AL10277 Wafer di zaffiro Al2O3 piano C (0001) Dia. 2 pollici x 0,5 mm

Wafer di zaffiro Al2O3 piano C (0001) Dia. 2 pollici x 0,5 mm Descrizione

Il wafer di zaffiro Al2O3 C-plane (0001) Dia. 2 pollici x 0,5 mm è prodotto in ossido di alluminio di elevata purezza con un orientamento superficiale definito (0001), che garantisce una struttura uniforme e controllata. Il diametro di 2 pollici con uno spessore di 0,5 mm favorisce la compatibilità con le apparecchiature convenzionali per la lavorazione dei semiconduttori. L'inerzia chimica e la stabilità meccanica dell'Al2O3 rendono questo wafer adatto ad applicazioni precise che richiedono una bassa densità di difetti e prestazioni costanti.

Wafer di zaffiro Al2O3 piano C (0001) Dia. 2 pollici x 0,5 mm Applicazioni

1.Elettronica
- Utilizzato come substrato nei circuiti ad alta frequenza per ridurre la perdita di segnale sfruttando l'uniformità cristallografica controllata del wafer.
- Applicato negli array di sensori per garantire un isolamento elettrico costante sfruttando l'inerzia chimica dell'Al2O3.

2.Industriale
- Utilizzato nei gruppi di LED per gestire il calore sfruttando la conducibilità termica intrinseca del materiale.
- Utilizzato negli strumenti ottici come strato di base stabile per ridurre al minimo la dispersione della luce grazie alla sua finitura superficiale uniforme.

Wafer di zaffiro Al2O3 piano C (0001) Dia. 2 pollici x 0,5 mm Imballaggio

Il wafer è imballato in un contenitore antistatico con imbottitura in schiuma per attenuare gli impatti meccanici durante il trasporto. Viene racchiuso in una busta sigillata e a prova di polvere e mantenuto in condizioni di temperatura controllata e bassa umidità fino alla successiva lavorazione. Altre opzioni includono la sigillatura sottovuoto e inserti personalizzati a scomparti per ridurre ulteriormente i rischi di contaminazione e facilitare la manipolazione sicura durante lo stoccaggio e il trasporto.

Domande frequenti

D1: Come viene convalidata la precisione cristallografica del wafer?
A1: Per verificare l'orientamento e l'uniformità (0001) vengono utilizzate tecniche di diffrazione a raggi X ad alta risoluzione e di imaging superficiale. Questi metodi garantiscono che il wafer soddisfi le rigorose specifiche di lavorazione per le applicazioni dei semiconduttori.

D2: Quali sono le condizioni di conservazione consigliate per questo wafer?
A2: Il wafer deve essere conservato in un ambiente a temperatura stabile e a bassa umidità, utilizzando un imballaggio antistatico. Questo riduce al minimo il rischio di contaminazione e contribuisce a mantenere l'integrità strutturale e chimica del materiale.

D3: Il wafer è compatibile con gli strumenti standard di lavorazione dei semiconduttori?
A3: Con un diametro di 2 pollici e uno spessore di 0,5 mm, il wafer è generalmente compatibile con le apparecchiature convenzionali per la lavorazione dei semiconduttori. Si consiglia agli ingegneri di verificare le tolleranze delle apparecchiature per garantire una corretta integrazione.

Informazioni aggiuntive

I substrati di zaffiro, composti da Al2O3, sono ampiamente utilizzati nelle applicazioni di semiconduttori e ottiche grazie alla loro inerzia chimica e alle loro proprietà termiche. L'orientamento definito (0001) favorisce le prestazioni dei dispositivi fornendo una superficie uniforme, fondamentale per ridurre al minimo i difetti durante le fasi di lavorazione successive.

I progressi nella caratterizzazione dei materiali e nelle tecniche di lavorazione continuano a perfezionare la qualità dei wafer di zaffiro. Gli sforzi di ricerca si concentrano sul miglioramento della finitura superficiale e sulla riduzione della densità dei difetti per consentirne l'integrazione nell'elettronica di precisione e nelle tecnologie dei sensori, sostenendo così gli sviluppi in diversi settori industriali.