AL10274 Wafer di zaffiro Al2O3 M Plane Dia. 2 pollici x 0,5 mm

Wafer di zaffiro Al2O3 M Plane Dia. 2 pollici x 0,5 mm Descrizione

Il wafer di zaffiro Al2O3 M Plane Dia. 2 pollici x 0,5 mm è costituito da ossido di alluminio (Al2O3) trasformato in un wafer con un orientamento cristallografico definito sul piano M. Il diametro di 2 pollici e lo spessore di 0,5 mm si adattano alle apparecchiature standard per la lavorazione dei semiconduttori, garantendo compatibilità e facilità di integrazione. L'inerzia chimica e la conducibilità termica del materiale lo rendono adatto ad applicazioni in cui l'isolamento elettrico e la stabilità meccanica sono fondamentali.

Wafer di zaffiro Al2O3 M Piano Dia. 2 pollici x 0,5 mm Applicazioni

1.Applicazioni elettroniche
- Utilizzato come substrato nei dispositivi LED per ottenere un'efficiente estrazione della luce sfruttando la stabilità chimica e l'elevata conduttività termica.
- Applicato come base nei circuiti RF ad alta frequenza per migliorare l'integrità del segnale sfruttando le sue proprietà di bassa perdita dielettrica.

2.Applicazioni industriali
- Utilizzato come piattaforma isolante negli strumenti di lavorazione dei semiconduttori per mantenere la coerenza del processo grazie al suo spessore uniforme e alla sua cristallinità.
- Impiegato come supporto per la deposizione di film sottili nei dispositivi microelettronici, fornendo una superficie stabile e inerte.

3.Applicazioni di optoelettronica
- Utilizzato come materiale per finestre nei sensori ottici ad alta temperatura per garantire una chiara trasmissione del segnale, sfruttando la sua eccellente trasparenza ottica e resistenza meccanica.

Wafer di zaffiro Al2O3 M Piano Dia. 2 pollici x 0,5 mm Imballaggio

Il wafer è confezionato in un contenitore antistatico rivestito di schiuma per ridurre al minimo le sollecitazioni meccaniche e la contaminazione superficiale. È sigillato in un sacchetto con barriera antiumidità per evitare l'esposizione all'umidità atmosferica. L'imballaggio supporta la conservazione a temperatura ambiente ed è disponibile in configurazioni personalizzate per soddisfare i requisiti specifici di manipolazione in laboratorio, compresa l'etichettatura individuale e gli strati di imbottitura.

Domande frequenti

Q1: In che modo l'orientamento del piano M influisce sulle prestazioni del wafer?
A1: L'orientamento del piano M produce una superficie cristallografica specifica che migliora l'uniformità nella deposizione del film sottile. Questa caratteristica è essenziale per le applicazioni che richiedono un mismatch reticolare ridotto al minimo e una crescita precisa del film.

D2: Quali sono i metodi di controllo della qualità implementati durante la produzione?
A2: La produzione comprende l'ispezione interferometrica della superficie e il trattamento termico controllato per garantire uno spessore uniforme e una densità minima di difetti. Queste misure contribuiscono a garantire l'uniformità delle caratteristiche del materiale nei vari lotti.

D3: Come deve essere conservato il wafer per mantenerne le proprietà?
A3: Si raccomanda di conservare il wafer in un ambiente controllato e asciutto per evitare l'assorbimento di umidità. Un imballaggio antistatico e condizioni ambientali stabili aiutano a mantenere le proprietà del substrato nel tempo.

Informazioni aggiuntive

I wafer di zaffiro in Al2O3 sono ampiamente utilizzati nell'industria dei semiconduttori e dell'optoelettronica grazie alla loro eccellente conducibilità termica e alle loro proprietà dielettriche. La struttura cristallina dello zaffiro fornisce una piattaforma stabile per i processi ad alta temperatura e la deposizione di film sottili. La comprensione dell'impatto dell'orientamento cristallografico e del trattamento superficiale è fondamentale per le applicazioni ingegneristiche che richiedono precisione e durata. Le tecniche di lavorazione avanzate continuano a migliorare le prestazioni di questi substrati nei moderni processi di fabbricazione.