione 1: substrato per la crescita di film epitassiali negli studi sui semiconduttori, grazie al basso disallineamento reticolare del cristallo.

- Applicazione 2: Piattaforma per la ricerca sull'ottica avanzata, sfruttando l'elevata chiarezza ottica e l'indice di rifrazione costante.

3. Applicazioni commerciali

- Applicazione 1: finestre in zaffiro per la strumentazione aerospaziale, che forniscono superfici trasparenti e resistenti ai graffi.

- Applicazione 2: substrati per la produzione di dispositivi LED, per garantire un'efficiente dissipazione del calore e prestazioni stabili.

Substrato di cristallo di zaffiro all'ossido di alluminio, Al2O3 C-Plane (0001) 10 x 10 x 0,5 mm Confezione

Ogni substrato di cristallo di zaffiro all'ossido di alluminio è sigillato singolarmente in un sacchetto di polietilene pulito e antistatico per proteggerlo dalla contaminazione da particolato, quindi fissato in scatole di stoccaggio rivestite di schiuma per evitare danni meccanici. Devono essere conservati in un ambiente fresco, asciutto e privo di polvere, preferibilmente in camera bianca. Su richiesta, sono disponibili etichette personalizzate e barriere protettive aggiuntive per soddisfare applicazioni specifiche. Ogni substrato viene spedito con chiare istruzioni di manipolazione per mantenere una purezza ottimale.

Imballaggio: Sigillato sotto vuoto, scatola di legno o personalizzato.

Substrato di cristallo di zaffiro all'ossido di alluminio, Al2O3 C-Plane (0001) 10 x 10 x 0,5 mm Domande frequenti

Q1: Quali sono le principali proprietà del materiale del substrato di cristallo di ossido di alluminio zaffiro, Al2O3 C-Plane (0001) 10 x 10 x 0,5 mm?

A1: L'ossido di alluminio zaffiro (Al2O3) con orientamento C-plane (0001) presenta un'eccellente trasparenza ottica dalle lunghezze d'onda dell'ultravioletto a quelle del vicino infrarosso. Con un'elevata conducibilità termica (25-35 W/m-K) e una durezza di 9 sulla scala Mohs, offre un'eccezionale resistenza all'usura e stabilità dimensionale. Le sue costanti dielettriche si aggirano in genere intorno a 11,5-11,6, rendendolo adatto alle applicazioni elettroniche e optoelettroniche più esigenti. Mostra anche una notevole stabilità chimica in ambienti difficili.

D2: Come deve essere maneggiato e conservato questo prodotto?

A2: Per evitare contaminazioni e danni alla superficie, il substrato deve essere maneggiato solo con guanti puliti o pinzette non metalliche. È fondamentale evitare il contatto con superfici dure o abrasive che potrebbero causare micrograffi. Il substrato deve essere conservato in un ambiente pulito, a bassa umidità e a temperatura ambiente, preferibilmente in contenitori sigillati o in sacchetti antistatici. Ispezioni regolari aiutano a identificare tempestivamente potenziali scheggiature, crepe o contaminazioni.

D3: Quali standard di qualità e certificazioni si applicano al substrato di cristallo di zaffiro in ossido di alluminio, Al2O3 C-Plane (0001) 10 x 10 x 0,5 mm?

A3: Questi substrati sono spesso conformi ai sistemi di gestione della qualità ISO 9001 per garantire una produzione e una tracciabilità coerenti. I fornitori possono anche offrire una documentazione che conferma la conformità alle direttive RoHS e REACH, indicando un basso contenuto di sostanze pericolose. Inoltre, i substrati sono soggetti a una rigorosa caratterizzazione della qualità cristallina e dell'accuratezza dell'orientamento, verificata mediante diffrazione a raggi X e ispezione ottica. I certificati di conformità accompagnano di solito le spedizioni per convalidare questi requisiti.

Informazioni correlate

1. Proprietà e vantaggi del materiale

Il substrato di cristallo di zaffiro all'ossido di alluminio, Al2O3 C-Plane (0001) 10 x 10 x 0,5 mm, si distingue per l'eccezionale durezza e la straordinaria chiarezza ottica. Grazie all'elevata conducibilità termica e alle basse perdite dielettriche, questo substrato è particolarmente adatto alle applicazioni dei dispositivi ad alta frequenza. La sua struttura a cristallo singolo riduce i difetti interni, assicurando prestazioni costanti in ambienti difficili e riducendo al minimo la probabilità di crepe durante la manipolazione.

Gli ingegneri apprezzano l'eccellente stabilità chimica di questo substrato di zaffiro, che resiste alla maggior parte degli acidi e degli alcali anche a temperature elevate. Questa durata si traduce in una vita operativa più lunga per i dispositivi costruiti sulla sua superficie, rendendolo una scelta privilegiata nei settori in cui l'affidabilità è fondamentale. La combinazione di resilienza meccanica, chiarezza e inerzia chimica fa di questo substrato una soluzione affidabile in settori che vanno dall'optoelettronica ai sistemi aerospaziali.

2. Processo di produzione

Le tecniche di crescita ad alta precisione sono fondamentali per produrre substrati di Al2O3 C-Plane (0001) 10 x 10 x 0,5 mm. I principali produttori utilizzano spesso metodi come i processi di estrazione dei cristalli di Kyropoulos o Czochralski, che consentono una formazione altamente controllata dei lingotti di zaffiro. Questi processi consentono di ottenere la struttura cristallina uniforme necessaria per ridurre al minimo le dislocazioni e garantire una qualità costante.

Le aziende impiegano poi protocolli avanzati di affettatura, lucidatura e pulizia per ottenere lo spessore desiderato di 0,5 mm, preservando l'accuratezza dell'orientamento del piano C (0001). Le sofisticate fasi di lucidatura promuovono una rugosità superficiale minima, consentendo una qualità ottimale dell'interfaccia per gli strati epitassiali e migliorando così i rendimenti nelle applicazioni dei semiconduttori e dell'ottica.