AL10275 Wafer di zaffiro Al2O3 (0001) Dia. 2 pollici x 0,43 mm

Wafer di zaffiro Al2O3 (0001) Dia. 2 pollici x 0,43 mm Descrizione

Il wafer di zaffiro Al2O3 (0001) Dia. 2 pollici x 0,43 mm è un substrato di ossido di alluminio prodotto con tecniche di sintesi controllata per garantire un rigoroso orientamento cristallografico (0001). Il diametro preciso di 2 pollici e lo spessore di 0,43 mm consentono la compatibilità con gli strumenti di lavorazione dei semiconduttori standard e supportano la crescita epitassiale. L'elevata uniformità strutturale riduce al minimo le variazioni di processo e supporta le applicazioni critiche di ricerca e produzione.

Wafer di zaffiro Al2O3 (0001) Dia. 2 pollici x 0,43 mm Applicazioni

Elettronica:
- Utilizzo come substrato isolante nei dispositivi a semiconduttore per ridurre la conduzione parassita sfruttando l'elevata resistenza elettrica.

Optoelettronica:
- Applicato come base per strutture LED e laser per ottenere un'emissione luminosa uniforme sfruttando la superficie atomicamente liscia del wafer.

Industriale:
- Utilizzato come piattaforma di precisione nella fabbricazione di sensori per ottenere caratteristiche di segnale uniformi sfruttando l'uniformità dimensionale.

Wafer di zaffiro Al2O3 (0001) Dia. 2 pollici x 0,43 mm Imballaggio

Il wafer è racchiuso in un supporto antistatico rivestito di schiuma all'interno di una busta sigillata con gas inerte per ridurre al minimo i danni fisici e la contaminazione da particolato. Si raccomanda di conservare il prodotto in un ambiente asciutto e a temperatura controllata per preservarne la qualità superficiale. Sono disponibili opzioni di confezionamento personalizzate, tra cui un'imbottitura aggiuntiva o materiali specifici per i contenitori, previa revisione tecnica per soddisfare requisiti di manipolazione specifici.

Domande frequenti

Q1: Quali tecniche vengono utilizzate per verificare l'orientamento cristallografico (0001)?
A1: Il wafer viene sottoposto ad analisi di diffrazione dei raggi X per confermare l'orientamento (0001) e a controlli di microscopia ottica per garantire l'uniformità della superficie. Queste tecniche aiutano a rilevare qualsiasi deviazione che potrebbe influire sull'integrazione del dispositivo.

D2: In che modo le dimensioni specificate di 2 pollici di diametro e 0,43 mm di spessore favoriscono la compatibilità di lavorazione?
A2: Il diametro standard di 2 pollici e lo spessore preciso di 0,43 mm assicurano che il wafer si adatti alle comuni apparecchiature di lavorazione dei semiconduttori, facilitando i processi di deposizione e incisione uniformi degli strati negli ambienti di produzione.

D3: È possibile personalizzare i parametri relativi allo spessore o all'orientamento dei wafer?
A3: SAM esamina i requisiti tecnici per le modifiche. Gli aggiustamenti di spessore o le piccole modifiche di orientamento possono essere valutati in base ai protocolli di produzione, offrendo soluzioni su misura se compatibili con gli standard di produzione.

Informazioni aggiuntive

L'ossido di alluminio (Al2O3) è un materiale ben studiato, noto per la sua elevata durezza, stabilità termica ed eccellenti proprietà isolanti. La sua struttura cristallina è fondamentale nelle applicazioni che richiedono resistenza alle sollecitazioni termiche e meccaniche, rendendolo una scelta comune nella fabbricazione di semiconduttori e dispositivi ottici.

I progressi nella lavorazione dei materiali hanno perfezionato la produzione di wafer di zaffiro, consentendo un controllo preciso dell'orientamento cristallografico e dello spessore. Questi progressi favoriscono l'integrazione di questi substrati nella ricerca ad alte prestazioni, nelle applicazioni industriali e nei sistemi elettronici, dove la coerenza e la precisione dimensionale sono fondamentali.