AL10290 Wafer di zaffiro Al2O3 R Piano Dia. 1 pollice x 0,5 mm

Wafer di zaffiro Al2O3 R Plane Dia. 1 pollice x 0,5 mm Descrizione

Il wafer di zaffiro Al2O3 R Plane Dia. 1 inch x 0,5 mm è un substrato di allumina (Al2O3) con un orientamento definito del piano R, che misura 1 pollice di diametro e 0,5 mm di spessore. La cristallinità controllata e la finitura liscia del substrato consentono di migliorare la deposizione di film epitassiali nei processi dei semiconduttori. L'inerzia chimica e la stabilità termica lo rendono adatto agli ambienti di fabbricazione dei dispositivi più esigenti e alle applicazioni analitiche di precisione.

Wafer di zaffiro Al2O3 R Dia. 1 pollice x 0,5 mm Applicazioni

Applicazioni di elettronica e semiconduttori
- Utilizzato come substrato di crescita epitassiale nella produzione di LED per ottenere una deposizione uniforme del film sfruttando la superficie atomicamente liscia del piano R.
- Applicato come isolante nei circuiti ad alta frequenza per ridurre gli effetti parassiti sfruttando la sua elevata rigidità dielettrica.

Applicazioni optoelettroniche e industriali
- Serve come base per dispositivi ottici per migliorare la trasmissione della luce sfruttando il suo basso assorbimento ottico.
- Viene spesso utilizzato come substrato di montaggio per array di sensori per mantenere la stabilità delle prestazioni grazie alla sua inerzia termica e chimica.

Wafer di zaffiro Al2O3 R Plane Dia. 1 pollice x 0,5 mm Imballaggio

I wafer di zaffiro sono confezionati in supporti antistatici rivestiti di schiuma per proteggere da danni meccanici e contaminazione. Ogni unità è sigillata con materiali a basso contenuto di particelle, con possibilità di etichettatura e compartimentazione personalizzate. Questo approccio al confezionamento riduce al minimo il rischio di degrado della superficie durante la manipolazione e lo stoccaggio.

Domande frequenti

Q1: In che modo l'orientamento del piano R influenza le prestazioni del wafer nelle applicazioni dei semiconduttori?
A1: L'orientamento del piano R offre una morfologia superficiale specifica che migliora l'uniformità dello strato epitassiale e riduce al minimo la propagazione dei difetti durante la deposizione del film, favorendo la produzione precisa di dispositivi a semiconduttore.

D2: Quali sono le condizioni di conservazione consigliate per mantenere la qualità di questi wafer di zaffiro?
A2: È consigliabile conservare questi wafer in un ambiente pulito, asciutto e a temperatura controllata. La protezione dalle sollecitazioni meccaniche e dalle contaminazioni particellari è essenziale per mantenere l'integrità della superficie.

D3: Questi wafer di zaffiro possono essere personalizzati per processi produttivi specifici?
A3: Sì, sono disponibili opzioni di personalizzazione come diametri, spessori o standard di lucidatura diversi, previa consultazione. È possibile soddisfare requisiti specifici per soddisfare particolari esigenze di fabbricazione o di ricerca.

Informazioni aggiuntive

I substrati di zaffiro, composti da allumina di elevata purezza (Al2O3), sono apprezzati nella scienza dei materiali per la loro eccellente stabilità chimica e termica. I loro orientamenti cristallini unici contribuiscono a creare caratteristiche superficiali specifiche, che sono fondamentali per le applicazioni dei semiconduttori e dell'optoelettronica. Le tecniche di fabbricazione avanzate hanno perfezionato il processo di produzione per soddisfare le richieste dell'industria in continua evoluzione.

I wafer di zaffiro sono una piattaforma coerente per esplorare le interazioni tra i materiali in ambienti ad alta temperatura e chimicamente aggressivi, fornendo una base essenziale per i progressi sperimentali e industriali nel campo dell'elettronica e della fotonica.