AL10304 Template di nitruro di alluminio lucidato da un lato su zaffiro Al2O3 (0001) Pellicola AlN da 4 pollici x 0,5 mm 1000 nm

Template in nitruro di alluminio lucidato da un lato su zaffiro Al2O3 (0001) Pellicola AlN da 4 pollici x 0,5 mm 1000 nm Descrizione

Questo substrato combina un film di nitruro di alluminio spesso 1000 nm con una base di zaffiro (Al2O3), offrendo una superficie altamente planare e liscia per la lavorazione dei semiconduttori. La tecnica di lucidatura su un solo lato riduce al minimo la rugosità della superficie e ne migliora l'uniformità. Con dimensioni di 4 pollici per 0,5 mm, il template supporta un'integrazione affidabile nella fabbricazione dei dispositivi, facilitando un allineamento litografico preciso e una gestione termica efficiente nelle applicazioni ad alta potenza.

Template in nitruro di alluminio lucidato su un lato su zaffiro Al2O3 (0001) 4 pollici x 0,5 mm Film AlN 1000 nm Applicazioni

1.Elettronica
- Utilizzato come substrato attivo nei dispositivi elettronici di potenza per gestire la dissipazione del calore sfruttando l'elevata conducibilità termica dello zaffiro.
- Applicato come base nei componenti a radiofrequenza per migliorare l'integrità del segnale grazie al film uniforme di AlN.

2.Industriale
- Serve come strato funzionale negli assemblaggi di sensori per ottenere una maggiore sensibilità grazie alla superficie liscia e con pochi difetti del substrato.
- Viene spesso utilizzato negli strumenti di lavorazione di precisione, dove la stabilità dimensionale è essenziale per la modellazione ad alta risoluzione.

Template di nitruro di alluminio lucidato su un lato su zaffiro Al2O3 (0001) Pellicola AlN da 4 pollici x 0,5 mm Imballaggio da 1000 nm

Il substrato è confezionato in un contenitore antistatico rivestito di schiuma con una copertura protettiva per evitare danni meccanici. È sigillato all'interno di una confezione con barriera antiumidità per mantenere l'integrità della superficie e ridurre al minimo la contaminazione da particolato. Si consiglia la conservazione a temperatura ambiente controllata. Sono disponibili opzioni di confezionamento personalizzate, tra cui inserti a scomparti ed etichettatura, per soddisfare protocolli di manipolazione specifici.

Domande frequenti

Q1: In che modo la finitura lucida su un lato influisce sull'integrazione del substrato nei processi dei semiconduttori?
A1: La superficie lucida riduce la rugosità superficiale, migliorando l'accuratezza litografica e garantendo una migliore adesione del film. Questa uniformità è fondamentale per ridurre al minimo i difetti durante le fasi di lavorazione successive.

D2: Che ruolo svolge il substrato di zaffiro nella gestione termica?
A2: Lo zaffiro (Al2O3) offre un'elevata conduttività termica, che aiuta a dissipare il calore durante il funzionamento del dispositivo. Questa proprietà è particolarmente vantaggiosa nell'elettronica ad alta potenza, dove la stabilità termica è fondamentale.

D3: Quali protocolli di pulizia sono consigliati prima della fabbricazione del dispositivo?
A3: La pulizia standard, come la pulizia RCA seguita da un risciacquo con acqua deionizzata, è consigliata per rimuovere i contaminanti senza compromettere l'integrità del film. Questo processo garantisce che il substrato mantenga le sue proprietà durante l'integrazione.

Informazioni aggiuntive

Le ceramiche al nitruro di alluminio (AlN) sono apprezzate nelle applicazioni ad alte prestazioni grazie alle loro eccellenti proprietà di conducibilità termica e isolamento elettrico. L'integrazione di un film di AlN sullo zaffiro migliora le prestazioni meccaniche e termiche del substrato, rendendolo adatto ad applicazioni di semiconduttori e sensori.

I progressi nelle tecniche di deposizione e lucidatura hanno migliorato la consistenza e l'uniformità dei film di AlN. Questi miglioramenti sono fondamentali per le applicazioni di precisione in cui l'uniformità del film può influenzare in modo significativo le prestazioni del dispositivo, l'affidabilità e l'efficienza dell'integrazione in processi produttivi complessi.