AL10291 Wafer di zaffiro Al2O3 Piano A (11-20) Dia. 3 pollici x 0,5 mm

Wafer di zaffiro Al2O3 Piano A (11-20) Dia. 3 pollici x 0,5 mm Descrizione

Il wafer è realizzato in Al2O3 (corindone) di elevata purezza e presenta un orientamento cristallografico sul piano A (11-20). Il diametro di 3 pollici e lo spessore di 0,5 mm sono ottimizzati per la compatibilità con le apparecchiature standard di lavorazione dei semiconduttori. L'allineamento preciso e la finitura superficiale liscia riducono la densità dei difetti, migliorando l'affidabilità del processo nelle operazioni di fotolitografia e incisione. Questi attributi garantiscono un trasferimento accurato del modello e un controllo dimensionale nella produzione di dispositivi avanzati.

Wafer di zaffiro Al2O3 Piano A (11-20) Dia. 3 pollici x 0,5 mm Applicazioni

Elettronica
- Utilizzato come substrato dielettrico nei circuiti RF per mantenere stabile l'integrità del segnale, sfruttando una precisa planarità della superficie e un orientamento cristallografico coerente.

Produzione di semiconduttori
- Utilizzato come substrato portante nei sistemi di fotolitografia per ottenere un trasferimento preciso del modello sfruttando uno spessore controllato e una densità minima di difetti.

Wafer di zaffiro Al2O3 Piano A (11-20) Dia. 3 pollici x 0,5 mm Imballaggio

Il wafer è confezionato in una busta antistatica all'interno di un contenitore rigido che assorbe gli urti. Gli inserti in schiuma riducono al minimo l'impatto meccanico e la contaminazione. L'imballaggio consente la conservazione in un ambiente fresco e asciutto per preservare l'integrità della superficie. Sono disponibili opzioni di confezionamento personalizzate, tra cui l'etichettatura specializzata e la compartimentazione, per soddisfare requisiti specifici di movimentazione e spedizione.

Domande frequenti

Q1: Come influisce l'orientamento del piano A (11-20) sulle prestazioni del wafer?
A1: L'orientamento (11-20) fornisce caratteristiche superficiali uniformi, essenziali per ridurre la variabilità del processo nelle fasi di incisione e deposizione durante la fabbricazione del dispositivo.

D2: Quali misure di controllo della qualità vengono applicate durante la fabbricazione?
A2: Il wafer viene sottoposto a una lucidatura standardizzata con ispezioni interferometriche e microscopia elettronica a scansione per monitorare la planarità della superficie e la densità dei difetti, garantendo il rispetto di tolleranze dimensionali rigorose.

D3: Come deve essere conservato il wafer per mantenere le sue proprietà specifiche?
A3: Deve essere conservato in un ambiente a temperatura controllata e bassa umidità, all'interno di un imballaggio antistatico e privo di contaminazione, per preservare l'integrità della superficie e la qualità cristallografica.

Informazioni aggiuntive

I substrati di zaffiro, composti da Al2O3 di elevata purezza, sono ampiamente utilizzati nelle applicazioni ottiche e dei semiconduttori grazie al loro orientamento cristallografico definito e all'elevata durezza. La loro capacità di resistere alle alte temperature di lavorazione e alle sollecitazioni meccaniche li rende fondamentali nella fabbricazione di dispositivi avanzati.

Studi approfonditi sui wafer di zaffiro forniscono informazioni sul loro comportamento sotto carichi termici e meccanici. I continui miglioramenti nei processi di produzione e nelle tecniche di controllo della qualità contribuiscono a migliorare le prestazioni nelle applicazioni di alta precisione, facendo progredire la scienza dei materiali e le tecnologie di produzione.