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CY11158 Vetro rivestito di nitruro di titanio (TiN)

Catalogo no. CY11158
Materiale TiN, vetro borosilicato
La purezza TiN: ≥99,995%
Forma Substrato

Il vetro rivestito di nitruro di titanio (TiN) viene prodotto depositando una pellicola di TiN su un substrato di vetro di elevata purezza mediante deposizione fisica controllata da vapore. Stanford Advanced Materials (SAM) utilizza misurazioni rigorose dello spessore e dell'uniformità del film mediante microscopia a forza atomica e ispezione ottica. Questo approccio riduce al minimo le irregolarità superficiali e garantisce un'integrità quantificabile del film per le applicazioni delle materie prime dei semiconduttori, aggiungendo coerenza tecnica al processo di produzione.

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FAQ

Quali sono i parametri critici da controllare durante il processo di deposizione del TiN su substrati di vetro?

I parametri chiave includono la velocità di deposizione, la pressione della camera e la temperatura del substrato. Un attento controllo di questi fattori assicura uno spessore uniforme del film e riduce al minimo i difetti che potrebbero influire sulle proprietà ottiche e conduttive richieste nelle applicazioni dei semiconduttori.

In che modo il rivestimento TiN influenza la stabilità termica del substrato di vetro?

Il film di TiN migliora la resilienza termica agendo come barriera al calore e ai contaminanti ambientali. Questo riduce al minimo lo sfasamento dell'espansione termica tra gli strati, garantendo la stabilità durante le fasi di lavorazione ad alta temperatura comuni nella produzione di semiconduttori.

Quali tecniche di ispezione sono consigliate per verificare l'integrità del rivestimento TiN?

Tecniche come la microscopia a forza atomica, l'ellissometria e l'ispezione ottica sono efficaci per valutare l'uniformità e lo spessore del film. Queste misure aiutano a confermare che il rivestimento soddisfa i precisi criteri tecnici necessari per le applicazioni di materie prime per semiconduttori. Contattateci per ulteriori dettagli.

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