AL10280 Wafer di zaffiro Al2O3 (0001) 100 mm Dia. x 0,9 mm

Sapphire Wafer Al2O3 (0001) 100 mm Dia. x 0,9 mm Descrizione

Il Sapphire Wafer Al2O3 (0001) 100 mm Dia. x 0,9 mm è un substrato di allumina di elevata purezza con un preciso orientamento del piano (0001). Il diametro di 100 mm e lo spessore di 0,9 mm soddisfano i requisiti standard delle apparecchiature per i processi di semiconduttori. Il wafer è sottoposto a un'analisi superficiale avanzata per garantire una bassa rugosità e difetti minimi, migliorando così le sue prestazioni nelle applicazioni che richiedono una rigorosa planarità e precisione dimensionale.

Wafer di zaffiro Al2O3 (0001) 100 mm di diametro x 0,9 mm Applicazioni

Applicazioni di elettronica e semiconduttori
- Utilizzato come substrato nella fabbricazione di dispositivi a semiconduttore per ottenere una fotolitografia precisa, sfruttando le sue minime imperfezioni superficiali per una maggiore risoluzione dei modelli.
- Applicato come base nei circuiti ad alta frequenza per gestire la consistenza dielettrica sfruttando le sue stabili proprietà di isolamento elettrico.

Applicazioni industriali
- Serve come componente isolante nell'elettronica di potenza per mantenere la stabilità termica, sfruttando la sua elevata conduttività termica e la minima densità di difetti.

Optoelettronica
- Utilizzato come strato di supporto nella produzione di LED per garantire un'emissione luminosa uniforme, sfruttando la sua trasparenza ottica e l'integrità strutturale.

Wafer di zaffiro Al2O3 (0001) 100 mm Dia. x 0,9 mm Imballaggio

Ogni wafer è racchiuso singolarmente in una busta antistatica per camera bianca e fissato in un supporto imbottito e rivestito di schiuma. L'imballaggio mantiene un ambiente inerte per prevenire la contaminazione superficiale e i danni meccanici. Le linee guida per la conservazione raccomandano un ambiente a temperatura e umidità controllate. Sono disponibili etichette personalizzate e modifiche ai contenitori per soddisfare protocolli specifici di stoccaggio e spedizione.

Domande frequenti

Q1: In che modo la finitura superficiale del substrato influisce sulle prestazioni del processo?
A1: La finitura superficiale influisce direttamente sui risultati della fotolitografia e sulla successiva deposizione del film. Una superficie uniformemente liscia riduce al minimo la dispersione e le irregolarità, migliorando così la coerenza del processo nella fabbricazione dei dispositivi.

D2: Quali condizioni ambientali devono essere mantenute durante lo stoccaggio?
A2: Il wafer deve essere conservato in un ambiente a temperatura controllata e a bassa umidità. Queste condizioni aiutano a mantenere l'integrità della superficie e a prevenire la contaminazione, che è fondamentale per le applicazioni di alta precisione.

D3: Come vengono attuate le misure di controllo della qualità per questo wafer?
R3: Il controllo della qualità prevede la misurazione quantitativa della rugosità della superficie mediante microscopia a forza atomica e l'ispezione dei difetti mediante microscopia elettronica a scansione. Queste valutazioni assicurano il rispetto dei rigorosi standard di produzione e delle specifiche di processo.

Informazioni aggiuntive

Lo zaffiro, o ossido di alluminio monocristallino (Al2O3), è ampiamente riconosciuto per la sua durezza e l'elevata stabilità termica. La struttura cristallina del materiale costituisce una piattaforma ottimale per dispositivi elettronici e optoelettronici ad alte prestazioni. Il suo utilizzo nei substrati richiede un rigoroso controllo di qualità per mantenere la planarità e l'uniformità della superficie durante la lavorazione ad alta temperatura.

Nel contesto più ampio della scienza dei materiali, i wafer di zaffiro rappresentano un componente critico nella produzione di dispositivi semiconduttori e fotonici avanzati. La loro capacità di resistere ad ambienti di lavorazione aggressivi, offrendo al contempo proprietà elettriche e ottiche stabili, ne sottolinea l'importanza sia nella ricerca che nella produzione di grandi volumi.