AL10286 Wafer di zaffiro Al2O3 M Plane Dia. 1 pollice x 0,5 mm

Wafer di zaffiro Al2O3 M Plane Dia. 1 pollice x 0,5 mm Descrizione

Questo substrato, composto da Al2O3 di elevata purezza, presenta un preciso orientamento M Plane. Il diametro di 1 pollice e lo spessore di 0,5 mm garantiscono un'eccellente compatibilità con gli strumenti standard di fabbricazione dei semiconduttori. La natura chimicamente inerte dello zaffiro offre resistenza all'ossidazione e alle sollecitazioni termiche, rendendolo ideale per applicazioni nella lavorazione di wafer elettronici e nella prototipazione di apparecchiature di ricerca.

Wafer di zaffiro Al2O3 M Piano Dia. 1 pollice x 0,5 mm Applicazioni

1.Elettronica
- Utilizzato come substrato nei gruppi di circuiti ad alta frequenza per ottenere un isolamento efficace sfruttando l'inerzia chimica dell'allumina.
- Applicato come materiale di base per le matrici di sensori per supportare prestazioni elettriche stabili grazie alla superficie uniforme e alle tolleranze dimensionali controllate.

2.Industriale
- Utilizzato come wafer portante nella lavorazione dei semiconduttori per facilitare la deposizione uniforme di film sottili, sfruttando la sua geometria precisa e la consistenza della superficie.

3.Ricerca
- Serve come piattaforma di prova negli studi di scienza dei materiali per analizzare il comportamento cristallino in condizioni termiche diverse, fornendo un modello di Al2O3 ben caratterizzato.

Wafer di zaffiro Al2O3 M Plane Dia. 1 pollice x 0,5 mm Imballaggio

Il wafer è sigillato singolarmente in una confezione antistatica e imbottito di schiuma per ridurre al minimo le sollecitazioni meccaniche durante il trasporto. Viene conservato in un contenitore a temperatura controllata per ridurre l'esposizione a umidità e particolato. L'imballaggio include barriere contro la contaminazione e opzioni di personalizzazione, come l'etichettatura e la compartimentazione in base alle specifiche esigenze di manipolazione.

Domande frequenti

D1: Quali metodi di controllo della qualità vengono applicati per monitorare l'accuratezza dimensionale dei wafer?
A1: Il processo di produzione comprende test di interferenza ottica e profilometria che verificano il diametro e lo spessore entro tolleranze rigorose, assicurando che il wafer soddisfi le specifiche precise per le applicazioni di ricerca e semiconduttori.

D2: In che modo l'orientamento del piano M influenza la sua integrazione nei dispositivi?
A2: L'orientamento del piano M influisce sulle proprietà termiche ed elettriche anisotrope, che sono fondamentali per i dispositivi che dipendono dall'uniformità del substrato, influenzando parametri come la conduttività termica e la costante dielettrica, fondamentali per gli assemblaggi elettronici ad alte prestazioni.

D3: Quali sono le condizioni di conservazione consigliate per preservare l'integrità del wafer?
A3: Il wafer deve essere conservato in un ambiente pulito, a temperatura controllata e con bassa umidità. Un imballaggio antistatico e ammortizzante previene ulteriormente i danni meccanici e la contaminazione, mantenendo la qualità della superficie del substrato.

Informazioni aggiuntive

Lo zaffiro, o alfa-allumina (Al2O3), è apprezzato per la sua elevata durezza, stabilità termica e inerzia chimica. Queste caratteristiche lo rendono il materiale preferito nelle applicazioni che richiedono substrati durevoli e stabili. La sua struttura cristallina offre anche vantaggiose proprietà termiche e ottiche, fondamentali nella produzione di dispositivi di precisione.

La comprensione del ruolo dell'orientamento cristallografico nei substrati di zaffiro è essenziale. L'orientamento del piano M modifica le proprietà anisotrope, influenzando l'espansione termica e il comportamento dielettrico. Questa conoscenza è importante per l'integrazione di questi wafer nei processi di produzione di semiconduttori, dove il rispetto degli standard dimensionali e di qualità superficiale è fondamentale.