AL10273 Wafer di zaffiro Al2O3 (0001) 100 mm Dia. x 0,65 mm

Sapphire Wafer Al2O3 (0001) 100 mm Dia. x 0,65 mm Descrizione

Il wafer di zaffiro Al2O3 (0001) 100 mm Dia. x 0,65 mm è costituito da ossido di alluminio di elevata purezza con orientamento superficiale (0001), che garantisce un allineamento cristallografico costante. Il diametro di 100 mm e lo spessore di 0,65 mm del wafer supportano la compatibilità con le apparecchiature standard per la lavorazione dei semiconduttori. La fabbricazione controllata riduce al minimo i difetti e mantiene l'accuratezza dimensionale, rendendolo adatto ad applicazioni di substrato in dispositivi che richiedono inerzia chimica e stabilità termica.

Wafer di zaffiro Al2O3 (0001) 100 mm di diametro x 0,65 mm Applicazioni

Applicazioni elettroniche
- Utilizzato come substrato nei dispositivi a semiconduttore per ottenere un'efficiente dissipazione del calore sfruttando l'elevata conduttività termica del wafer.
- Applicato come strato isolante nei circuiti RF per controllare la distorsione del segnale sfruttando le sue proprietà dielettriche.

Applicazioni industriali
- Utilizzato come componente in gruppi di sensori per ottenere stabilità dimensionale sfruttando l'orientamento preciso (0001).
- Utilizzato nelle apparecchiature di lavorazione ad alta temperatura per mantenere l'integrità strutturale sfruttando l'inerzia chimica dell'Al2O3.

Wafer di zaffiro Al2O3 (0001) 100 mm Dia. x 0,65 mm Imballaggio

I wafer sono sigillati singolarmente in buste anti-contaminazione e prive di statica e sono inseriti in contenitori rigidi rivestiti di schiuma. I materiali di barriera all'umidità sono incorporati per prevenire la degradazione chimica. L'imballaggio è progettato per il trasporto e lo stoccaggio controllato in un ambiente a bassa umidità e temperatura regolata. Su richiesta sono disponibili soluzioni di confezionamento personalizzate, compresa la compartimentazione e requisiti specifici di etichettatura.

Domande frequenti

Q1: Come viene verificato l'orientamento (0001) in questi wafer?
A1: L'orientamento è confermato dall'analisi di diffrazione dei raggi X, che mappa accuratamente la struttura cristallografica. Questo processo garantisce che il wafer soddisfi i rigorosi criteri di allineamento richiesti per le applicazioni di substrati avanzati.

D2: Quali considerazioni sono necessarie per la manipolazione e lo stoccaggio?
A2: I wafer devono essere maneggiati in condizioni di camera bianca e conservati in un ambiente a temperatura controllata e bassa umidità. Le misure antistatiche e l'imballaggio protettivo sono essenziali per evitare la contaminazione della superficie e i danni meccanici.

D3: Questo wafer può essere utilizzato in applicazioni ad alto carico termico?
A3: Sì, l'inerzia chimica e l'efficiente conduttività termica dell'Al2O3 consentono a questo wafer di funzionare in condizioni di elevato carico termico. La produzione controllata riduce al minimo la densità dei difetti, garantendo la stabilità durante le operazioni a temperature elevate.

Informazioni aggiuntive

I wafer di zaffiro sono un materiale di substrato essenziale per la ricerca e la produzione di semiconduttori, grazie alle loro eccezionali proprietà fisiche e alla stabilità chimica. La durezza intrinseca e la conducibilità termica dell'Al2O3 facilitano la fabbricazione di dispositivi precisi e la lavorazione ad alta temperatura in diversi settori industriali. Metodi dettagliati di caratterizzazione del materiale, come la XRD e la microscopia elettronica, contribuiscono a comprendere la struttura cristallina del wafer e i limiti delle prestazioni.

Gli sviluppi più ampi nella tecnologia dei substrati hanno migliorato le tecniche di lavorazione dei wafer, migliorando la qualità della superficie e l'accuratezza dimensionale. I progressi nei metodi di deposizione e lucidatura sono fondamentali per la produzione costante di wafer di zaffiro, a sostegno di iniziative di ricerca critiche e di applicazioni industriali in campi come l'elettronica e l'optoelettronica.