AL10294 Wafer di zaffiro drogato con ferro Fe: Al2O3 (0001) 10x10x0,5 mm

Wafer di zaffiro drogato con ferro Fe: Al2O3 (0001) 10x10x0,5 mm Descrizione

Questo prodotto è un wafer di zaffiro costituito da Al2O3 drogato con lo 0,05-0,1% in peso di Fe, con orientamento cristallografico (0001). Il wafer misura 10x10 mm con uno spessore di 0,5 mm, garantendo la compatibilità con le apparecchiature standard per la crescita di semiconduttori e cristalli. La composizione e l'orientamento definiti riducono la densità dei difetti, favorendo una crescita epitassiale e una finitura superficiale uniformi. Il drogaggio controllato del ferro regola le proprietà elettriche e ottiche essenziali per le applicazioni di alta precisione.

Wafer di zaffiro drogato con ferro Fe: Al2O3 (0001) 10x10x0,5 mm Applicazioni

1.Elettronica e semiconduttori
- Utilizzo come substrato nella deposizione epitassiale di dispositivi a semiconduttore per ottenere un allineamento preciso dei cristalli sfruttando l'orientamento uniforme (0001).

2.Strumentazione optoelettronica
- Applicato come finestra ottica nei sistemi fotonici per ottenere proprietà di trasmissione stabili sfruttando il drogaggio controllato e la bassa densità di difetti.

3.Sensori industriali
- Utilizzato come materiale di base nella fabbricazione di sensori per mantenere la stabilità dimensionale in condizioni termiche variabili, sfruttando la sua robusta struttura cristallina.

Wafer di zaffiro drogato con ferro Fe: Al2O3 (0001) 10x10x0,5 mm Confezione

Il wafer è confezionato singolarmente in un involucro imbottito antistatico e sigillato in un sacchetto di protezione dall'umidità. Viene conservato a temperatura ambiente in un ambiente a bassa umidità per evitare contaminazioni e danni fisici. Sono disponibili ulteriori opzioni di confezionamento personalizzate, tra cui la sigillatura sottovuoto e gli scomparti contrassegnati, per una maggiore protezione durante il trasporto e lo stoccaggio.

Domande frequenti

Q1: Come influisce il drogaggio controllato del ferro sulle prestazioni del wafer?
A1: L'aggiunta controllata dello 0,05-0,1% in peso di Fe regola le proprietà ottiche ed elettriche del wafer di zaffiro, garantendo un impatto costante sulla qualità dello strato epitassiale e sulle prestazioni del dispositivo, mantenendo un basso tasso di difetti.

D2: Quali misure vengono adottate per confermare l'orientamento cristallografico del wafer?
A2: Il wafer viene sottoposto a un'analisi dettagliata della superficie, compresa la microscopia elettronica e la diffrazione di raggi X, per verificarne l'orientamento (0001), che è fondamentale per garantire il corretto allineamento nelle fasi di lavorazione successive.

D3: Le dimensioni dei wafer possono essere personalizzate per soddisfare i requisiti di apparecchiature specifiche?
A3: Sì, è possibile personalizzare le dimensioni dei wafer. Le regolazioni delle dimensioni e dello spessore possono essere gestite in base ai requisiti di lavorazione dettagliati per garantire la compatibilità con vari sistemi di deposizione e incisione.

Informazioni aggiuntive

I wafer di zaffiro composti da Al2O3 sono apprezzati negli ambienti di lavorazione avanzati per la loro eccellente stabilità termica e inerzia chimica. L'incorporazione del ferro come drogante può modificare sottilmente le proprietà intrinseche, facilitando prestazioni personalizzate nei dispositivi elettronici e ottici.

La comprensione delle caratteristiche precise del materiale e delle condizioni di lavorazione è fondamentale in campi come la fabbricazione di semiconduttori e le applicazioni di sensori avanzati. Questi substrati sono piattaforme fondamentali per lo sviluppo di dispositivi ad alte prestazioni nella ricerca e nell'industria.