AL10301 Template di nitruro di alluminio lucidato da un lato su zaffiro (0001) Pellicola AlN da 2 pollici x 0,5 mm 1000 nm

Template in nitruro di alluminio lucidato su un solo lato su zaffiro (0001) Pellicola di AlN da 2 pollici x 0,5 mm 1000 nm Descrizione

Il template consiste in un film di AlN lucidato su un solo lato depositato su un substrato di zaffiro (0001). Le dimensioni di 2 pollici per 0,5 mm garantiscono la compatibilità con gli strumenti di lavorazione dei semiconduttori standard, mentre lo spessore uniforme del film di 1000 nm fornisce proprietà dielettriche definite. La superficie lucidata su un lato riduce al minimo la dispersione, favorendo un'efficiente deposizione dello strato successivo per sistemi elettronici e optoelettronici ad alte prestazioni.

Template di nitruro di alluminio lucidato su un lato su zaffiro (0001) Film AlN da 2 pollici x 0,5 mm 1000 nm Applicazioni

Elettronica
- Utilizzato come substrato nei circuiti RF per ottenere una riduzione della perdita dielettrica sfruttando l'elevata conducibilità termica dell'AlN, con conseguenti prestazioni stabili nelle operazioni ad alta frequenza.
- Applicato come base per dispositivi a semiconduttore ad alta velocità per mitigare l'accumulo termico attraverso un'efficiente dissipazione del calore, garantendo la stabilità operativa.

Optoelettronica
- Utilizzato come piattaforma nelle strutture LED per migliorare l'estrazione dei fotoni sfruttando la superficie liscia e lucidata su un lato, che riduce al minimo la dispersione superficiale.
- Utilizzato nella fabbricazione di diodi laser per produrre un'interfaccia uniforme che supporta l'emissione di luce costante riducendo le irregolarità dell'interfaccia.

Template in nitruro di alluminio lucidato su un lato su zaffiro (0001) Pellicola AlN da 2 pollici x 0,5 mm Imballaggio da 1000 nm

Le sagome sono confezionate in supporti antistatici per camere bianche con inserti in schiuma per ridurre al minimo l'impatto meccanico. Sono sigillati in sacchetti a barriera di umidità per limitare la contaminazione e sono conservati in condizioni controllate di bassa umidità. Sono disponibili opzioni di confezionamento personalizzate, tra cui contenitori sigillati sottovuoto ed etichette specializzate, per soddisfare requisiti precisi di stoccaggio e trasporto.

Domande frequenti

Q1: Come viene verificata la qualità della superficie di questi modelli AlN?
A1: La qualità della superficie viene verificata utilizzando l'interferometria e la microscopia elettronica a scansione per garantire l'uniformità e i difetti minimi. Queste tecniche confermano che il processo di lucidatura su un lato soddisfa i criteri rigorosi necessari per la lavorazione avanzata dei semiconduttori.

D2: Quali vantaggi di gestione termica offre il film di AlN nell'integrazione dei dispositivi?
A2: L'elevata conducibilità termica intrinseca dell'AlN facilita un'efficiente dissipazione del calore durante il funzionamento del dispositivo. Questa proprietà riduce i gradienti termici, evitando così il surriscaldamento localizzato e favorendo prestazioni costanti nelle applicazioni ad alta potenza.

Q3: È possibile modificare le dimensioni del substrato per applicazioni specifiche?
A3: Sì, le dimensioni del substrato possono essere personalizzate per soddisfare requisiti di processo specifici. Sono disponibili processi di taglio e sagomatura su misura per allinearsi alle specifiche delle apparecchiature e alle esigenze applicative, garantendo la compatibilità con varie architetture di dispositivi.

Informazioni aggiuntive

Il nitruro di alluminio è un materiale ceramico noto per la sua elevata conducibilità termica e le sue stabili proprietà dielettriche, che lo rendono prezioso per le applicazioni elettroniche ad alta temperatura. L'integrazione di un film di AlN su un substrato di zaffiro consente di migliorare la corrispondenza reticolare e la gestione termica, elementi critici nella fabbricazione di dispositivi semiconduttori avanzati.

L'uso di una superficie levigata su un lato migliora la deposizione degli strati successivi, riducendo la rugosità superficiale e gli effetti di dispersione. Questo metodo di lavorazione supporta le applicazioni in cui è essenziale un'elevata qualità dell'interfaccia e la combinazione di AlN e zaffiro è stata ampiamente studiata per il suo potenziale di supporto ai dispositivi elettronici e optoelettronici di prossimo livello.