CY8292 Substrato di cristallo di zaffiro all'ossido di alluminio, piano C di Al2O3 (0001) 5 x 5 x 0,5 mm

Substrato di cristallo di zaffiro all'ossido di alluminio, piano C di Al2O3 (0001) 5 x 5 x 0,5 mm Descrizione

Realizzato in Al2O3 (ossido di alluminio) di prima qualità, il nostro substrato in zaffiro a cristallo singolo è orientato con precisione lungo il piano C (0001) per garantire prestazioni e stabilità ottimali. Con dimensioni di 5 x 5 x 0,5 mm, questo substrato offre un'eccezionale resistenza meccanica, un'eccellente conduttività termica e un'elevata costante dielettrica, che lo rendono ideale per applicazioni avanzate di semiconduttori e optoelettronica.

Ogni wafer è sottoposto a rigorosi controlli di qualità per garantire difetti superficiali minimi e una planarità leader nel settore. Il risultato è una piattaforma uniforme che supporta la crescita di strati epitassiali di alta precisione, riducendo al contempo i problemi legati allo stress. Che si tratti di produzione di LED, ottiche laser o dispositivi elettronici ad alta frequenza, il nostro substrato di zaffiro offre costantemente prestazioni, affidabilità e longevità superiori per le tecnologie di prossima generazione.

Substrato di cristallo di zaffiro all'ossido di alluminio, Al2O3 C-Plane (0001) 5 x 5 x 0,5 mm Applicazioni

Il substrato di cristallo di zaffiro all'ossido di alluminio, noto anche come substrato Al2O3 C-plane, deve la sua popolarità alla durezza superiore, all'eccellente conduttività termica e alla notevole chiarezza ottica. Questa versione da 5 x 5 x 0,5 mm offre una qualità superficiale costante, che la rende la scelta preferita per i componenti elettronici di fascia alta, i sistemi laser e i dispositivi ottici. La sua bassa perdita dielettrica e la struttura chimica stabile facilitano inoltre la ricerca innovativa in vari campi scientifici, ampliando le applicazioni in diversi settori.

1. Applicazioni industriali

- Rivestimenti di forni ad alta temperatura: La robusta stabilità termica e la resistenza chimica del substrato lo rendono ideale per i componenti di forni in ambienti industriali esigenti.

- Base durevole per diodi laser: L'eccezionale durezza e la capacità di resistere al calore elevato garantiscono un funzionamento affidabile dei diodi laser in ambienti di produzione di massa.

2. Applicazioni di ricerca

- Sperimentazione su film sottile: L'orientamento cristallografico ben definito dello zaffiro migliora la crescita e l'analisi di film sottili avanzati nella ricerca sulla scienza dei materiali.

- Studi di impiantazione di fasci di ioni: La sua bassa perdita dielettrica e l'elevata purezza supportano esperimenti precisi con fasci di ioni, consentendo indagini accurate sul drogaggio e sui difetti.

3. Applicazioni commerciali

- Finestre e lenti ottiche: L'eccezionale chiarezza ottica lo rende adatto all'uso in laser, sistemi di osservazione e dispositivi di imaging specializzati.

- Cristalli protettivi per orologi: La resistenza ai graffi e la durata dello zaffiro aumentano la durata del prodotto nei dispositivi di consumo di lusso.

Substrato di cristallo di zaffiro all'ossido di alluminio, Al2O3 C-Plane (0001) 5 x 5 x 0,5 mm Confezione

Questi substrati di cristallo di zaffiro all'ossido di alluminio, di dimensioni pari a 5 x 5 x 0,5 mm, sono meticolosamente confezionati in contenitori sigillati e antistatici. Ogni substrato è imbottito con schiuma priva di acidi e sigillato sottovuoto in buste resistenti all'umidità per evitare la contaminazione. La confezione include essiccanti che assorbono l'umidità per mantenere l'asciutto e ridurre i rischi. Conservateli in un ambiente fresco e privo di polvere, lontano dalla luce solare diretta. Sono disponibili confezioni di dimensioni, metodi di sigillatura e opzioni di etichettatura personalizzabili per soddisfare requisiti logistici e di gestione specifici.

Imballaggio: Sigillato sottovuoto, scatola di legno o personalizzato.

Substrato di cristallo di zaffiro all'ossido di alluminio, Al2O3 C-Plane (0001) 5 x 5 x 0,5 mm Domande frequenti

Q1: Quali sono le principali proprietà del materiale del substrato di cristallo di zaffiro di ossido di alluminio, Al2O3 C-Plane (0001) 5 x 5 x 0,5 mm?

A1: I substrati di zaffiro in ossido di alluminio (Al2O3) sono noti per la loro eccezionale durezza (Mohs 9), l'elevata stabilità termica e la forte resistenza chimica. L'orientamento del piano C (0001) fornisce piani atomici ben definiti, essenziali per la crescita epitassiale. Grazie alla bassa costante dielettrica e alle elevate proprietà di isolamento elettrico, questi substrati presentano un mismatch reticolare minimo per molti semiconduttori composti, promuovendo una qualità superiore del film e consentendo prestazioni avanzate dei dispositivi.

D2: Come deve essere maneggiato e conservato questo prodotto?

A2: Per evitare contaminazioni e danni meccanici, indossare sempre guanti da camera bianca e maneggiare i substrati di zaffiro con pinzette non metalliche o altri strumenti adeguati. Conservarli in un ambiente controllato con temperatura e umidità stabili, in genere in confezioni antistatiche o sottovuoto. Evitate le superfici abrasive e teneteli lontani da sostanze chimiche aggressive. Una corretta etichettatura e gestione dell'inventario assicurano la tracciabilità e mantengono l'integrità del substrato per le successive lavorazioni.

D3: Quali standard di qualità e certificazioni si applicano al substrato di cristallo di zaffiro in ossido di alluminio, Al2O3 C-Plane (0001) 5 x 5 x 0,5 mm?

A3: La maggior parte dei fornitori affidabili produce questi substrati di zaffiro nell'ambito di sistemi di gestione della qualità certificati ISO 9001, che garantiscono una produzione coerente e un rigoroso controllo dei processi. Spesso sono conformi alle direttive RoHS e REACH, verificando l'assenza di sostanze pericolose. Inoltre, i prodotti possono seguire le specifiche SEMI per la precisione dimensionale e la planarità dei wafer, nonché gli standard ASTM per la purezza dei materiali e l'orientamento cristallografico. I certificati di conformità accompagnano in genere ogni lotto.

Informazioni correlate

1. Processo di produzione

Il processo di produzione del substrato di cristallo di zaffiro all'ossido di alluminio, Al2O3 C-Plane (0001) 5 x 5 x 0,5 mm, è governato da una precisione meticolosa. Ogni substrato nasce da una materia prima di allumina di elevata purezza, che viene sottoposta a una procedura di crescita controllata dei cristalli nota come metodo Czochralski. Nel corso di questo approccio, i maestri coltivatori monitorano continuamente le temperature di fusione e le velocità di estrazione dei cristalli per garantire una struttura reticolare coerente e una chiarezza cristallina di altissimo livello. Una volta formata la boule cristallina, questa viene accuratamente tagliata in wafer sottili con seghe a punta di diamante, mantenendo superfici incontaminate che riducono al minimo i difetti. I wafer così ottenuti vengono poi lucidati con un processo completo in più fasi per ottenere una planarità e una trasparenza ottica superiori.

Le fasi di taglio e lucidatura sono seguite da accurati processi di ispezione, che garantiscono che ogni substrato di 5 x 5 x 0,5 mm aderisca a rigorose tolleranze dimensionali. Strumenti metrologici specializzati, come interferometri e apparecchiature di diffrazione a raggi X, analizzano l'orientamento del cristallo, verificando l'allineamento del piano C (0001). Queste fasi controllate contribuiscono a garantire la disposizione uniforme del reticolo del substrato, fondamentale per i successivi processi di deposizione o crescita epitassiale. Grazie a questa metodologia raffinata, i produttori possono produrre in modo affidabile substrati con resistenza meccanica e termica stabile, che costituiscono la base ideale per applicazioni ad alte prestazioni.

2. Applicazioni nelle industrie avanzate

La produzione di semiconduttori avanzati si basa spesso su substrati di cristallo di zaffiro all'ossido di alluminio, Al2O3 C-Plane (0001) 5 x 5 x 0,5 mm per dispositivi ad alta frequenza e ad alta potenza. Poiché lo zaffiro vanta una notevole conducibilità termica e isolamento elettrico, costituisce una piattaforma eccellente per lo sviluppo del nitruro di gallio (GaN) e di altri materiali ad ampio bandgap essenziali nell'elettronica di potenza. La sua struttura robusta e la resistenza alla corrosione assicurano inoltre che i componenti delicati possano sopportare le condizioni impegnative delle operazioni ad alta tensione e ad alta corrente senza compromettere le prestazioni o la longevità.

Anche l'elettronica resistente alle radiazioni utilizza substrati di zaffiro per applicazioni aerospaziali e militari in cui gli ambienti con radiazioni estreme sono un problema. L'orientamento stabile dei cristalli e la minima densità di difetti consentono a questi substrati di mantenere l'affidabilità operativa in condizioni cosmiche difficili. Inoltre, la capacità del materiale di resistere all'usura chimica, unita alla sua chiarezza ottica, lo rende altrettanto prezioso per dispositivi ottici che vanno dai rivelatori UV ai laser a stato solido. Questi vantaggi distinti, uniti al fattore di forma di 5 x 5 x 0,5 mm, evidenziano l'importanza dei substrati di zaffiro nei settori industriali all'avanguardia.