AU10312 Substrato a cristallo singolo in oro (Au) <111> 10x10x0,5 mm

Substrato di oro (Au) a cristallo singolo <111> 10x10x0,5 mm Descrizione

Il substrato di oro (Au) a cristallo singolo <111> 10x10x0,5 mm è un wafer di oro monocristallino di elevata purezza con orientamento cristallografico definito <111>. Il formato 10x10 mm garantisce la compatibilità con le apparecchiature standard per la lavorazione dei semiconduttori, mentre lo spessore di 0,5 mm favorisce un comportamento termico uniforme e la precisione della deposizione. La finitura superficiale omogenea riduce al minimo i difetti durante la lavorazione successiva e le misure analitiche confermano l'integrità di fase del substrato.

Substrato a cristallo singolo in oro (Au) <111> 10x10x0,5 mm Applicazioni

Elettronica
- Utilizzato come elettrodo conduttivo nei dispositivi microelettronici per ottenere una resistenza di contatto costante sfruttando la sua struttura a cristallo singolo.
- Applicato come substrato per la deposizione di film sottili nella fabbricazione di semiconduttori per migliorare l'uniformità interfacciale grazie al suo preciso orientamento <111>.

R&S industriale
- Utilizzato come standard di calibrazione nelle apparecchiature per l'analisi delle superfici per ottenere misurazioni accurate grazie al suo spessore costante.
- Serve come campione nelle configurazioni di test sui materiali per valutare le proprietà di usura sfruttando la sua struttura cristallina definita.

Substrato in oro (Au) a cristallo singolo <111> 10x10x0,5 mm Confezione

Il substrato è sigillato singolarmente in un sacchetto antistatico con azoto e inserito in un contenitore rigido e imbottito per ridurre al minimo gli shock meccanici. Viene conservato in condizioni di temperatura e umidità controllate per evitare l'ossidazione e la contaminazione. Sono disponibili opzioni di confezionamento personalizzate, compresa l'etichettatura specifica e la compartimentazione, per soddisfare i requisiti di manipolazione e conservazione in laboratorio.

Domande frequenti

Q1: Quali metodi di analisi confermano l'orientamento cristallografico del substrato?
A1: La microscopia ottica, insieme alle tecniche di microscopia elettronica, viene utilizzata per confermare l'orientamento <111>, assicurando che il materiale soddisfi gli standard cristallografici specifici richiesti nelle applicazioni di precisione.

D2: In che modo lo spessore del substrato influenza i processi di deposizione del materiale?
A2: Lo spessore di 0,5 mm assicura una distribuzione uniforme del calore durante la deposizione. Questa coerenza dimensionale riduce al minimo la deformazione durante i cicli termici, favorendo una crescita riproducibile del film sottile.

D3: Quali misure riducono al minimo la contaminazione durante la manipolazione del substrato?
A3: La manipolazione avviene in ambienti puliti, mentre i substrati sono confezionati in contenitori antistatici e depurati dall'azoto. Queste precauzioni limitano l'esposizione alla polvere e all'umidità, mantenendo l'integrità della superficie del cristallo.

Informazioni aggiuntive

I substrati d'oro svolgono un ruolo fondamentale nel campo della ricerca sulla scienza dei materiali grazie alla loro inerzia chimica e all'eccellente conduttività elettrica. La loro natura monocristallina offre vantaggi rispetto ai materiali policristallini, tra cui la riduzione degli effetti dei confini dei grani e una maggiore uniformità dei risultati sperimentali.

I processi di fabbricazione controllata utilizzati nella preparazione di questi substrati supportano la ricerca nel campo dell'elettronica, dello sviluppo di sensori e della deposizione di film sottili. L'accuratezza dimensionale e l'integrità cristallografica sono essenziali per stabilire parametri di riferimento sperimentali e progredire nell'ottimizzazione dei processi in applicazioni specializzate.